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公开(公告)号：CN102479736A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201110396126.1
申请日：2011-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/6719 , H01L21/67259 , H01L21/681 , H01L21/68707
Abstract: 本发明提供基板处理系统及基板处理方法。其抑制涂敷膜的向输送臂的附着并且适当地处理基板。涂敷显影处理系统(1)包括：用于调节晶圆(W)的中心位置的位置调节装置(42)；用于在晶圆上涂敷聚酰亚胺溶液的涂敷处理装置；用于输送晶圆的晶圆输送装置(80)。晶圆输送装置包括：以比晶圆的半径大的曲率半径沿着晶圆的周缘部弯曲的臂部；自臂部向内侧突出并用于保持晶圆的背面的保持部。位置调节装置包括：保持晶圆的背面的中心部的吸盘；对被保持于吸盘的晶圆的中心位置进行检测的位置检测部；使吸盘移动的移动机构；控制部，其根据位置检测部所检测到的检测结果控制移动机构，以使被保持于吸盘的晶圆的中心位置与臂部的中心位置对齐。
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公开(公告)号：CN111550396A
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN202010080475.1
申请日：2020-02-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: F04B53/00 , F04B43/10 , F04B43/113
Abstract: 本发明提供一种管体和泵装置。使管体的寿命提高。该管体被使用于供液构件，是能够利用加压而变形的空心的管体，其中，所述管体的轴向截面具有彼此相对的两个长边部和彼此相对的两个短边部，各所述长边部与各所述短边部所形成的、4个角部分具有向外侧凸出地弯曲而成的形状，各所述长边部具有与所述角部分连续的向内侧凹陷而成的凹部，各所述短边部的除了所述角部分以外的部分是平坦形状。
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公开(公告)号：CN119742246A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411300884.2
申请日：2024-09-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置和监视方法。根据情况而以适合的方式监视多个喷嘴的状态。液处理装置具备：多个载物台，其分别载置基板；多个喷嘴，其共用于该多个载物台，用于向所述基板供给处理液；照相机，其共用于该多个喷嘴，用于监视该多个喷嘴的状态；以及拍摄条件变更部，其根据监视条件而变更所述照相机的拍摄条件。
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公开(公告)号：CN107808833B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201710805006.X
申请日：2017-09-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
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公开(公告)号：CN111550396B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202010080475.1
申请日：2020-02-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: F04B53/00 , F04B43/10 , F04B43/113
Abstract: 本发明提供一种管体和泵装置。使管体的寿命提高。该管体被使用于供液构件，是能够利用加压而变形的空心的管体，其中，所述管体的轴向截面具有彼此相对的两个长边部和彼此相对的两个短边部，各所述长边部与各所述短边部所形成的、4个角部分具有向外侧凸出地弯曲而成的形状，各所述长边部具有与所述角部分连续的向内侧凹陷而成的凹部，各所述短边部的除了所述角部分以外的部分是平坦形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112241109A
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202010662689.X
申请日：2020-07-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质，对于减少向基板喷出的处理液中的微粒是有用的。本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备：喷出部，其具有向基板喷出处理液的喷嘴；送液部，其向喷出部输送处理液；补充部，其向送液部补充用于向喷出部输送的处理液；连接部，其具有将补充部与送液部之间进行开闭的切换阀；过滤器，其将从补充部向送液部补充的处理液中包含的异物去除；补充准备部，其使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小，之后打开所述切换阀；以及补充控制部，其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的情况下，使补充部开始向送液部补充处理液。
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公开(公告)号：CN105545713B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201510691124.3
申请日：2015-10-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供抑制液体的滞留的泵(100)，其包括：具有弹性的、用于流通输送对象的液体的管(102)；管用壳体(104)，覆盖管(102)的外侧，在该管用壳体与管(102)的外表面之间的内部空间(V)中保持气体；和进行向内部空间(V)供给气体和从所述内部空间(V)排出气体的动作的电动气动调节器(RE)。
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公开(公告)号：CN107808833A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201710805006.X
申请日：2017-09-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B01D29/606 , B01D35/02 , B01D37/046 , B01D2201/20 , F04B43/02 , F04B53/10 , F04B53/20 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
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公开(公告)号：CN105545713A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201510691124.3
申请日：2015-10-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供抑制液体的滞留的泵(100)，其包括：具有弹性的、用于流通输送对象的液体的管(102)；管用壳体(104)，覆盖管(102)的外侧，在该管用壳体与管(102)的外表面之间的内部空间(V)中保持气体；和进行向内部空间(V)供给气体和从所述内部空间(V)排出气体的动作的电动气动调节器(RE)。
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公开(公告)号：CN102479736B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201110396126.1
申请日：2011-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/6719 , H01L21/67259 , H01L21/681 , H01L21/68707
Abstract: 本发明提供基板处理系统及基板处理方法。其抑制涂敷膜的向输送臂的附着并且适当地处理基板。涂敷显影处理系统(1)包括：用于调节晶圆(W)的中心位置的位置调节装置(42)；用于在晶圆上涂敷聚酰亚胺溶液的涂敷处理装置；用于输送晶圆的晶圆输送装置(80)。晶圆输送装置包括：以比晶圆的半径大的曲率半径沿着晶圆的周缘部弯曲的臂部；自臂部向内侧突出并用于保持晶圆的背面的保持部。位置调节装置包括：保持晶圆的背面的中心部的吸盘；对被保持于吸盘的晶圆的中心位置进行检测的位置检测部；使吸盘移动的移动机构；控制部，其根据位置检测部所检测到的检测结果控制移动机构，以使被保持于吸盘的晶圆的中心位置与臂部的中心位置对齐。
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