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公开(公告)号：CN101252081B
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200810009041.1
申请日：2008-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/677 , F27B17/00 , F27B5/06 , F27D5/00 , F27D3/00
CPC classification number: F27B17/0025 , H01L21/67303 , H01L21/67757 , Y10S414/14
Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，其特征在于，具备：具有炉口的热处理炉；封闭上述热处理炉的炉口的盖体；通过保温筒载置在上述盖体上的，用于多层保持多个基板的第一和第二基板保持件；使上述盖体升降，将任何一个基板保持件搬入和搬出热处理炉内的升降机构；当一个基板保持件在上述热处理炉内时，为了移载基板，载置另一个基板保持件的保持件载置台；和在上述保持件载置台和上述保温筒之间进行各基板保持件的搬送的保持件搬送机构，其中，设置有用于以不翻到的方式把持基板保持件的保持件把持机构。
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公开(公告)号：CN101414571A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810170274.X
申请日：2008-10-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67303 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 本发明提供一种被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统。被处理体移载机构(76)可相对于具有圆环状的载置台(86)的被处理体舟(40)移载被处理体W，移载机构(76)具有在载置被处理体(W)的状态下，可前进和后退的叉主体(78)；设在叉主体(78)的前端的止挡部件(94)；具有设在叉主体(78)的基端，与被处理体(W)的周边边缘接触并向止挡部件(94)侧按压被处理体的按压部(102)的夹紧装置(96)；和可使叉主体(78)上下运动的叉升降装置(80)。当相对于被处理舟(40)移载被处理体时，控制夹紧装置(96)的按压部(102)，以使其不插入载置台(86)间的间隙中，因此即使载置台(86)间距小，夹紧装置(96)的按压部(102)也不与被处理体舟干涉。
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公开(公告)号：CN102953047B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201210295000.X
申请日：2012-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/46 , H01L21/285
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/45551 , C23C16/45578 , H01L21/02164 , H01L21/02211 , H01L21/0228
Abstract: 本发明提供成膜装置，包括：旋转台，其设于真空容器内，在其上表面上沿周向具有用于载置基板的多个基板载置区域，并且用于使该基板载置区域旋转；气体喷嘴，其以从基板载置区域的内缘延伸到外缘的方式设置，沿其长度方向形成有用于喷出气体的气体喷出口；排气口，其设于气体喷嘴的靠旋转台的旋转方向侧且比旋转台的外缘靠外侧的位置，用于排出气体；限制构件，其包括壁部，该壁部配置于气体喷嘴与排气口之间，设置为在基板载置区域载置有基板时能够供气体从该壁部与该基板之间通过的间隙从基板载置区域的内缘延伸到外缘，并且，该壁部在从基板载置区域的内缘到外缘之间的至少一部分区域将气体喷嘴与排气口之间隔开。
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公开(公告)号：CN101246815B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200810074119.8
申请日：2008-02-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种对于双舟体系统也能以简单结构防止因地震等外力导致舟体搬送机构上的舟体倒转的立式热处理装置和方法，立式热处理装置(1)包括：下部具有炉口(5a)的热处理炉(5)、封闭炉口的盖体(17)、隔着保温筒(19)载置在盖体上并多层保持多个基板(w)的基板保持件(4)、和使盖体升降从而将基板保持件相对热处理炉搬入搬出的升降机构(18)。当另一方基板保持件(4)在热处理炉中时，另一方基板保持件为了基板(w)的移载而被载置于保持件载置台上。在保持件载置台与保温筒之间，基板保持件通过保持件搬送机构被搬送。保持件搬送机构具有限制基板保持件倒转的倒转限制部件。
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公开(公告)号：CN101246815A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200810074119.8
申请日：2008-02-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种对于双舟体系统也能以简单结构防止因地震等外力导致舟体搬送机构上的舟体倒转的立式热处理装置和方法，立式热处理装置(1)包括：下部具有炉口(5a)的热处理炉(5)、封闭炉口的盖体(17)、隔着保温筒(19)载置在盖体上并多层保持多个基板(w)的基板保持件(4)、和使盖体升降从而将基板保持件相对热处理炉搬入搬出的升降机构(18)。当另一方基板保持件(4)在热处理炉中时，另一方基板保持件为了基板(w)的移载而被载置于保持件载置台上。在保持件载置台与保温筒之间，基板保持件通过保持件搬送机构被搬送。保持件搬送机构具有限制基板保持件倒转的倒转限制部件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102776491B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201210147817.2
申请日：2012-05-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/50 , C23C16/455
Abstract: 本发明提供成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空容器，按顺序向其内部多次供给第一处理气体和第二处理气体；旋转台，其具有包括基板载置区域在内的一个表面，使基板载置区域在真空容器内旋转；第一处理气体供给部，向第一区域供给第一处理气体；第二处理气体供给部，向在上述旋转台的周向上隔着分离区域与第一区域分开的第二区域供给第二处理气体；等离子体产生气体供给部，向上述真空容器内供给等离子体产生用气体；天线，其与上述旋转台的上述一个表面相对，利用电感耦合使上述等离子体产生用气体在等离子体空间内产生等离子体；法拉第屏蔽件，其接地，设在上述天线与上述等离子体空间之间，具有在与上述天线正交的方向上排列的多个狭缝。
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公开(公告)号：CN103374713A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310138572.1
申请日：2013-04-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4584 , C23C16/4401 , C23C16/46
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：真空容器；旋转台，其设于上述真空容器内，在载置圆形的基板的同时进行旋转，其中，在该旋转台的表面设有直径大于上述基板的直径的圆形的凹部，在该凹部内设有圆形的基板载置部，该基板载置部的直径小于该凹部的直径和上述基板的直径且设于比上述凹部的底部高的位置，该基板载置部的中心比上述凹部的中心向上述旋转台的外周部侧偏心；处理气体供给部，其用于对上述基板供给处理气体；以及真空排气机构，其用于对上述真空容器内进行真空排气。
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公开(公告)号：CN101728238B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN200910179979.2
申请日：2009-10-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 菱谷克幸
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/673
CPC classification number: H01L21/67772 , H01L21/67775
Abstract: 本发明提供处理装置及处理方法。该处理装置包括：搬入容纳容器的搬入区域、维持为与该搬入区域不同的气氛的移载区域、划分搬入区域和移载区域的隔离壁、形成于隔离壁上的开口部、用于开闭开口部的门、将容纳容器配置在搬入区域侧的载置部，上述容纳容器容纳有多个被处理基板，该容纳容器在上部设有凸缘部，在前表面的取出口能装卸地安装有盖。在将容纳容器载置保持于载置部上之后使其抵接于开口部，打开门及盖而将容纳容器内的被处理基板输送到移载区域侧进行处理，该处理装置设有将与开口部相抵接的容纳容器的凸缘部推压到开口部侧的推压机构。
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公开(公告)号：CN101414571B
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200810170274.X
申请日：2008-10-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67303 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , H01L21/67781 , H01L21/68707
Abstract: 本发明提供一种被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统。被处理体移载机构(76)可相对于具有圆环状的载置台(86)的被处理体舟(40)移载被处理体W，移载机构(76)具有在载置被处理体(W)的状态下，可前进和后退的叉主体(78)；设在叉主体(78)的前端的止挡部件(94)；具有设在叉主体(78)的基端，与被处理体(W)的周边边缘接触并向止挡部件(94)侧按压被处理体的按压部(102)的夹紧装置(96)；和可使叉主体(78)上下运动的叉升降装置(80)。当相对于被处理舟(40)移载被处理体时，控制夹紧装置(96)的按压部(102)，以使其不插入载置台(86)间的间隙中，因此即使载置台(86)间距小，夹紧装置(96)的按压部(102)也不与被处理体舟干涉。
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公开(公告)号：CN103374713B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201310138572.1
申请日：2013-04-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4584 , C23C16/4401 , C23C16/46
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：真空容器；旋转台，其设于上述真空容器内，在载置圆形的基板的同时进行旋转，其中，在该旋转台的表面设有直径大于上述基板的直径的圆形的凹部，在该凹部内设有圆形的基板载置部，该基板载置部的直径小于该凹部的直径和上述基板的直径且设于比上述凹部的底部高的位置，该基板载置部的中心比上述凹部的中心向上述旋转台的外周部侧偏心；处理气体供给部，其用于对上述基板供给处理气体；以及真空排气机构，其用于对上述真空容器内进行真空排气。
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