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公开(公告)号：CN108695208A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810292833.8
申请日：2018-03-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67086 , H01L21/67051 , H01L21/67057
Abstract: 本发明提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。
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公开(公告)号：CN101814420B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910207402.8
申请日：2009-10-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/673
CPC classification number: H01L21/67775 , H01L21/67727 , H01L21/67733 , H01L21/67736 , H01L21/67769 , H01L21/67778 , H01L21/687 , H01L2221/68368 , Y10S414/14
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括载置有收容了多枚基板的输送容器的装载部、以及保管输送容器的容器保管部，其中，能够谋求增大输送容器在装载部中的交接次数，由此，能够以较高的生产率处理基板。该基板处理装置利用分别沿着横向位置互不相同的第1输送通路(102A)及第2输送通路(102B)输送收容了多枚基板的输送容器(10)的第1输送装置(104A)及第2输送装置(104B)，包括：第1装载部(21)，利用第1输送装置(104A)交接输送容器(10)；第2装载部(22)，其呈台阶状设置于该第1装载部(21)上，利用第2输送装置(104B)交接输送容器(10)。
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公开(公告)号：CN109494175B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201811057819.6
申请日：2018-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够恰当地进行处理液的浓度变更的基板液处理装置和存储介质。基板液处理装置(A1)具备：处理液贮存部(38)，其贮存处理液；处理液排出部(41)，其将处理液从处理液贮存部(38)排出；以及控制部(7)，其控制处理液排出部(41)，控制部(7)执行将处理液贮存部(38)的处理液的浓度调整为规定的设定浓度的浓度固定模式中的第一控制以及变更处理液贮存部(38)的处理液的浓度的浓度变更模式中的第二控制，在第二控制中，所述控制部比较浓度变更前的设定浓度与浓度变更后的设定浓度，在浓度变更后的设定浓度比浓度变更前的设定浓度低的情况下，所述控制部控制处理液排出部(41)，以开始处理液的排出。
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公开(公告)号：CN101814420A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200910207402.8
申请日：2009-10-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/673
CPC classification number: H01L21/67775 , H01L21/67727 , H01L21/67733 , H01L21/67736 , H01L21/67769 , H01L21/67778 , H01L21/687 , H01L2221/68368 , Y10S414/14
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括载置有收容了多枚基板的输送容器的装载部、以及保管输送容器的容器保管部，其中，能够谋求增大输送容器在装载部中的交接次数，由此，能够以较高的生产率处理基板。该基板处理装置利用分别沿着横向位置互不相同的第1输送通路(102A)及第2输送通路(102B)输送收容了多枚基板的输送容器(10)的第1输送装置(104A)及第2输送装置(104B)，包括：第1装载部(21)，利用第1输送装置(104A)交接输送容器(10)；第2装载部(22)，其呈台阶状设置于该第1装载部(21)上，利用第2输送装置(104B)交接输送容器(10)。
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公开(公告)号：CN114651318B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202080079771.8
申请日：2020-11-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 土屋孝文
IPC: H01L21/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明的控制装置(200)包括获取部(210)、选择部(213)、计算部(215)和设定部(216)。获取部(210)从多个基片处理装置(100)获取基片处理装置(100)对基片的处理计划。选择部(213)基于多个基片处理装置(100)的优先级，选择预定要对新的基片开始执行处理计划的预定开始基片处理装置(100)。计算部(215)计算处理已开始的处理计划使用的资源与预定开始基片处理装置(100)中将要开始执行的处理计划即预定开始处理计划要使用的资源的合计值。设定部(216)在合计值大于规定的上限值的情况下，设定预定开始处理计划的开始时机，以使得合计值成为规定的上限值以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114651318A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202080079771.8
申请日：2020-11-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 土屋孝文
IPC: H01L21/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明的控制装置(200)包括获取部(210)、选择部(213)、计算部(215)和设定部(216)。获取部(210)从多个基片处理装置(100)获取基片处理装置(100)对基片的处理计划。选择部(213)基于多个基片处理装置(100)的优先级，选择预定要对新的基片开始执行处理计划的预定开始基片处理装置(100)。计算部(215)计算处理已开始的处理计划使用的资源与预定开始基片处理装置(100)中将要开始执行的处理计划即预定开始处理计划要使用的资源的合计值。设定部(216)在合计值大于规定的上限值的情况下，设定预定开始处理计划的开始时机，以使得合计值成为规定的上限值以下。
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公开(公告)号：CN109494152B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201811055905.3
申请日：2018-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302
Abstract: 本发明提供一种对于抑制结晶的产生或去除结晶有效的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。基板液处理装置具备：处理槽，其收容处理液和基板；气体喷嘴，其在处理槽内的下部喷出气体；气体供给部，其供给气体；气体供给线，其将气体喷嘴和气体供给部连接；减压部，其通过使气体供给线减压来向气体供给线引入处理槽内的处理液；以及控制部，其构成为在处理槽中没有收容基板的空闲期间的一部分期间执行如下的第一控制：控制气体供给部以停止气体的供给，并且控制减压部以向气体供给线引入处理液。
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公开(公告)号：CN116631896A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310097806.6
申请日：2023-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供能够并行地实施包含批次处理及单片处理的复合处理、和单片处理的基片处理系统、基片处理方法和存储介质。本发明的一个方式的基片处理系统包括：送入送出部，其送入送出收纳多个基片的盒；批次处理部，其对包含多个基片的基片组一并进行处理；单片处理部，其对基片逐一地进行处理；第一接口部，其将盒所收纳的基片在单片处理部与批次处理部之间进行分配；和第二接口部，其在批次处理部与单片处理部之间交接基片，第一接口部包括：第一载置部，其载置由单片处理部进行处理前后的基片；第二载置部，其载置由批次处理部进行处理前的基片；以及输送装置，其将盒所收纳的基片输送到第一载置部和第二载置部。
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公开(公告)号：CN108695208B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201810292833.8
申请日：2018-03-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。
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公开(公告)号：CN109494175A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811057819.6
申请日：2018-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67086 , G05B19/41835 , G05B2219/45031 , H01L21/67057 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L21/67017 , H01L22/20
Abstract: 本发明提供一种能够恰当地进行处理液的浓度变更的基板液处理装置和存储介质。基板液处理装置(A1)具备：处理液贮存部(38)，其贮存处理液；处理液排出部(41)，其将处理液从处理液贮存部(38)排出；以及控制部(7)，其控制处理液排出部(41)，控制部(7)执行将处理液贮存部(38)的处理液的浓度调整为规定的设定浓度的浓度固定模式中的第一控制以及变更处理液贮存部(38)的处理液的浓度的浓度变更模式中的第二控制，在第二控制中，所述控制部比较浓度变更前的设定浓度与浓度变更后的设定浓度，在浓度变更后的设定浓度比浓度变更前的设定浓度低的情况下，所述控制部控制处理液排出部(41)，以开始处理液的排出。
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