激光器元件、激光器元件的制造方法

    公开(公告)号:CN107492787A

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201710433669.3

    申请日:2017-06-09

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够减小寄生电容且确保台面条带左右的中空部的激光器元件和激光器元件的制造方法。具有:脊部,其以条带状隆起;沟道部,其与该脊部相邻,从两侧夹着该脊部,高度低于该脊部;阶台部,其与该沟道部的与该脊部相反侧相邻,形成得比该沟道部高;支撑部,其设置于该沟道部之上,与该脊部的侧面和该阶台部的侧面中的至少一者分离地设置,由树脂形成;顶棚部,其具有第1部分和第2部分,由树脂形成,该第1部分设置于该支撑部之上,该第2部分与该第1部分相连,隔着中空部而位于该沟道部之上;以及金属层,其设置于该顶棚部之上,并且与该脊部的上表面连接。

    半导体装置的制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112189251A

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN201880093695.9

    申请日:2018-05-28

    Inventor: 前田和弘

    Abstract: 在半导体基板(1)的主面之上形成覆盖半导体器件(5)及半导体基板(1)的切割线(7)的树脂膜(8),以不除去切割线(7)之上的树脂膜(8)的方式除去第1电极(2)周围的树脂膜(8)、除去第2电极(3、4)之上的树脂膜(8)而形成第1接触孔(9)。将树脂薄膜(11)粘贴于树脂膜(8)的上表面而在第1电极(2)周围形成中空构造(12)。将树脂薄膜(11)图案化,同时形成与第1接触孔(9)连接的第2接触孔(13)和切割线(7)上方的第1开口(14)。在形成了第1开口(14)后沿切割线(7)对半导体基板(1)进行切割。

    半导体装置及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110476231A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201780089183.0

    申请日:2017-04-04

    Abstract: 在半导体衬底(1)之上形成有多指晶体管,该多指晶体管具有多个控制电极(2)、多个第1电极(3)及多个第2电极(4)。树脂膜(14、15)覆盖晶体管。在树脂膜(14、15)之上形成有将多个第1电极(3)彼此电连接的第1配线(8)。树脂膜(14、15)覆盖第1配线(8)和多个第1电极(3)的接触部分。在多个控制电极(2)及多个第2电极(4)周围形成有由树脂膜(14、15)密闭的中空构造(16)。

    半导体装置
    5.
    发明公开
    半导体装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN120015740A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202510165751.7

    申请日:2017-04-04

    Abstract: 在半导体衬底(1)之上形成有多指晶体管,该多指晶体管具有多个控制电极(2)、多个第1电极(3)及多个第2电极(4)。树脂膜(14、15)覆盖晶体管。在树脂膜(14、15)之上形成有将多个第1电极(3)彼此电连接的第1配线(8)。树脂膜(14、15)覆盖第1配线(8)和多个第1电极(3)的接触部分。在多个控制电极(2)及多个第2电极(4)周围形成有由树脂膜(14、15)密闭的中空构造(16)。

    光半导体元件的制造方法及光半导体元件

    公开(公告)号:CN110914745A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201880040231.1

    申请日:2018-08-01

    Abstract: 包括:在半导体基板上依次堆积活性层、包层及接触层的工序;对所述层进行蚀刻而形成台面结构的工序;形成绝缘膜而将台面结构覆盖的工序;将绝缘膜的膜厚减少至接触层的上表面露出为止,将残留的绝缘膜作为侧壁的工序;形成电介质树脂层而埋入台面结构及侧壁的工序;对电介质树脂层选择性地进行蚀刻而形成开口部,使接触层的上表面露出的工序;在开口部内形成电极的工序。

    激光器元件、激光器元件的制造方法

    公开(公告)号:CN107492787B

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201710433669.3

    申请日:2017-06-09

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够减小寄生电容且确保台面条带左右的中空部的激光器元件和激光器元件的制造方法。具有:脊部,其以条带状隆起;沟道部,其与该脊部相邻,从两侧夹着该脊部,高度低于该脊部;阶台部,其与该沟道部的与该脊部相反侧相邻,形成得比该沟道部高;支撑部,其设置于该沟道部之上,与该脊部的侧面和该阶台部的侧面中的至少一者分离地设置,由树脂形成;顶棚部,其具有第1部分和第2部分,由树脂形成,该第1部分设置于该支撑部之上,该第2部分与该第1部分相连,隔着中空部而位于该沟道部之上;以及金属层,其设置于该顶棚部之上,并且与该脊部的上表面连接。

    光半导体元件
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115298915B

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202080098451.7

    申请日:2020-03-19

    Abstract: 本发明的光半导体元件具备:基板(11);第1脊(12),形成于基板(11)之上,从下方开始依次具有第1第1导电型包覆层(13)、第1芯层(14)、第1第2导电型包覆层(15)、以及第1接触层(16),并在两侧配置有第1脊沟(18);以及第1电极(20),在第1脊(12)之上与第1接触层(16)接触,不扩展至第1脊沟(18),并包含第1焊锡层(21)。

    半导体装置的制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112189251B

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN201880093695.9

    申请日:2018-05-28

    Inventor: 前田和弘

    Abstract: 在半导体基板(1)的主面之上形成覆盖半导体器件(5)及半导体基板(1)的切割线(7)的树脂膜(8),以不除去切割线(7)之上的树脂膜(8)的方式除去第1电极(2)周围的树脂膜(8)、除去第2电极(3、4)之上的树脂膜(8)而形成第1接触孔(9)。将树脂薄膜(11)粘贴于树脂膜(8)的上表面而在第1电极(2)周围形成中空构造(12)。将树脂薄膜(11)图案化,同时形成与第1接触孔(9)连接的第2接触孔(13)和切割线(7)上方的第1开口(14)。在形成了第1开口(14)后沿切割线(7)对半导体基板(1)进行切割。

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