公开(公告)号：CN110835751B

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN201910757828.4

申请日：2019-08-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木元大寿 ,  古屋雄一 ,  挂川崇 ,  小森荣一 ,  藤田英明 ,  森宏将

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/44

Abstract: 本发明提高一种阀装置、处理装置、以及控制方法，缩短随着清洁而产生的处理装置的停止期间。阀装置具备多个阀、壳体、热扩散部、加热部、供给部、以及控制部。多个阀控制向处理容器供给的多个处理气体的流通。壳体形成供处理气体流通的多个第1流路。热扩散部覆盖壳体，使壳体的热扩散。加热部覆盖由热扩散部覆盖着的壳体，隔着热扩散部对壳体进行加热。供给部向在壳体与热扩散部之间形成的第2流路供给制冷剂。控制部在对处理容器内的被处理体进行预定的处理之际控制加热部，以便将壳体加热成第1温度。另外，控制部在开始处理容器的清洁之前停止加热部对壳体的加热，控制供给部，以便向第2流路供给制冷剂。

公开(公告)号：CN113529052A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202110371103.9

申请日：2021-04-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木元大寿 ,  渡边纪之 ,  成嶋健索 ,  关户幸一 ,  川口拓哉

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供能够使成膜开始时的原料气体的流量在短时间内变得稳定的技术。本发明的一方式的原料供给装置包括：向处理容器内供给原料气体的原料供给通路；设置于所述原料供给通路的阀；检测所述原料供给通路内的压力的压力传感器；与所述原料供给通路连接，对所述原料供给通路内的所述原料气体进行排气的原料排气通路；设置于所述原料排气通路，通过调节开度来控制所述原料供给通路内的压力的开度调节机构；和基于所述压力传感器的检测值来调节所述开度调节机构的所述开度的控制部。

公开(公告)号：CN105308733A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201480034510.9

申请日：2014-04-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森崎英介 ,  木元大寿

IPC: H01L21/677 ,  C23C16/458 ,  H01L21/205 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6875 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  H01L21/02529 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67751 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68785

Abstract: 移载装置(170)包括：支承衬底保持件(40)的支承部(70)；在衬底保持件(40)的衬底保持部(80)能够使衬底升降的升降部件(91)；和遮蔽部件(82)，其随着升降部件(91)的升降而升降，在升降部件(91)接收衬底(W)时介于衬底(W)与升降部件(91)之间，在衬底(W)被衬底保持部(80)保持时，在衬底(W)的背面侧遮蔽衬底保持件(40)的用于插通升降部件(91)的孔(81)。而且，在升降部件(91)上升了的状态下，利用输送装置(201)将衬底(W)载置在遮蔽部件(82)上，或者对遮蔽部件(82)上的衬底(W)进行输送。

公开(公告)号：CN110016654B

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN201811516405.5

申请日：2018-12-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 古屋雄一 ,  森宏将 ,  津田荣之辅 ,  小森荣一 ,  木元大寿

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明提供一种能够使多个托盘内的原料的消耗量之差减小的原料容器。一实施方式的原料容器具备壳体、托盘组件以及多个筒状构件。壳体提供载气的导入口、和开口，含有原料的蒸气的气体从该开口输出。托盘组件包括多个托盘。多个托盘叠置于壳体中。多个筒状构件各自具有圆筒形状。多个筒状构件沿着径向排列于托盘组件与壳体之间。多个筒状构件中的最外侧的筒状构件提供狭缝，其他一个以上的筒状构件各自提供多个狭缝。在从导入口到托盘组件与最内侧的筒状构件之间的间隙为止，载气的流路利用多个筒状构件阶段性地向上方和下方分支。

公开(公告)号：CN110835751A

公开(公告)日：2020-02-25

申请号：CN201910757828.4

申请日：2019-08-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木元大寿 ,  古屋雄一 ,  挂川崇 ,  小森荣一 ,  藤田英明 ,  森宏将

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/44

Abstract: 本发明提高一种阀装置、处理装置、以及控制方法，缩短随着清洁而产生的处理装置的停止期间。阀装置具备多个阀、壳体、热扩散部、加热部、供给部、以及控制部。多个阀控制向处理容器供给的多个处理气体的流通。壳体形成供处理气体流通的多个第1流路。热扩散部覆盖壳体，使壳体的热扩散。加热部覆盖由热扩散部覆盖着的壳体，隔着热扩散部对壳体进行加热。供给部向在壳体与热扩散部之间形成的第2流路供给制冷剂。控制部在对处理容器内的被处理体进行预定的处理之际控制加热部，以便将壳体加热成第1温度。另外，控制部在开始处理容器的清洁之前停止加热部对壳体的加热，控制供给部，以便向第2流路供给制冷剂。

公开(公告)号：CN114375347A

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN202080064090.4

申请日：2020-09-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 成岛健索 ,  堀田隼史 ,  松本淳志 ,  川口拓哉 ,  木元大寿

IPC: C23C16/14 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02

Abstract: 在向保存基板的处理容器供给处理气体来进行处理的气体供给装置中，具备：原料容器，其收容液体或固体的原料；载气供给部，其用于向所述原料容器内供给载气；气体供给路，其从所述原料容器向所述处理容器供给包含气化后的所述原料和所述载气的处理气体；流量计，其设置于所述气体供给路，以测定所述处理气体的流量；以及被缩窄的流路，其在所述气体供给路中设置于所述流量计的下游侧，以使该气体供给路中的、所述被缩窄的流路与所述流量计之间的压力的平均值上升。

公开(公告)号：CN110016654A

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201811516405.5

申请日：2018-12-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 古屋雄一 ,  森宏将 ,  津田荣之辅 ,  小森荣一 ,  木元大寿

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明提供一种能够使多个托盘内的原料的消耗量之差减小的原料容器。一实施方式的原料容器具备壳体、托盘组件以及多个筒状构件。壳体提供载气的导入口、和开口，含有原料的蒸气的气体从该开口输出。托盘组件包括多个托盘。多个托盘叠置于壳体中。多个筒状构件各自具有圆筒形状。多个筒状构件沿着径向排列于托盘组件与壳体之间。多个筒状构件中的最外侧的筒状构件提供狭缝，其他一个以上的筒状构件各自提供多个狭缝。在从导入口到托盘组件与最内侧的筒状构件之间的间隙为止，载气的流路利用多个筒状构件阶段性地向上方和下方分支。