-
公开(公告)号：CN108695208A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810292833.8
申请日：2018-03-30
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67086 , H01L21/67051 , H01L21/67057
摘要： 本发明提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。
-
公开(公告)号：CN111312619A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/311
摘要： 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
-
公开(公告)号：CN108695208B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201810292833.8
申请日：2018-03-30
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。
-
公开(公告)号：CN109494175A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811057819.6
申请日：2018-09-11
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/67086 , G05B19/41835 , G05B2219/45031 , H01L21/67057 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L21/67017 , H01L22/20
摘要： 本发明提供一种能够恰当地进行处理液的浓度变更的基板液处理装置和存储介质。基板液处理装置(A1)具备：处理液贮存部(38)，其贮存处理液；处理液排出部(41)，其将处理液从处理液贮存部(38)排出；以及控制部(7)，其控制处理液排出部(41)，控制部(7)执行将处理液贮存部(38)的处理液的浓度调整为规定的设定浓度的浓度固定模式中的第一控制以及变更处理液贮存部(38)的处理液的浓度的浓度变更模式中的第二控制，在第二控制中，所述控制部比较浓度变更前的设定浓度与浓度变更后的设定浓度，在浓度变更后的设定浓度比浓度变更前的设定浓度低的情况下，所述控制部控制处理液排出部(41)，以开始处理液的排出。
-
公开(公告)号：CN111312619B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/311
摘要： 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
-
公开(公告)号：CN109494175B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201811057819.6
申请日：2018-09-11
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种能够恰当地进行处理液的浓度变更的基板液处理装置和存储介质。基板液处理装置(A1)具备：处理液贮存部(38)，其贮存处理液；处理液排出部(41)，其将处理液从处理液贮存部(38)排出；以及控制部(7)，其控制处理液排出部(41)，控制部(7)执行将处理液贮存部(38)的处理液的浓度调整为规定的设定浓度的浓度固定模式中的第一控制以及变更处理液贮存部(38)的处理液的浓度的浓度变更模式中的第二控制，在第二控制中，所述控制部比较浓度变更前的设定浓度与浓度变更后的设定浓度，在浓度变更后的设定浓度比浓度变更前的设定浓度低的情况下，所述控制部控制处理液排出部(41)，以开始处理液的排出。
-
公开(公告)号：CN112687577A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011078492.8
申请日：2020-10-10
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供在进行批处理的基片处理装置中，能够抑制排液管路的堵塞的基片处理装置和装置清洗方法。本发明的基片处理装置包括：处理槽、承液部、承液部排出管、贮存部、第一液供给管、第二液供给管、释放管、第一液流量调节部和第二液流量调节部。承液部承接从处理槽洒出的处理液。承液部排出管从承液部排出处理液。第一液供给管供给清洗液的第一液，该清洗液含有第一液和第二液，用于除去来自处理液的析出物。第二液供给管供给第二液。释放管与第一液供给管和第二液供给管连接，向承液部释放清洗液、第一液或第二液。第一液流量调节部设置于第一液供给管，调节在第一液供给管中流动的第一液的流量。第二液流量调节部设置于第二液供给管，调节在第二液供给管中流动的第二液的流量。
-
公开(公告)号：CN112687576A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011077702.1
申请日：2020-10-10
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基片处理装置，其包括处理槽、贮存部、承液部、贮存部排出管和承液部排出管。处理槽能够收纳多个基片且贮存处理液。贮存部与处理槽连接，贮存从处理槽排出的处理液。承液部承接从处理槽洒出的处理液。贮存部排出管将贮存于贮存部中的液体排出。承液部排出管将由承液部承接的液体向设置于外部的外部排出管排出。根据本发明，在进行批处理的基片处理装置中，能够抑制排液线路的堵塞。
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
8 条记录 (耗时 0.029 秒)
