-
公开(公告)号：CN1942606B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200580011353.0
申请日：2005-03-30
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23F1/08 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67086 , H01L21/6708
摘要： 处理液供给喷嘴(10)分别布置在处理槽(1)内半导体晶片(W)的左右两侧。每个喷嘴(10)的排放口面对半导体晶片(W)。根据预定工序，从一个或多个选定喷嘴(10)排放处理液。为了执行化学液体处理，例如首先从最低位置处的喷嘴(10)排放处理液，然后将用于排放化学液体的喷嘴(10)顺序改变成上面的喷嘴。为了执行漂洗处理，在用漂洗液替代处理槽(1)内的化学液体的同时，例如首先从最低位置处的喷嘴(10)排放漂洗液，然后从所有喷嘴(10)排放漂洗液。通过这样，有效且均匀地改进液体处理。
-
公开(公告)号：CN107492511A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710414430.1
申请日：2017-06-05
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67248 , H01L21/67017 , H01L21/67086 , H01L21/67253 , H01L21/30604
摘要： 本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。不改变磷酸水溶液的浓度地将磷酸水溶液的沸腾状态保持固定，实现蚀刻均匀性。基板液处理装置(1)具有液处理部(39)、处理液循环线(42)以及调整设置于液处理部(39)的处理槽(34)的沸腾状态检测部(70)。控制部(7)基于来自沸腾状态检测部(70)的信号对处理液循环线(42)的供给泵(51)进行控制来对供给的流路内的磷酸水溶液的压力进行调整，从而将磷酸水溶液的沸腾状态调整为期望的状态。
-
公开(公告)号：CN101143713B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200710139922.0
申请日：2007-08-03
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： B01F3/088 , B01F3/0861 , B01F3/0865 , B01F5/10 , B01F15/00253 , B01F15/00331 , B01F15/00396 , B01F15/0243 , B01F15/0412 , B01F15/0437 , B01F15/06 , B01F2015/062 , B01F2215/0036 , B01J19/24 , B01J2219/00103 , B01J2219/24 , C01B15/08 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , H01L21/67057
摘要： 本发明提供在混合硫酸和双氧水时可以充分地生成对从基板上剥离抗蚀剂等有效的卡罗酸。首先用硫酸充满内槽(10)，同时从内槽(10)溢出的硫酸也流入到外槽(12)中。接着向内槽(10)供给双氧水，使双氧水流入外槽(12)内，在该外槽(12)内储存双氧水和硫酸的2种液体。在流入双氧水的同时使回流泵(16)工作。
-
公开(公告)号：CN107492511B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201710414430.1
申请日：2017-06-05
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。不改变磷酸水溶液的浓度地将磷酸水溶液的沸腾状态保持固定，实现蚀刻均匀性。基板液处理装置(1)具有液处理部(39)、处理液循环线(42)以及调整设置于液处理部(39)的处理槽(34)的沸腾状态检测部(70)。控制部(7)基于来自沸腾状态检测部(70)的信号对处理液循环线(42)的供给泵(51)进行控制来对供给的流路内的磷酸水溶液的压力进行调整，从而将磷酸水溶液的沸腾状态调整为期望的状态。
-
公开(公告)号：CN101143713A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710139922.0
申请日：2007-08-03
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： B01F3/088 , B01F3/0861 , B01F3/0865 , B01F5/10 , B01F15/00253 , B01F15/00331 , B01F15/00396 , B01F15/0243 , B01F15/0412 , B01F15/0437 , B01F15/06 , B01F2015/062 , B01F2215/0036 , B01J19/24 , B01J2219/00103 , B01J2219/24 , C01B15/08 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , H01L21/67057
摘要： 本发明提供在混合硫酸和双氧水时可以充分地生成对从基板上剥离抗蚀剂等有效的卡罗酸。首先用硫酸充满内槽(10)，同时从内槽(10)溢出的硫酸也流入到外槽(12)中。接着向内槽(10)供给双氧水，使双氧水流入外槽(12)内，在该外槽(12)内储存双氧水和硫酸的2种液体。在流入双氧水的同时使回流泵(16)工作。
-
公开(公告)号：CN107017160B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201610849288.9
申请日：2016-09-23
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置能够利用处理液对基板均匀地进行处理。在本发明中，基板液处理装置具有：处理槽，其用于将多个基板以排列的状态浸渍于处理液来进行处理；以及处理液供给喷嘴，其在所述处理槽的内部配置于所述基板的下方，在沿着所述基板的排列方向延伸的管体形成有用于喷出所述处理液的喷出口，所述喷出口形成有第1侧面和第2侧面，第1侧面和第2侧面在与所述基板的排列方向正交的水平方向上隔开间隔，所述第1侧面和/或所述第2侧面的外侧端缘设于比从所述管体的中心沿着径向使内侧端缘延伸而得的位置（B1、D1）朝向水平方向地向外侧打开的位置（A1、C1）。
-
公开(公告)号：CN107017160A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201610849288.9
申请日：2016-09-23
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/30604
摘要： 本发明提供一种基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置能够利用处理液对基板均匀地进行处理。在本发明中，基板液处理装置具有：处理槽，其用于将多个基板以排列的状态浸渍于处理液来进行处理；以及处理液供给喷嘴，其在所述处理槽的内部配置于所述基板的下方，在沿着所述基板的排列方向延伸的管体形成有用于喷出所述处理液的喷出口，所述喷出口形成有第1侧面和第2侧面，第1侧面和第2侧面在与所述基板的排列方向正交的水平方向上隔开间隔，所述第1侧面和/或所述第2侧面的外侧端缘设于比从所述管体的中心沿着径向使内侧端缘延伸而得的位置（B1、D1）朝向水平方向地向外侧打开的位置（A1、C1）。
-
公开(公告)号：CN102044412B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201010513671.X
申请日：2010-10-15
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种基板液体处理装置以及基板液体处理方法。防止由于基板带有的电荷放电而产生静电击穿。在本发明中，在用于对基板(2)实施液体处理的基板液体处理装置(1)、基板液体处理方法以及记录有基板液体处理程序的计算机可读取的记录介质(48)中，在利用基板处理药液对基板(2)的电路形成面进行液体处理的液体处理工序之前，进行除电处理工序，在该除电处理工序中，利用除电处理液对基板(2)的电路形成面的相反面进行处理，由此使基板(2)带有的电荷释放出来。
-
公开(公告)号：CN102044412A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010513671.X
申请日：2010-10-15
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/02057 , H01L21/67051
摘要： 本发明提供一种基板液体处理装置以及基板液体处理方法。防止由于基板带有的电荷放电而产生静电击穿。在本发明中，在用于对基板(2)实施液体处理的基板液体处理装置(1)、基板液体处理方法以及记录有基板液体处理程序的计算机可读取的记录介质(48)中，在利用基板处理药液对基板(2)的电路形成面进行液体处理的液体处理工序之前，进行除电处理工序，在该除电处理工序中，利用除电处理液对基板(2)的电路形成面的相反面进行处理，由此使基板(2)带有的电荷释放出来。
-
公开(公告)号：CN1942606A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580011353.0
申请日：2005-03-30
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23F1/08 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67086 , H01L21/6708
摘要： 处理液供给喷嘴(10)分别布置在处理槽(1)内半导体晶片(W)的左右两侧。每个喷嘴(10)的排放口面对半导体晶片(W)。根据预定工序，从一个或多个选定喷嘴(10)排放处理液。为了执行化学液体处理，例如首先从最低位置处的喷嘴(10)排放处理液，然后将用于排放化学液体的喷嘴(10)顺序改变成上面的喷嘴。为了执行漂洗处理，在用漂洗液替代处理槽(1)内的化学液体的同时，例如首先从最低位置处的喷嘴(10)排放漂洗液，然后从所有喷嘴(10)排放漂洗液。通过这样，有效且均匀地改进液体处理。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
12 条记录 (耗时 0.028 秒)
