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公开(公告)号：CN101803472B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200880108012.9
申请日：2008-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229
Abstract: 本发明提供一种缝隙天线方式的微波等离子体处理装置(100)，其具备：构成扁平波导管的平面天线板(31)及由导电性构件制成的外罩(34)。外罩(34)具备用于调整扁平波导管内的电场分布的作为第二波导管的短截线(43)。短截线(43)设有由导电性构件制成的外罩(34)。短截线(43)在俯视时，配置于与构成排列于平面天线板(31)的最外周的缝隙对的缝隙(32)重合的位置。利用短截线(43)的合适的配置，可以控制扁平波导管内的电场分布而生成均匀的等离子体。
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公开(公告)号：CN102396053A
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN201080016868.0
申请日：2010-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/511 , H01L21/205 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3222 , H01J37/32192 , H01J37/32238 , H01L21/02247 , H01L21/02252
Abstract: 本发明的等离子体处理装置具备：将由电磁波发生装置产生的电磁波导入所述处理容器内的平面天线部件；向平面天线部件供给电磁波的波导管；重叠设置在平面天线部件之上，改变从波导管供给的电磁波的波长的滞波板；和从上方覆盖滞波板和平面天线部件的罩部件，其中，滞波板由电介质构成，并且平面天线部件与罩部件之间的区域的介电常数，在与平面天线部件的上表面平行的截面中是非均匀的。
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公开(公告)号：CN113056962A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201980075623.6
申请日：2019-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/31 , C23C16/455 , C23C16/511
Abstract: 【技术问题】在使气体供给通路的下游侧分支来对处理容器供给气体时，能够以简单结构防止气体从气体供给通路泄露。【技术手段】一种气体供给装置，其包括：对处理容器内进行排气来形成真空气氛的排气机构；气体供给通路，其包括从气体供给源供给气体的上游侧流路和该上游侧流路的下游侧分支为多个而形成的分别连接到处理容器的多个分支通路；第1阀，其开度可变但不能全闭，为了将供给到上游侧流路的气体向多个分支通路分流而分别设置于该分支通路；第2阀，其设置于上游侧流路，向下游侧供给气体或停止气体供给；检测处理容器内的压力的压力传感器；和异常检测部，其基于检测出的处理容器内的压力，来检测气体供给通路中的第2阀的下游侧的异常。
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公开(公告)号：CN113056962B
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN201980075623.6
申请日：2019-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/31 , C23C16/455 , C23C16/511
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公开(公告)号：CN101803472A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880108012.9
申请日：2008-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229
Abstract: 本发明提供一种缝隙天线方式的微波等离子体处理装置(100)，其具备：构成扁平波导管的平面天线板(31)及由导电性构件制成的外罩(34)。外罩(34)具备用于调整扁平波导管内的电场分布的作为第二波导管的短截线(43)。短截线(43)设有由导电性构件制成的外罩(34)。短截线(43)在俯视时，配置于与构成排列于平面天线板(31)的最外周的缝隙对的缝隙(32)重合的位置。利用短截线(43)的合适的配置，可以控制扁平波导管内的电场分布而生成均匀的等离子体。
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