发明授权
- 专利标题： 活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法
- 专利标题（英）： Activated gas injector, film deposition apparatus, and film deposition method
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申请号： CN200910169417.X申请日： 2009-08-31
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公开(公告)号： CN101660138B公开(公告)日： 2014-01-15
- 发明人: 加藤寿 , 竹内靖 , 牛窪繁博 , 菊地宏之
- 申请人： 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权： 2008-222740 2008.08.29 JP; 2009-172948 2009.07.24 JP; 2009-061605 2009.03.13 JP
- 主分类号： C23C16/452
- IPC分类号： C23C16/452 ; C23C16/455 ; H01L21/205
摘要：
本发明提供一种活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法。该活化气体注入装置被划分成气体活化室、气体导入室，包括：将这些空间互相连通的流路形成构件；用于将处理气体导入到气体导入室的气体导入件；在气体活化室内互相并列延伸地设置、施加用于使处理气体活化的电力的一对电极，为了将被活化的气体喷出到气体活化室内而沿着电极的长度方向设置的气体喷出口。
公开/授权文献
- CN101660138A 活化气体注入装置、成膜装置和成膜方法 公开/授权日：2010-03-03
IPC分类:
