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公开(公告)号：CN103597615A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280027586.X
申请日：2012-06-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L31/0749 , H01L31/032
CPC classification number: H01L31/0749 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , Y02E10/541
Abstract: 本发明提供一种肼配位Cu硫属化物络合物，其是通过在肼的存在下使Cu或Cu2Se与硫属元素在不含胺系溶剂的二甲基亚砜中反应、并在所得到的溶液中加入不良溶剂或对所得到的溶液进行浓缩和过滤而得到的。
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公开(公告)号：CN101145536A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710146097.7
申请日：2007-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
IPC: H01L21/673 , B23Q3/08 , B25B11/00
Abstract: 本发明提供一种可以可靠且短时间地检测出基板是否被真空吸附的真空吸附装置。一旦有一部分没有被真空吸附的位置，则在该处，基板W会从基板载置台5的上表面多少有些浮起。而且基板W一旦浮起，则通过该处或者其附近各处呈开口的真空检测孔(8)而检测出的压力也就会因为从外部进入了空气而变高。因此，在所设置的多个压力传感器11全部都感知到真空时，就可以判断为基板W被可靠地吸附在基板载置台5的上表面上。
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公开(公告)号：CN101131954A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710145275.4
申请日：2007-08-17
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种有效防止涂敷膜上生斑的基板保持装置。基板保持装置具有：形成有多个吸附孔(1b)以及连通吸附孔之间的槽(1a)，且对基板(2)进行吸附并保持的平台(1)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与真空源连通的真空阀门(5)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与大气连通的大气阀门(6)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与吹扫气体源连通的吹扫气体阀门(7)；控制真空阀门、大气阀门以及吹扫气体阀门的开关的阀门控制装置(8)。在平台上对基板进行吸附保持时，利用真空吸附将基板吸附并保持在平台上后，使平台的吸附孔转换到大气状态，在大气状态下进行各种处理。
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公开(公告)号：CN102806177A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201210174363.8
申请日：2012-05-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H01L31/18 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , Y02E10/541
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备：第一腔，其具有将含有易氧化性的金属及溶剂的液状体的涂敷膜形成在基板上的涂敷部；第二腔，其具有加热所述涂敷膜的第一加热部；连接部，其将所述第一腔与所述第二腔之间连接，其中，在所述连接部设有对涂敷在所述基板上的所述涂敷膜进行加热的第二加热部及对所述涂敷膜的周围的压力进行调整的压力调整部。
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公开(公告)号：CN100521144C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200710145275.4
申请日：2007-08-17
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种有效防止涂敷膜上生斑的基板保持装置。基板保持装置具有：形成有多个吸附孔(1b)以及连通吸附孔之间的槽(1a)，且对基板(2)进行吸附并保持的平台(1)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与真空源连通的真空阀门(5)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与大气连通的大气阀门(6)；一端侧与上述平台的吸附孔连通、另一端侧与吹扫气体源连通的吹扫气体阀门(7)；控制真空阀门、大气阀门以及吹扫气体阀门的开关的阀门控制装置(8)。在平台上对基板进行吸附保持时，利用真空吸附将基板吸附并保持在平台上后，使平台的吸附孔转换到大气状态，在大气状态下进行各种处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103597605A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280027751.1
申请日：2012-06-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L31/032 , H01L31/0749
CPC classification number: C09D7/1233 , C01B19/002 , C01B19/007 , C01G19/006 , C01P2002/72 , C01P2004/03 , C09D7/63 , H01L21/02557 , H01L21/0256 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , H01L31/0749 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 一种光吸收层形成用涂布液，其是用于形成铜锌锡硫(CZTS)系太阳能电池的光吸收层的涂布液，其是使(A)肼配位Cu硫属化物络合物成分、(B)肼配位Sn硫属化物络合物成分和(C)肼配位Zn硫属化物络合物成分溶解于二甲基亚砜而成的。
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公开(公告)号：CN101130184B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200710142030.6
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
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公开(公告)号：CN101130184A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710142030.6
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其具有当狭缝喷嘴进行涂敷而移动时能抑制起伏的构造。在为了对放置于载台(2)上的玻璃衬底(W)涂敷涂敷液，而从狭缝喷嘴(10)向衬底(W)的表面喷出涂敷液，同时利用线性马达使移动体(3)移动时，由于驱动装置(11)的重心(G1)位于比狭缝喷嘴(10)的重心(G2)低的位置，所以能抑制移动体(3)沿着轨道(4、4)在水平方向移动时产生的起伏(上下动)，从而可以稳定地进行涂敷。
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公开(公告)号：CN102810498A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201210175124.4
申请日：2012-05-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67109 , H01L21/67253 , H01L21/6776 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , Y02E10/541
Abstract: 本发明提供一种加热装置、涂敷装置及加热方法，该加热装置具备：第一加热部及第二加热部，它们在所述涂敷膜的膜厚方向上夹着配置具有涂敷膜的基板的基板位置；距离调整部，其对所述基板位置与所述第一加热部的第一距离及所述基板位置与所述第二加热部的第二距离中的至少一方进行调整。
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公开(公告)号：CN102646753A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210037512.6
申请日：2012-02-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 宫本英典
CPC classification number: Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 提供一种涂敷装置，其具有：将含有易氧化性的金属的液状体涂敷到基板上的涂敷部；对涂敷所述液状体之前的所述基板进行前处理的前处理部；以及连接部，该连接部具有连接空间，该连接空间对由所述涂敷部涂敷所述液状体的涂敷空间与由所述前处理部进行所述前处理的前处理空间进行连接，所述连接部被设置成可进行调整，使得所述连接空间的气体环境成为惰性气体的气体环境。
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