公开(公告)号：CN104885233A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201480003860.9

申请日：2014-04-01

Applicant: 亚威科股份有限公司

Inventor： 都鎭永 ,  梁熙哲 ,  金石珍 ,  郑钟晔 ,  金奉哲 ,  李锡鎭 ,  郑玘英 ,  徐振祐 ,  彭盛焕 ,  韩悳宇 ,  黄在君 ,  康旻焕 ,  李仁河

IPC: H01L31/18 ,  H01L31/032

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67739 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1864 ,  Y02E10/541

Abstract: 本发明公开了一种热处理系统，其使得在整个用于热处理步骤的反应空间的均匀的温度分布和反应气体的均匀的浓度分布成为可能，也公开了一种实施热处理的方法，以及一种使用相同方法制造CIGS太阳能电池的方法，其中，所述热处理系统可以包括具有反应空间的反应室；围绕所述反应室的外部室；设置为用于打开或者关闭反应室的反应空间的门室；用于循环反应室的反应空间内部的气流的气流调节装置；其中，所述气流调节装置包括驱动轴，与所述驱动轴连接的气流抽吸单元，以及与所述气流抽吸单元连接的气流排出单元。

公开(公告)号：CN105908138B

公开(公告)日：2018-07-24

申请号：CN201610100959.1

申请日：2016-02-24

Applicant: 亚威科股份有限公司

Inventor： 尹炳汉 ,  吴芝瑛 ,  黄在君

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明涉及一种反应性溅射装置，包括：基板搬送部，搬送基板；及工序腔室，对通过所述基板搬送部搬送的基板，执行反应性溅射工序，所述工序腔室，包括：2个以上的第1阴极模块，用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜；及1个以上的第2阴极模块，用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜。

公开(公告)号：CN102086510A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN201010532693.0

申请日：2010-10-29

Applicant: 亚威科股份有限公司

Inventor： 吴芝瑛 ,  李仁河 ,  朴完雨 ,  黄在君

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明涉及一种磁石单元及包括其的喷镀装置，该磁石单元包括至少一个中央磁石和围绕该中央磁石周边的至少一个周边磁石，该中央磁石及该周边磁石中至少一个磁石在该中央磁石的长度方向或者在垂直于该长度方向的方向上往返移动。

公开(公告)号：CN104885233B

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201480003860.9

申请日：2014-04-01

Applicant: 亚威科股份有限公司

Inventor： 都鎭永 ,  梁熙哲 ,  金石珍 ,  郑钟晔 ,  金奉哲 ,  李锡鎭 ,  郑玘英 ,  徐振祐 ,  彭盛焕 ,  韩悳宇 ,  黄在君 ,  康旻焕 ,  李仁河

IPC: H01L31/18 ,  H01L31/032

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67739 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/18 ,  H01L31/1864 ,  Y02E10/541

Abstract: 本发明公开了一种热处理系统，其使得在整个用于热处理步骤的反应空间的均匀的温度分布和反应气体的均匀的浓度分布成为可能，也公开了一种实施热处理的方法，以及一种使用相同方法制造CIGS太阳能电池的方法，其中，所述热处理系统可以包括具有反应空间的反应室；围绕所述反应室的外部室；设置为用于打开或者关闭反应室的反应空间的门室；用于循环反应室的反应空间内部的气流的气流调节装置；其中，所述气流调节装置包括驱动轴，与所述驱动轴连接的气流抽吸单元，以及与所述气流抽吸单元连接的气流排出单元。

公开(公告)号：CN105908138A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201610100959.1

申请日：2016-02-24

Applicant: 亚威科股份有限公司

Inventor： 尹炳汉 ,  吴芝瑛 ,  黄在君

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56 ,  C23C14/08

CPC classification number: C23C14/0036 ,  C23C14/08 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568

Abstract: 本发明涉及一种反应性溅射装置，包括：基板搬送部，搬送基板；及工序腔室，对通过所述基板搬送部搬送的基板，执行反应性溅射工序，所述工序腔室，包括：2个以上的第1阴极模块，用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜；及1个以上的第2阴极模块，用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜。

公开(公告)号：CN102086512A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN201010532704.5

申请日：2010-10-29

Applicant: 亚威科股份有限公司

Inventor： 吴芝瑛 ,  李仁河 ,  朴完雨 ,  黄在君

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/00

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，包括：多个工作线，其分别包括设置于真空腔体与空气之间的第1预真空腔体及第2预真空腔体；泵部，用于形成该第1预真空腔体及第2预真空腔体内部的真空状态；及，平衡阀，其设置于该第1预真空腔体与第2预真空腔体之间，用于均化该第1预真空腔体与该第2预真空腔体之间的真空度，该基板处理装置可以通过缩短预真空腔体的真空形成时间来缩短整个工程时间，并可以防止在预真空腔体的真空及大气压状态转换过程中基板受损的现象。