-
公开(公告)号：CN115667577B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202180040790.4
申请日：2021-06-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小畑雄治
IPC: C23C16/455 , H01L21/285 , H01L21/31 , H01L21/316
Abstract: 提供一种喷淋板,其具有设于处理容器的上部的板状部件,多个第一孔部,其与上述喷淋板内的第一流路连通；喷淋板具有:多个第一腔室阀,其设于多个上述第一孔部；多个第二孔部,其与上述喷淋板内的第二流路连通；多个第二腔室阀,其设于多个上述第二孔部；多个第三孔部,其以与多个上述第一孔部以及多个上述第二孔部对应的方式设于上述板状部件；以及多个第三腔室阀,其设于多个上述第三孔部,多个上述第一腔室阀、多个上述第二腔室阀以及多个上述第三腔室阀为压电元件。
-
公开(公告)号：CN114606480A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202111412037.1
申请日：2021-11-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/34 , C23C16/44 , C23C16/52 , G01L19/00
Abstract: 本发明提供一种能够以高精度检测基板附近的压力的成膜装置以及成膜方法。根据本发明的一个方式的成膜装置具有:处理容器,其能够对内部进行减压；喷头,其用于向上述处理容器内供给气体,该喷头包括形成有多个气体孔的下部件、以及在与该下部件之间形成用于使上述气体扩散的扩散空间的上部件；载置台,其与上述喷头相对配置,并且在与上述喷头之间形成处理空间；升降机构,其用于使上述载置台进行升降；筒状部,其贯通上述喷头而与上述处理空间连通；以及压力传感器,其以气密的方式设于上述筒状部的内部,用于对上述处理空间的压力进行测定。
-
公开(公告)号：CN101529710B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200780039874.6
申请日：2007-10-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H02M3/3376 , H02M1/38
Abstract: 本发明提供一种电源装置，其特征在于，包括：交流/直流变换部，将交流电压变换为直流电压；开关电路，具有多个开关元件，在直流电压被输入时上述各开关元件产生导通、断开循环，根据所述各开关元件的导通、断开的组合输出脉冲状电压；和控制部，进行移相型PWM控制，所述移相型PWM控制通过使上述各开关元件的导通、断开循环的相位变化来控制从上述开关电路输出的脉冲状电压的脉冲宽度，其中，上述控制部使得在上述开关元件的导通、断开循环中插入上述多个开关元件全部断开的定时。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101529710A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780039874.6
申请日：2007-10-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H02M3/3376 , H02M1/38
Abstract: 本发明提供一种电源装置，其特征在于，包括：交流/直流变换部，将交流电压变换为直流电压；开关电路，具有多个开关元件，在直流电压被输入时上述各开关元件产生导通、断开循环，根据所述各开关元件的导通、断开的组合输出脉冲状电压；和控制部，进行移相型PWM控制，所述移相型PWM控制通过使上述各开关元件的导通、断开循环的相位变化来控制从上述开关电路输出的脉冲状电压的脉冲宽度，其中，上述控制部使得在上述开关元件的导通、断开循环中插入上述多个开关元件全部断开的定时。
-
公开(公告)号：CN115667577A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180040790.4
申请日：2021-06-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小畑雄治
IPC: C23C16/455 , H01L21/285 , H01L21/31 , H01L21/316
Abstract: 提供一种喷淋板,其具有设于处理容器的上部的板状部件,多个第一孔部,其与上述喷淋板内的第一流路连通；喷淋板具有:多个第一腔室阀,其设于多个上述第一孔部；多个第二孔部,其与上述喷淋板内的第二流路连通；多个第二腔室阀,其设于多个上述第二孔部；多个第三孔部,其以与多个上述第一孔部以及多个上述第二孔部对应的方式设于上述板状部件；以及多个第三腔室阀,其设于多个上述第三孔部,多个上述第一腔室阀、多个上述第二腔室阀以及多个上述第三腔室阀为压电元件。
-
公开(公告)号：CN102651923A
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201210044596.6
申请日：2012-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H05B6/806
Abstract: 本发明提供一种微波照射装置，能够对被处理体照射微波，同时与此分别独立地进行被处理体的温度控制。在对被处理体(W)照射微波来进行处理的微波照射装置(2)中，具备：可以进行真空排气的处理容器(4)；支承被处理体的支承台(6)；导入处理气体的处理气体导入装置(106)；导入微波的微波导入装置(72)；加热被处理体的加热装置(16)；通过冷却气体冷却被处理体的气体冷却装置(104)；测量被处理体的温度的辐射温度计(64)；和基于辐射温度计的测量值来控制加热装置与气体冷却装置，从而调整被处理体的温度的温度控制部(70)。由此，一边对被处理体照射微波，一边与此分别独立地进行被处理体的温度控制。
-
公开(公告)号：CN117242333A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202280032663.4
申请日：2022-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小畑雄治
IPC: G01N21/39
Abstract: 提供一种使用激光束来测定供给到用于进行基板的处理的处理空间的处理气体的温度和浓度的技术。设置于对基板进行处理的装置的处理气体供给部对处理空间供给处理气体，投光部对被供给了处理气体的处理空间投出波长在互不相同的波长范围内变化的激光束。受光部接受通过处理空间后的激光束，温度计算部基于各波长范围的激光束的吸收光谱来计算处理气体的温度，浓度计算部基于所述波长范围内的特定的波长的激光束的吸光度来计算处理气体的浓度。
-
公开(公告)号：CN115198251A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210298238.1
申请日：2022-03-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小畑雄治
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明提供一种气体供给装置、气体供给方法以及基板处理装置，能够简易地抑制由于用于供给和切断气体的开闭阀的Cv值的变化引起的气体供给量的变动。气体供给装置具有：气体供给源，其供给气体；气体供给路径，其用于从气体供给源向处理空间供给气体；开闭阀，其设置于气体供给路径，用于供给和切断气体；检测单元，其检测与开闭阀的Cv值具有相关性的可检测的指标；开度调节机构，其调节开闭阀打开时的开度；以及控制部，存储开闭阀的Cv值与指标的关系，在该指标偏离与适当的Cv值对应的适当范围的情况下，所述控制部控制通过开度调节机构调节的开闭阀的开度，以使该指标成为适当范围。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.021 seconds)
