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公开(公告)号：CN101994101B
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201010250341.6
申请日：2010-08-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/50
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/402 , C23C16/45536
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，使旋转工作台旋转，使BTBAS气体吸附在晶圆（W）上，接着向晶圆（W）表面供给O3气体，使其与吸附在晶圆（W）表面的BTBAS气体发生反应而形成氧化硅膜时，在形成氧化硅膜之后，由活化气体喷射器对晶圆（W）上的氧化硅膜供给Ar气体的等离子体，在每个成膜循环都进行改性处理。
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公开(公告)号：CN101660138B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN200910169417.X
申请日：2009-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/452 , C23C16/455 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32559 , C23C16/452 , C23C16/45517 , C23C16/45536 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/45565 , C23C16/45578 , C23C16/4584 , C23C16/50 , C23C16/505 , C23C16/509 , C23C16/5093 , H01J1/00 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明提供一种活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法。该活化气体注入装置被划分成气体活化室、气体导入室，包括：将这些空间互相连通的流路形成构件；用于将处理气体导入到气体导入室的气体导入件；在气体活化室内互相并列延伸地设置、施加用于使处理气体活化的电力的一对电极，为了将被活化的气体喷出到气体活化室内而沿着电极的长度方向设置的气体喷出口。
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公开(公告)号：CN102953047B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201210295000.X
申请日：2012-08-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/46 , H01L21/285
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/45551 , C23C16/45578 , H01L21/02164 , H01L21/02211 , H01L21/0228
Abstract: 本发明提供成膜装置，包括：旋转台，其设于真空容器内，在其上表面上沿周向具有用于载置基板的多个基板载置区域，并且用于使该基板载置区域旋转；气体喷嘴，其以从基板载置区域的内缘延伸到外缘的方式设置，沿其长度方向形成有用于喷出气体的气体喷出口；排气口，其设于气体喷嘴的靠旋转台的旋转方向侧且比旋转台的外缘靠外侧的位置，用于排出气体；限制构件，其包括壁部，该壁部配置于气体喷嘴与排气口之间，设置为在基板载置区域载置有基板时能够供气体从该壁部与该基板之间通过的间隙从基板载置区域的内缘延伸到外缘，并且，该壁部在从基板载置区域的内缘到外缘之间的至少一部分区域将气体喷嘴与排气口之间隔开。
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公开(公告)号：CN102787304A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210155103.6
申请日：2012-05-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/50 , C23C16/455 , H01L21/31
Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。成膜方法包括以下步骤：将基板输入到真空容器内，将基板载置在能旋转地设在真空容器内的旋转台上；使旋转台旋转；吸附步骤，自第1反应气体供给部向基板供给第1反应气体，使第1反应气体吸附于基板；形成步骤，自第2反应气体供给部向基板供给与第1反应气体反应的第2反应气体，使第2反应气体与吸附于基板的第1反应气体反应，在基板上形成反应生成物；向等离子体产生部供给含氢气体，在旋转台的上方生成等离子体，该等离子体产生部在旋转台的周向上与第1反应气体供给部及第2反应气体供给部分开地设置。
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公开(公告)号：CN102978586B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210326691.5
申请日：2012-09-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50
CPC classification number: C23C16/45542 , C23C16/345 , C23C16/45551 , H01J37/321 , H01J37/32733
Abstract: 本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该成膜装置在旋转台的旋转方向上将两个等离子体产生部互相分开设置，并且在该等离子体产生部与晶圆之间分别配置法拉第屏蔽。而且，在各个法拉第屏蔽上设有沿与各个等离子体产生部中的天线正交方向上延伸的狭缝，对于在各个天线中产生的电场磁场中的电界进行屏蔽，另一方面使磁场向晶圆侧通过。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102953052A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210307203.6
申请日：2012-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/505 , C23C16/455 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC classification number: H01L21/02164 , C23C16/4554 , C23C16/45548 , C23C16/4585 , C23C16/4586 , H01J37/321 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H01L21/0228 , H01L21/0234
Abstract: 本发明提供一种成膜装置、基板处理装置及等离子体产生装置。基板处理装置包括：真空容器，其用于容纳基板；载置台；等离子体产生气体供给部；天线，其用于利用电感耦合来使等离子体产生用气体等离子体化，绕纵向的轴线卷绕而成；法拉第屏蔽件，其用于阻止在天线的周围产生的电磁场中的电场成分通过，由接地的导电性的板状体构成，法拉第屏蔽件包括：狭缝组，其用于使电磁场中的磁场成分通过而到达基板侧；窗部，其在板状体的被狭缝组包围的区域开口，用于确认等离子体的发光状态，在窗部与狭缝组之间，以该窗部与狭缝不连通的方式设有包围窗部的、接地的导电通路，在狭缝组的与窗部侧相反的一侧的端部，以包围该狭缝组的方式设有接地的导电通路。
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公开(公告)号：CN102110572A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN201010621809.8
申请日：2010-12-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68764 , C23C16/45519 , C23C16/4554 , C23C16/45551 , C23C16/45578 , C23C16/45591 , C23C16/4584 , C23C16/509 , H01J37/32082 , H01J37/32733 , H01J37/32752 , H01L21/68771
Abstract: 本发明提供利用等离子体对基板进行处理的等离子处理装置，其特征在于，包括：真空容器，在其内部利用上述等离子体对上述基板进行处理；旋转台，设于上述真空容器内，形成用于载置基板的至少1个基板载置区域；旋转机构，使该旋转台旋转；气体供给部，向上述基板载置区域供给等离子体产生用的气体；主等离子体产生部，在与上述基板载置区域的通过区域相对的位置的、上述旋转台的中央部侧和外周侧之间呈棒状延伸地设置，用于向上述气体供给能量而使其等离子化；辅助等离子体产生部，在上述真空容器的周向上相对于该主等离子体产生部分开地设置，用于补偿由该主等离子体产生部产生的等离子体的不足的部分；真空排气部件，将上述真空容器内排成真空。
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公开(公告)号：CN102776491B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201210147817.2
申请日：2012-05-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/50 , C23C16/455
Abstract: 本发明提供成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空容器，按顺序向其内部多次供给第一处理气体和第二处理气体；旋转台，其具有包括基板载置区域在内的一个表面，使基板载置区域在真空容器内旋转；第一处理气体供给部，向第一区域供给第一处理气体；第二处理气体供给部，向在上述旋转台的周向上隔着分离区域与第一区域分开的第二区域供给第二处理气体；等离子体产生气体供给部，向上述真空容器内供给等离子体产生用气体；天线，其与上述旋转台的上述一个表面相对，利用电感耦合使上述等离子体产生用气体在等离子体空间内产生等离子体；法拉第屏蔽件，其接地，设在上述天线与上述等离子体空间之间，具有在与上述天线正交的方向上排列的多个狭缝。
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公开(公告)号：CN102787304B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201210155103.6
申请日：2012-05-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/50 , C23C16/455 , H01L21/31
Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。成膜方法包括以下步骤：将基板输入到真空容器内，将基板载置在能旋转地设在真空容器内的旋转台上；使旋转台旋转；吸附步骤，自第1反应气体供给部向基板供给第1反应气体，使第1反应气体吸附于基板；形成步骤，自第2反应气体供给部向基板供给与第1反应气体反应的第2反应气体，使第2反应气体与吸附于基板的第1反应气体反应，在基板上形成反应生成物；向等离子体产生部供给含氢气体，在旋转台的上方生成等离子体，该等离子体产生部在旋转台的周向上与第1反应气体供给部及第2反应气体供给部分开地设置。
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公开(公告)号：CN103088319A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310016980.X
申请日：2009-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/452
CPC classification number: H01J37/32559 , C23C16/452 , C23C16/45517 , C23C16/45536 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/45565 , C23C16/45578 , C23C16/4584 , C23C16/50 , C23C16/505 , C23C16/509 , C23C16/5093 , H01J1/00 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明提供一种活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法。该活化气体注入装置被划分成气体活化室、气体导入室，包括：将这些空间互相连通的流路形成构件；用于将处理气体导入到气体导入室的气体导入件；在气体活化室内互相并列延伸地设置、施加用于使处理气体活化的电力的一对电极，为了将被活化的气体喷出到气体活化室内而沿着电极的长度方向设置的气体喷出口。
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