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    处理装置、纵型热处理装置
    1.
    发明授权
    处理装置、纵型热处理装置 有权

    公开(公告)号：CN101667530B

    公开(公告)日：2013-09-04

    申请号：CN200910172117.7

    申请日：2009-09-04

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 浅利聪 ,  高桥喜一 ,  安部俊裕

    IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

    CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67766

    Abstract: 本发明提供一种处理装置、纵型热处理装置，该纵型热处理装置具有移载机构，该移载机构具有移载板，并且在该移载板的上表面载置被处理基板时，在水平保持该被处理基板的状态下使上述移载板移动。上述移载板具有沿前后方向从基端部向前端部水平延伸的悬臂支承结构。在上述移载板的上表面设有在前后方向的大致中央部与后部水平支承被处理基板的多个支承突起部。在上述移载板的前端侧不支承上述被处理基板。

    热处理装置
    2.
    发明授权
    热处理装置 有权

    公开(公告)号：CN101162686B

    公开(公告)日：2011-02-09

    申请号：CN200710152463.X

    申请日：2007-10-12

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 高桥喜一 ,  佐瀬雄一郎 ,  佐藤泉 ,  高桥清彦

    IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/22 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  C23C16/00 ,  F27B17/00

    Abstract: 本发明提供一种热处理装置，其特征在于，包括：处理容器，其下部具有炉口，并且具有用于收容被处理体且能够在减压状态下对该被处理体进行规定热处理的石英制容器主体；金属制盖体，其用于载置搭载有多个被处理体的保持件并相对于处理容器对该保持件进行搬入、搬出，同时进行炉口的关闭、开放；和环状的气密部件，其被设置在该盖体上的周缘部，用于密封与处理容器的炉口之间，其中，在所述盖体上设置有接触限制部件，该接触限制部件用于限制因处理容器内为减压状态时所述气密部件在盖体与炉口之间压坏而引起的盖体与炉口的接触。

    立式热处理装置及立式热处理装置中移载机构的控制方法
    3.
    发明公开
    立式热处理装置及立式热处理装置中移载机构的控制方法 失效

    公开(公告)号：CN101042995A

    公开(公告)日：2007-09-26

    申请号：CN200710100672.X

    申请日：2007-03-19

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 浅利聪 ,  高桥喜一 ,  小山胜彦

    IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G05B19/048 ,  F27D3/00

    CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

    Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，其特征在于，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且该保持件能够搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述控制器构成为，监视反馈到驱动移载机构的电动机的位置、速度、电流中的至少任何一个信息，通过将该信息与预先设定的正常驱动时的信息进行比较，检测移载机构冲突时的异常驱动，在检测到异常驱动时停止移载机构的驱动。

    热处理装置及朝该热处理装置输送基板的基板输送方法
    5.
    发明公开
    热处理装置及朝该热处理装置输送基板的基板输送方法 有权

    公开(公告)号：CN102903657A

    公开(公告)日：2013-01-30

    申请号：CN201210264581.0

    申请日：2012-07-27

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 高桥喜一 ,  镰田辉实 ,  及川一彻

    IPC: H01L21/677 ,  H01L21/324

    CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/14

    Abstract: 本发明的热处理装置具备：容器载置部，该容器载置部载置基板容器，该基板容器以多个基板相互隔开第一间隔重叠的方式收纳该多个基板；基板保持件，该基板保持件以多个基板隔开比第一间隔窄的第二间隔相互重叠的方式保持该多个基板；基板输送部，该基板输送部包括能够支承基板的至少两个基板支承部，并在基板保持件与基板容器之间交接多个基板，其中，至少两个基板支承部以隔开第一间隔相互重叠的方式配置，相对于基板容器共同地进退，且相对于基板保持件独立地进退；以及控制部，该控制部以在至少两个基板支承部中的下方的基板支承部支承基板时，上方的基板支承部不动作的方式控制该上方的基板支承部。

    被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统
    7.
    发明公开
    被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统 有权

    公开(公告)号：CN101414571A

    公开(公告)日：2009-04-22

    申请号：CN200810170274.X

    申请日：2008-10-20

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 菱谷克幸 ,  高桥喜一 ,  中村晴兴

    IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00

    CPC classification number: H01L21/67303 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

    Abstract: 本发明提供一种被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统。被处理体移载机构(76)可相对于具有圆环状的载置台(86)的被处理体舟(40)移载被处理体W，移载机构(76)具有在载置被处理体(W)的状态下，可前进和后退的叉主体(78)；设在叉主体(78)的前端的止挡部件(94)；具有设在叉主体(78)的基端，与被处理体(W)的周边边缘接触并向止挡部件(94)侧按压被处理体的按压部(102)的夹紧装置(96)；和可使叉主体(78)上下运动的叉升降装置(80)。当相对于被处理舟(40)移载被处理体时，控制夹紧装置(96)的按压部(102)，以使其不插入载置台(86)间的间隙中，因此即使载置台(86)间距小，夹紧装置(96)的按压部(102)也不与被处理体舟干涉。

    真空处理装置和真空处理方法
    8.
    发明授权
    真空处理装置和真空处理方法 有权

    公开(公告)号：CN104795344B

    公开(公告)日：2018-10-12

    申请号：CN201510024499.4

    申请日：2015-01-16

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 榎本忠 ,  高桥喜一 ,  田中恵一

    IPC: H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/68 ,  H01L21/677 ,  H01L21/02

    Abstract: 本发明提供真空处理装置和真空处理方法。该真空处理装置具备：基板的载置区域，其以随着旋转台的旋转进行公转的方式设置在该旋转台的一个面侧，在其周围形成有用于限制基板的位置的限制部；升降构件，其为了在外部的基板输送机构和所述旋转台之间交接基板而支承该基板并进行升降；以及排气机构，其用于在利用所述升降构件将基板载置在所述载置区域之前选择性地对该载置区域和基板之间的间隙进行排气。

    热处理装置及朝该热处理装置输送基板的基板输送方法
    9.
    发明授权
    热处理装置及朝该热处理装置输送基板的基板输送方法 有权

    公开(公告)号：CN102903657B

    公开(公告)日：2017-03-22

    申请号：CN201210264581.0

    申请日：2012-07-27

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 高桥喜一 ,  镰田辉实 ,  及川一彻

    IPC: H01L21/677 ,  H01L21/324

    CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/14

    Abstract: 本发明的热处理装置具备：容器载置部，该容器载置部载置基板容器，该基板容器以多个基板相互隔开第一间隔重叠的方式收纳该多个基板；基板保持件，该基板保持件以多个基板隔开比第一间隔窄的第二间隔相互重叠的方式保持该多个基板；基板输送部，该基板输送部包括能够支承基板的至少两个基板支承部，并在基板保持件与基板容器之间交接多个基板，其中，至少两个基板支承部以隔开第一间隔相互重叠的方式配置，相对于基板容器共同地进退，且相对于基板保持件独立地进退；以及控制部，该控制部以在至少两个基板支承部中的下方的基板支承部支承基板时，上方的基板支承部不动作的方式控制该上方的基板支承部。

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