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公开(公告)号:CN111263869B
公开(公告)日:2023-01-24
申请号:CN201880069673.9
申请日:2018-10-18
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种具有改进的结构以改善烹饪性能的烤箱。该烤箱包括:主体;布置在主体内部的烹饪室,该烹饪室包括敞开的前部;门,布置为打开或关闭烹饪室的前部;循环风扇,布置为使烹饪室中的空气循环;吸入口,形成在烹饪室的面对循环风扇的壁上;转盘,布置在烹饪室的底板上,该转盘绕旋转轴可旋转;以及排出口,形成在烹饪室的底板上,该排出口用于将已经通过吸入口的空气排放到烹饪室中,该排出口位于转盘下面。
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公开(公告)号:CN110911386B
公开(公告)日:2024-03-19
申请号:CN201910402840.3
申请日:2019-05-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/544 , H01L21/66
Abstract: 提供了一种半导体裸片的缺陷检测结构、半导体装置和缺陷检测方法。所述半导体装置包括半导体裸片、缺陷检测结构和输入输出电路。半导体裸片包括中心区域和围绕中心区域的外围区域。外围区域包括左下角区域、左上角区域、右上角区域和右下角区域。缺陷检测结构形成在外围区域中。缺陷检测结构包括位于左下角区域中的第一导电回路、位于右下角区域中的第二导电回路、位于左下角区域和左上角区域中的第三导电回路以及位于右下角区域和右上角区域中的第四导电回路。输入输出电路电连接到第一导电回路、第二导电回路、第三导电回路和第四导电回路中的端节点。
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公开(公告)号:CN113496909A
公开(公告)日:2021-10-12
申请号:CN202011533167.6
申请日:2020-12-22
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种半导体器件包括:半导体管芯、缺陷检测结构和输入输出电路。半导体管芯包括:中心区域和包围中心区域的外围区域。外围区域包括左下角区域、左上角区域、右上角区域和右下角区域。缺陷检测结构形成在外围区域中。所述缺陷检测结构包括:穿过左下角区域的第一导电回路、穿过右下角区域的第二导电回路、穿过左下角区域和左上角区域的第三导电回路、穿过右下角区域和右上角区域的第四导电回路以及用于屏蔽所述第一导电回路至所述第四导电回路之间的电干扰的屏蔽回路。输入输出电路电连接到第一导电回路、第二导电回路、第三导电回路和第四导电回路的端节点。
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公开(公告)号:CN110911386A
公开(公告)日:2020-03-24
申请号:CN201910402840.3
申请日:2019-05-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/544 , H01L21/66
Abstract: 提供了一种半导体裸片的缺陷检测结构、半导体装置和缺陷检测方法。所述半导体装置包括半导体裸片、缺陷检测结构和输入输出电路。半导体裸片包括中心区域和围绕中心区域的外围区域。外围区域包括左下角区域、左上角区域、右上角区域和右下角区域。缺陷检测结构形成在外围区域中。缺陷检测结构包括位于左下角区域中的第一导电回路、位于右下角区域中的第二导电回路、位于左下角区域和左上角区域中的第三导电回路以及位于右下角区域和右上角区域中的第四导电回路。输入输出电路电连接到第一导电回路、第二导电回路、第三导电回路和第四导电回路中的端节点。
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公开(公告)号:CN114551397A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202111346238.6
申请日:2021-11-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/528 , H01L27/115
Abstract: 一种非易失性存储器芯片,包括:单元区域,该单元区域包括第一表面、与第一表面相对的第二表面、第一单元结构以及与第一单元结构间隔开的第二单元结构;在单元区域的第一表面上的外围电路区域,外围电路区域包括连接到第一单元结构的第一外围电路、连接到第二单元结构的第二外围电路以及在第一外围电路和第二外围电路之间的连接电路;通孔,该通孔在第一单元结构和第二单元结构之间并从单元区域的第二表面延伸到外围电路区域的连接电路;重分布层,该重分布层覆盖单元区域的第二表面上的通孔、连接到通孔并沿着第二表面延伸;和芯片焊盘,该芯片焊盘连接到重分布层。
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公开(公告)号:CN111263869A
公开(公告)日:2020-06-09
申请号:CN201880069673.9
申请日:2018-10-18
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种具有改进的结构以改善烹饪性能的烤箱。该烤箱包括:主体;布置在主体内部的烹饪室,该烹饪室包括敞开的前部;门,布置为打开或关闭烹饪室的前部;循环风扇,布置为使烹饪室中的空气循环;吸入口,形成在烹饪室的面对循环风扇的壁上;转盘,布置在烹饪室的底板上,该转盘绕旋转轴可旋转;以及排出口,形成在烹饪室的底板上,该排出口用于将已经通过吸入口的空气排放到烹饪室中,该排出口位于转盘下面。
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