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公开(公告)号：CN102737947B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201210093675.6
申请日：2012-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01J37/32201 , C23C16/511 , H01J37/32211 , H01J37/32238 , H01J37/32431 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 本发明的目的在于提供等离子处理装置以及微波导入装置，用简单的构成使等离子的分布均匀化。等离子处理装置(1)具备向处理容器(2)内导入微波的微波导入装置(5)。微波导入装置(5)包括嵌合于顶部(11)的多个开口部的多个微波透过板(73)。多个微波透过板(73)在嵌合于顶部(11)的多个开口部的状态下，配置于与载置台(21)的载置面(21a)平行的一个假想的平面上。多个微波透过板(73)包括微波透过板(73A～73G)。设定为微波透过板(73G、73A)的中心点(PG，PA)间距离与微波透过板(73G、73B)的中心点(PG、PB)间距离相互相等或者几乎相等。
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公开(公告)号：CN101803472A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880108012.9
申请日：2008-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229
Abstract: 本发明提供一种缝隙天线方式的微波等离子体处理装置(100)，其具备：构成扁平波导管的平面天线板(31)及由导电性构件制成的外罩(34)。外罩(34)具备用于调整扁平波导管内的电场分布的作为第二波导管的短截线(43)。短截线(43)设有由导电性构件制成的外罩(34)。短截线(43)在俯视时，配置于与构成排列于平面天线板(31)的最外周的缝隙对的缝隙(32)重合的位置。利用短截线(43)的合适的配置，可以控制扁平波导管内的电场分布而生成均匀的等离子体。
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公开(公告)号：CN101803472B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200880108012.9
申请日：2008-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229
Abstract: 本发明提供一种缝隙天线方式的微波等离子体处理装置(100)，其具备：构成扁平波导管的平面天线板(31)及由导电性构件制成的外罩(34)。外罩(34)具备用于调整扁平波导管内的电场分布的作为第二波导管的短截线(43)。短截线(43)设有由导电性构件制成的外罩(34)。短截线(43)在俯视时，配置于与构成排列于平面天线板(31)的最外周的缝隙对的缝隙(32)重合的位置。利用短截线(43)的合适的配置，可以控制扁平波导管内的电场分布而生成均匀的等离子体。
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公开(公告)号：CN101847574A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010167322.7
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68742 , C23C16/4586 , H01L21/67103
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和暴露于等离子体的部件，该基板处理装置包括：收容被处理基板的处理容器；以及在该处理容器内生成等离子体的等离子体生成机构，所述基板处理装置用于对所述处理容器内的被处理基板实施规定的等离子体处理，其中，在所述处理容器内，暴露于等离子体的部位的至少一部分涂敷有硅膜。
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公开(公告)号：CN102737947A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210093675.6
申请日：2012-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01J37/32201 , C23C16/511 , H01J37/32211 , H01J37/32238 , H01J37/32431 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 本发明的目的在于提供等离子处理装置以及微波导入装置，用简单的构成使等离子的分布均匀化。等离子处理装置(1)具备向处理容器(2)内导入微波的微波导入装置(5)。微波导入装置(5)包括嵌合于顶部(11)的多个开口部的多个微波透过板(73)。多个微波透过板(73)在嵌合于顶部(11)的多个开口部的状态下，配置于与载置台(21)的载置面(21a)平行的一个假想的平面上。多个微波透过板(73)包括微波透过板(73A～73G)。设定为微波透过板(73G、73A)的中心点(PG，PA)间距离与微波透过板(73G、73B)的中心点(PG、PB)间距离相互相等或者几乎相等。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101322237A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200780000499.4
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68742 , C23C16/4586 , H01L21/67103
Abstract: 本发明提供一种基板载置台，包括：在内部埋设有加热器并且其表面成为被处理基板的加热面的基板载置台主体；以及在基板载置台主体中能够上下自由移动地插通的升降销，其中，基板载置台主体在其加热面形成有与升降销相对应并且底面比加热面低的凹部，升降销具有升降销主体以及在升降销主体的顶端部与凹部对应形成的能够部分地收容在凹部中且直径比升降销主体的直径大的头部，头部具有支撑被处理基板的头部上端以及与头部上端相对的头部下表面，升降销能够在头部下表面与凹部的底面接合的第一状态以及头部下表面从凹部的底面上升的第二状态之间自由移动。
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公开(公告)号：CN101847574B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201010167322.7
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68742 , C23C16/4586 , H01L21/67103
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和暴露于等离子体的部件，该基板处理装置包括：收容被处理基板的处理容器；以及在该处理容器内生成等离子体的等离子体生成机构，所述基板处理装置用于对所述处理容器内的被处理基板实施规定的等离子体处理，其中，在所述处理容器内，暴露于等离子体的部位的至少一部分涂敷有硅膜。
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公开(公告)号：CN101849444B
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN200980100907.2
申请日：2009-03-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222
Abstract: 本发明涉及一种平板天线部件，向等离子体处理装置的处理容器内导入由电磁波发生源发生的电磁波，其特征在于，具有由导电材料构成的平板状基材、和形成在上述平板状基材上的放射电磁波的多个贯通口，上述贯通口包含：沿中心与上述平板天线部件的中心重叠的圆的圆周排列的多个第一贯通口；在上述第一贯通口的外侧与上述圆呈同心圆状排列的多个第二贯通口，从上述平板天线部件的中心到上述第一贯通口的中心的距离L1与上述平板天线部件的半径r之比L1/r在0.35～0.5的范围内，从上述平板天线部件的中心到上述第二贯通口的中心的距离L2与上述平板天线部件的半径r之比L2/r在0.7～0.85的范围内。
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公开(公告)号：CN101849444A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200980100907.2
申请日：2009-03-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222
Abstract: 本发明涉及一种平板天线部件，向等离子体处理装置的处理容器内导入由电磁波发生源发生的电磁波，其特征在于，具有由导电材料构成的平板状基材、和形成在上述平板状基材上的放射电磁波的多个贯通口，上述贯通口包含：沿中心与上述平板天线部件的中心重叠的圆的圆周排列的多个第一贯通口；在上述第一贯通口的外侧与上述圆呈同心圆状排列的多个第二贯通口，从上述平板天线部件的中心到上述第一贯通口的中心的距离L1与上述平板天线部件的半径r之比L1/r在0.35～0.5的范围内，从上述平板天线部件的中心到上述第二贯通口的中心的距离L2与上述平板天线部件的半径r之比L2/r在0.7～0.85的范围内。
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公开(公告)号：CN101322237B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200780000499.4
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68742 , C23C16/4586 , H01L21/67103
Abstract: 本发明提供一种基板载置台，包括：在内部埋设有加热器并且其表面成为被处理基板的加热面的基板载置台主体；以及在基板载置台主体中能够上下自由移动地插通的升降销，其中，基板载置台主体在其加热面形成有与升降销相对应并且底面比加热面低的的凹部，升降销具有升降销主体以及在升降销主体的顶端部与凹部对应形成的能够部分地收容在凹部中且直径比升降销主体的直径大的头部，头部具有支撑被处理基板的头部上端以及与头部上端相对的头部下表面，升降销能够在头部下表面与凹部的底面接合的第一状态以及头部下表面从凹部的底面上升的第二状态之间自由移动。
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