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公开(公告)号：CN111433888B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN201880078002.9
申请日：2018-12-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C5/00 , B05C11/00 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供液供给装置和液供给方法。液供给装置对处理液释放部供给处理液，该处理液释放部向被处理体释放处理液，该液供给装置包括：与处理液释放部连接的供给管路；插入于供给管路的过滤处理液以除去异物的过滤器；和控制部，其构成为能够判断向过滤器的一次侧供给的处理液的状态，并且在判断为处理液的状态不良时，输出限制向过滤器的一次侧供给该处理液的控制信号。
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公开(公告)号：CN111589218B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202010084368.6
申请日：2020-02-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B01D36/00 , B01D19/00 , B01D61/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种过滤器的润湿方法，该过滤器设置于处理液供给装置中，用于去除处理液中的杂质，处理液供给装置包括：暂时贮存处理液的暂时贮存部；和将处理液送出到处理液释放部的泵，暂时贮存部由挠性部件分隔为贮存处理液的贮存室和位于贮存室外侧的工作流体室，根据工作流体室内的压力变化来调节贮存室内的压力，从而对贮存室补充处理液或者从该贮存室压送出处理液，该润湿方法包括：脱气步骤，在将暂时贮存部与过滤器之间的管路关闭了的状态下，使暂时贮存部的贮存室内成为负压，对该贮存室内的处理液进行脱气；和使脱气后的处理液即脱气液通过过滤器中的过液步骤。由此，能够在过滤器润湿时防止溶存于处理液的气泡在过滤器内发泡。
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公开(公告)号：CN106024579B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201610195709.0
申请日：2016-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , B05C11/10 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种处理液供给方法，可读取的计算机存储介质和处理液供给装置，其通过从过滤器除去微小气泡，抑制过滤器的性能下降。该处理液供给方法向晶片上供给作为处理液的稀释剂，其包括：利用脱气机构对稀释剂进行脱气处理而生成脱气稀释剂的脱气处理液生成步骤；将脱气稀释剂贮存在泵(P1)的贮存室(210)内的处理液贮存步骤；使经由稀释剂供给管(200)与贮存室的下游侧连接的过滤器(201)的下游侧相对于泵的贮存室内的压力成为负压，从而使贮存室内的脱气稀释剂通过过滤器的过滤器通液步骤；和停止从泵的贮存室向过滤器供给稀释剂后，将过滤器的下游侧为负压的状态维持规定的时间的负压维持步骤。
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公开(公告)号：CN107808833B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201710805006.X
申请日：2017-09-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
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公开(公告)号：CN112041968A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201980024973.X
申请日：2019-04-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 【技术问题】在对被处理体供给药液来进行处理时，防止在处理中产生异常，或者检测药液流路中的含有聚合物的药液相对于其他药液是否为希望的比例。【技术手段】本发明的装置包括：含有聚合物的药液所流动的药液流路；对所述药液流路照射激光的激光照射部；接收从所述药液流路供给来的光的受光元件；和检测部，其基于从所述受光元件输出的信号，检测所述药液所含的聚合物中的过半数存在的聚合物的状态异常，或者检测所述药液流路中的含有该聚合物的药液与其他药液的比例。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106024579A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610195709.0
申请日：2016-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , B05C11/10 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种处理液供给方法，可读取的计算机存储介质和处理液供给装置，其通过从过滤器除去微小气泡，抑制过滤器的性能下降。该处理液供给方法向晶片上供给作为处理液的稀释剂，其包括：利用脱气机构对稀释剂进行脱气处理而生成脱气稀释剂的脱气处理液生成步骤；将脱气稀释剂贮存在泵(P1)的贮存室(210)内的处理液贮存步骤；使经由稀释剂供给管(200)与贮存室的下游侧连接的过滤器(201)的下游侧相对于泵的贮存室内的压力成为负压，从而使贮存室内的脱气稀释剂通过过滤器的过滤器通液步骤；和停止从泵的贮存室向过滤器供给稀释剂后，将过滤器的下游侧为负压的状态维持规定的时间的负压维持步骤。
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公开(公告)号：CN111868882A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980018697.6
申请日：2019-03-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/00 , B05C11/10 , B05D1/26 , B05D3/00
Abstract: 本发明提供一种能够抑制异物混入要供给到基片的处理液中的液处理装置。装置构成为，包括：将从处理液供给源(23)供给的用于处理基片的处理液释放到该基片的喷嘴(22)；将上述处理液供给源(23)和上述喷嘴(22)连接的主流路；设置于上述主流路的过滤器(26)；从上述主流路分支的分支管路(41A)；设置于上述分支管路(41A)的端部的泵(42)；和控制部(10)，其输出控制信号以进行第一步骤和接着的第二步骤，其中，上述第一步骤用上述泵(42)进行吸液以使得从上述处理液供给源(23)供给来的上述处理液流入上述分支管路(41A)，上述第二步骤从上述泵(42)向上述分支管路(41A)释放比该分支管路(41A)的容量少的量的该处理液以从上述喷嘴(22)释放上述处理液。
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公开(公告)号：CN100380584C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200380107576.8
申请日：2003-12-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 志手英男
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , H01L21/67017
Abstract: 抗蚀剂涂布处理单元(COT)具备：保持被供给抗蚀剂液的晶片的旋转盘(41)、和收容旋转盘(41)从底部排出晶片(W)周围的气氛的处理杯(50)。处理杯(50)包括具有外周壁(61a)的第一杯(51)和在第一杯(51)的内侧接近于晶片(W)围着晶片(W)配置的气流控制部件(52)。气流控制部件(52)具有由断面大致三角形且上凸的上环部件(62a)与断面大致三角形且下凸的下环部件(62b)所构成的断面大致四边形的形状，在外周壁(61a)与气流控制部件(52)之间实质上形成用来排出晶片(W)周围的气氛的排气流路(55)。
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公开(公告)号：CN1732555A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN200380107576.8
申请日：2003-12-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 志手英男
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , H01L21/67017
Abstract: 抗蚀剂涂布处理单元(COT)具备：保持被供给抗蚀剂液的晶片的旋转盘(41)、和收容旋转盘(41)从底部排出晶片(W)周围的气氛的处理杯(50)。处理杯(50)包括具有外周壁(61a)的第一杯(51)和在第一杯(51)的内侧接近于晶片(W)围着晶片(W)配置的气流控制部件(52)。气流控制部件(52)具有由断面大致三角形且上凸的上环部件(62a)与断面大致三角形且下凸的下环部件(62b)所构成的断面大致四边形的形状，在外周壁(61a)与气流控制部件(52)之间实质上形成用来排出晶片(W)周围的气氛的排气流路(55)。
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公开(公告)号：CN112041968B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN201980024973.X
申请日：2019-04-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 【技术问题】在对被处理体供给药液来进行处理时，防止在处理中产生异常，或者检测药液流路中的含有聚合物的药液相对于其他药液是否为希望的比例。【技术手段】本发明的装置包括：含有聚合物的药液所流动的药液流路；对所述药液流路照射激光的激光照射部；接收从所述药液流路供给来的光的受光元件；和检测部，其基于从所述受光元件输出的信号，检测所述药液所含的聚合物中的过半数存在的聚合物的状态异常，或者检测所述药液流路中的含有该聚合物
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