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公开(公告)号：CN102131963B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN200980133230.2
申请日：2009-08-11
Applicant: 亚威科股份有限公司
IPC: C30B15/10
CPC classification number: C30B29/06 , C01B33/021 , C30B11/003
Abstract: 本发明关于一种用于制造锭块的设备和方法。根据本发明用于制造锭块的设备包含：坩埚，其用于容纳原材料；加热部件，其用于加热坩埚；支撑件，其用于支撑坩埚；绝热部件，其安置于加热部件的外部且与支撑件间隔开；以及可旋转的冷却部件，其安置于支撑件下方而支撑坩埚。根据本发明，旋转的冷却部件的冷却不仅传递到坩埚的下部部分，而且通过形成于绝热部件的下部部分与支撑件之间的空间传递到坩埚的侧面部分，使得熔化硅的中心和侧面部分可同时固化，进而制造具有优良晶体方向性的硅锭块。
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公开(公告)号：CN102131963A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200980133230.2
申请日：2009-08-11
Applicant: 亚威科股份有限公司
IPC: C30B15/10
CPC classification number: C30B29/06 , C01B33/021 , C30B11/003
Abstract: 本发明关于一种用于制造锭块的设备和方法。根据本发明用于制造锭块的设备包含：坩埚，其用于容纳原材料；加热部件，其用于加热坩埚；支撑件，其用于支撑坩埚；绝热部件，其安置于加热部件的外部且与支撑件间隔开；以及可旋转的冷却部件，其安置于支撑件下方而支撑坩埚。根据本发明，旋转的冷却部件的冷却不仅传递到坩埚的下部部分，而且通过形成于绝热部件的下部部分与支撑件之间的空间传递到坩埚的侧面部分，使得熔化硅的中心和侧面部分可同时固化，进而制造具有优良晶体方向性的硅锭块。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104885233B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201480003860.9
申请日：2014-04-01
Applicant: 亚威科股份有限公司
IPC: H01L31/18 , H01L31/032
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/67739 , H01L31/0322 , H01L31/18 , H01L31/1864 , Y02E10/541
Abstract: 本发明公开了一种热处理系统，其使得在整个用于热处理步骤的反应空间的均匀的温度分布和反应气体的均匀的浓度分布成为可能，也公开了一种实施热处理的方法，以及一种使用相同方法制造CIGS太阳能电池的方法，其中，所述热处理系统可以包括具有反应空间的反应室；围绕所述反应室的外部室；设置为用于打开或者关闭反应室的反应空间的门室；用于循环反应室的反应空间内部的气流的气流调节装置；其中，所述气流调节装置包括驱动轴，与所述驱动轴连接的气流抽吸单元，以及与所述气流抽吸单元连接的气流排出单元。
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公开(公告)号：CN104885233A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201480003860.9
申请日：2014-04-01
Applicant: 亚威科股份有限公司
IPC: H01L31/18 , H01L31/032
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/67739 , H01L31/0322 , H01L31/18 , H01L31/1864 , Y02E10/541
Abstract: 本发明公开了一种热处理系统，其使得在整个用于热处理步骤的反应空间的均匀的温度分布和反应气体的均匀的浓度分布成为可能，也公开了一种实施热处理的方法，以及一种使用相同方法制造CIGS太阳能电池的方法，其中，所述热处理系统可以包括具有反应空间的反应室；围绕所述反应室的外部室；设置为用于打开或者关闭反应室的反应空间的门室；用于循环反应室的反应空间内部的气流的气流调节装置；其中，所述气流调节装置包括驱动轴，与所述驱动轴连接的气流抽吸单元，以及与所述气流抽吸单元连接的气流排出单元。
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公开(公告)号：CN101801866B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200880102849.2
申请日：2008-08-14
Applicant: 亚威科股份有限公司
IPC: C03B33/00
CPC classification number: C03B33/027 , C03B33/03 , C03B33/037 , Y02P40/57
Abstract: 本发明揭示一种具有以无接触方式维持待切割物体的平坦性的功能的划线头设备，以及使用所述设备的划线方法。适合于在X轴和Y轴方向上移动的同时，依序切割所述物体的两个表面的所述划线头设备包含：第一和第二头驱动模块分别提供于所述待切割物体的上方和下方，且适合于朝所述物体移动，以便在与所述物体接触的同时，对所述物体执行切割操作；以及两对第一和第二平坦性维持模块分别提供于物体的上方和下方，且用以经由所述物体的空气浮动来维持所述物体的切割区段的平坦性。坦性维持模块包含：平坦性维持板具有安装于其中的多个喷嘴，以从物体的上部或下部侧朝物体喷射空气；以及空气供应源用以将高压空气供应到平坦性维持板中。
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公开(公告)号：CN101802661A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880106624.4
申请日：2008-06-19
Applicant: 亚威科股份有限公司
CPC classification number: G01N21/958 , G01N2021/9513
Abstract: 本发明提供一种偏光膜检查设备和方法，其中将气体垫用于输送机系统以在检查偏光的缺陷时快速传送和检查偏光膜，同时维持其平坦性。偏光膜检查设备包含：第一和第二气体对准单元，其各自包含一对用于注射气体的气体垫，所述对气体垫经垂直布置以彼此面对，使得在其间传送偏光膜；以及膜检查单元，其经配置以在将偏光膜从第一气体对准单元传送到第二气体对准单元时检查偏光膜。偏光膜检查方法包含：供应偏光膜；当所供应的偏光膜在通过均匀注射的气体平坦对准时传送所供应的偏光膜；在偏光膜被平坦对准且传送时检查偏光膜；以及在完成检查之后排出偏光膜。
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公开(公告)号：CN101801866A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880102849.2
申请日：2008-08-14
Applicant: 亚威科股份有限公司
IPC: C03B33/00
CPC classification number: C03B33/027 , C03B33/03 , C03B33/037 , Y02P40/57
Abstract: 本发明揭示一种具有以无接触方式维持待切割物体的平坦性的功能的划线头设备，以及使用所述设备的划线方法。适合于在X轴和Y轴方向上移动的同时，依序切割所述物体的两个表面的所述划线头设备包含：第一和第二头驱动模块，其分别提供于所述待切割物体的上方和下方，且适合于朝所述物体移动，以便在与所述物体接触的同时，对所述物体执行切割操作；以及第一和第二平坦性维持模块，其提供于相应的第一和第二头驱动模块的相对侧，且用以经由所述物体的空气浮动来维持所述物体的切割区段的平坦性。此配置消除了反馈控制系统中可能发生的响应速度问题，进而实现总体划线设备的管理的改进，以及由于减少的有缺陷产品而带来的生产率的增强。
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