公开(公告)号：CN110858556B

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN201910783102.8

申请日：2019-08-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉田博司 ,  石井佑树

IPC: H01L21/67

Abstract: 本公开涉及基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质，提供一种能够高精度地进行处理液内的特定的成分的浓度变更的技术。基板液处理装置具有贮存处理液的处理槽、对处理槽供给处理液的处理液供给部、从处理槽排出处理液的处理液排出部和控制处理液供给部和处理液排出部的控制部，控制部基于对处理槽中贮存的处理液中的特定成分的浓度进行变更的指示，来基于与特定成分的当前的浓度有关的信息、与处理槽中贮存的处理液中的每单位时间的特定成分的浓度上升量有关的信息和与指示所表示的变更后的特定成分的浓度有关的信息，计算从处理槽排出的处理液的排出量和向处理槽供给的处理液的供给量，基于该计算结果来控制处理液供给部和处理液排出部。

公开(公告)号：CN110858556A

公开(公告)日：2020-03-03

申请号：CN201910783102.8

申请日：2019-08-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉田博司 ,  石井佑树

IPC: H01L21/67

Abstract: 本公开涉及基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质，提供一种能够高精度地进行处理液内的特定的成分的浓度变更的技术。基板液处理装置具有贮存处理液的处理槽、对处理槽供给处理液的处理液供给部、从处理槽排出处理液的处理液排出部和控制处理液供给部和处理液排出部的控制部，控制部基于对处理槽中贮存的处理液中的特定成分的浓度进行变更的指示，来基于与特定成分的当前的浓度有关的信息、与处理槽中贮存的处理液中的每单位时间的特定成分的浓度上升量有关的信息和与指示所表示的变更后的特定成分的浓度有关的信息，计算从处理槽排出的处理液的排出量和向处理槽供给的处理液的供给量，基于该计算结果来控制处理液供给部和处理液排出部。

公开(公告)号：CN108695208A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810292833.8

申请日：2018-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 益富裕之 ,  山下浩司 ,  荒竹英将 ,  田中幸二 ,  土屋孝文 ,  佐藤秀明 ,  石井佑树 ,  稻田尊士

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: 本发明提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。

公开(公告)号：CN109494152B

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN201811055905.3

申请日：2018-09-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 土屋孝文 ,  石井佑树 ,  益富裕之 ,  藤津成吾

IPC: H01L21/302

Abstract: 本发明提供一种对于抑制结晶的产生或去除结晶有效的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。基板液处理装置具备：处理槽，其收容处理液和基板；气体喷嘴，其在处理槽内的下部喷出气体；气体供给部，其供给气体；气体供给线，其将气体喷嘴和气体供给部连接；减压部，其通过使气体供给线减压来向气体供给线引入处理槽内的处理液；以及控制部，其构成为在处理槽中没有收容基板的空闲期间的一部分期间执行如下的第一控制：控制气体供给部以停止气体的供给，并且控制减压部以向气体供给线引入处理液。

公开(公告)号：CN108695208B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN201810292833.8

申请日：2018-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 益富裕之 ,  山下浩司 ,  荒竹英将 ,  田中幸二 ,  土屋孝文 ,  佐藤秀明 ,  石井佑树 ,  稻田尊士

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。

公开(公告)号：CN109494152A

公开(公告)日：2019-03-19

申请号：CN201811055905.3

申请日：2018-09-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 土屋孝文 ,  石井佑树 ,  益富裕之 ,  藤津成吾

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/302

Abstract: 本发明提供一种对于抑制结晶的产生或去除结晶有效的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。基板液处理装置具备：处理槽，其收容处理液和基板；气体喷嘴，其在处理槽内的下部喷出气体；气体供给部，其供给气体；气体供给线，其将气体喷嘴和气体供给部连接；减压部，其通过使气体供给线减压来向气体供给线引入处理槽内的处理液；以及控制部，其构成为在处理槽中没有收容基板的空闲期间的一部分期间执行如下的第一控制：控制气体供给部以停止气体的供给，并且控制减压部以向气体供给线引入处理液。