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公开(公告)号：CN105314770A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510858688.1
申请日：2015-12-01
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
Inventor： 邢攸美
Abstract: 本发明涉及一种四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法。所述系统包括若干送料泵、中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理装置，所述中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理装置各至少设有一组，所述中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理依次通过带控制阀的料管连接，通过该系统能够长期稳定的循环再生高纯度的四甲基氢氧化铵显影液，达到节能环保的目的，同时降低半导体工厂废水排放的压力，为工厂节约废水处理的成本，从而达到资源有效循环利用的目的。
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公开(公告)号：CN102923963A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210461629.7
申请日：2012-11-15
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明公开了一种玻璃减薄刻蚀液补充液，可显著延长玻璃刻蚀液的使用寿命，减少或免除刻蚀废液的处理过程。其主要组成为：HF为20-55%，碱金属盐为0.1-5%，0.001-0.1%脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂，其余为水。优选HF浓度为30-45%，碱金属盐浓度0.2-1%。碱金属盐可为锂盐，钠盐，和钾盐，可优选钠盐；对应酸根离子可为无机酸根离子如氟离子，氯离子，硝酸根离子，硫酸（氢）根离子，磷酸（氢）根离子，碳酸（氢）根离子等；或有机酸根离子如醋酸和带有上述酸根离子的离子型表面活性剂。可选择一种或几种碱金属盐的混合物。可适用于槽式或淋洗式处理工艺。
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公开(公告)号：CN102745837A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210249598.9
申请日：2012-07-18
Applicant: 上海交通大学 , 杭州格林达化学有限公司
IPC: C02F9/04 , C01B33/148 , C01D3/02 , C02F1/44
Abstract: 本发明涉及一种对玻璃减薄刻蚀废液进行处理回收利用的方法，该方法包括以下步骤：(1)将玻璃减薄刻蚀废液中与碱金属盐混合，使玻璃减薄废液中的氟硅酸生成氟硅酸盐沉淀析出；(2)经过沉降、过滤进行固液分离；(3)将滤液通入扩散渗析装置，移除滤液中多余的碱金属离子，得到酸液；(4)对酸液进行成分补加使其达到玻璃减薄刻蚀使用要求回收利用；(5)对步骤(2)中过滤得到的氟硅酸盐沉淀与纯碱溶液反应，生成金属氟化物以及硅胶沉淀；(6)分离生成的金属氟化物以及硅胶沉淀，金属氟化物返回用于氟硅酸处理，硅胶待销。与现有技术相比，本发明可实现蚀刻废液的回收利用，减少了废液、废渣的排放，降低了环境污染风险，节约生产成本。
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公开(公告)号：CN101314572A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810062961.X
申请日：2008-07-08
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
IPC: C07C211/63 , C07C209/60 , C07C209/00
Abstract: 本发明公开了一种管式反应器缩合反应制备四甲基碳酸氢铵的方法，包括：将原料碳酸二甲酯(DMC)和三甲胺(TMA)以摩尔比0.5－1.5∶1与溶剂混合预热，然后通入管式反应器进行缩合反应，制得四甲基碳酸氢铵，反应后溶剂回收，循环利用。本发明方法采用连续管式反应，能够有效解决间歇釜式反应存在的弊端，并且设施上述方法的设备简单、紧凑，占地面积小，节约投资，使用效率高，很大程度上提升设备的安全系数，产品质量稳定，生产过程控制简洁，有效降低消耗与成本。
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公开(公告)号：CN101314573B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810062962.4
申请日：2008-07-08
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
IPC: C07C211/63 , C07C209/86
Abstract: 本发明公开了一种离子交换树脂处理四甲基碳酸铵的方法，将树脂用酸活化后，用不溶于水和耐酸碱的树脂处理四甲基碳酸铵水溶液，通过离子交换吸附溶液中的金属离子，使四甲基碳酸铵水溶液中单个金属离子含量降低到ppm级，处理后的树脂经过酸处理再生，可以循环利用。本发明方法能够高效、节能地脱除金属离子，吸附率高，并且离子交换树脂容易再生，循环利用，节约成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105908188A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610342582.0
申请日：2016-05-23
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管铜钼层叠膜蚀刻技术领域，具体涉及一种TFT铜钼层叠膜蚀刻液组合物,对于组合物的总重量，由以下组分组成：1?30%重量的过氧化氢；0.01?8%重量的过氧化氢稳定剂；0.5?8%重量的磷酸盐类；0.1?8%重量的无机酸；1?10%重量的金属螯合剂；0.01?5%重量的金属缓蚀剂；余量为水。本发明的蚀刻液组成物无含氟化合物，不会对玻璃基板或硅板产生腐蚀，对环境无污染，反应温和易于控制；金属螯合剂可以螯合产生的铜钼离子，避免双氧水的分解而降低寿命和产线的危险性；使用磷酸盐通过原电池反应自我调节铜钼的蚀刻速率，配合金属缓蚀剂，避免了铜缩进或者钼缩进，蚀刻过程稳定，蚀刻速率适中，蚀刻角度稳定在30~60°，临界尺寸损失小，改善后期铜制程性能。
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公开(公告)号：CN102981523A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210455892.5
申请日：2012-11-14
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
IPC: G05D21/02
Abstract: 本发明提供一种在线测定和控制铝蚀刻液中各种酸浓度的方法，通过在线取样进入自动滴定仪，利用动态pH滴定模式，通过pH电极信号的变化，找到各酸的滴定终点，然后依据滴定剂的标定结果和消耗量，计算样品中硝酸、磷酸和醋酸的含量，测定结果输入电脑主机，进而控制醋酸、硝酸和磷酸向供应槽的补充量，维持槽内铝蚀刻液中三种酸的浓度在规定范围之内。这种检测方法的相对误差低于6%，相对标准偏差低于3%，且可以随时取样，检测速度快，能及时反馈各酸的在线数据，实现铝蚀刻液中各酸浓度的有效控制，使蚀刻机台的蚀刻效果达到最佳。
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公开(公告)号：CN102951761A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210455979.2
申请日：2012-11-14
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光刻胶剥离液废液的回收方法，特别是指将半导体基材上残留的光刻胶除去后的光刻胶剥离液废液的回收方法。本发明首先采用适量的水在酸性条件下分两个步骤沉淀光刻胶主要成分线性酚醛树脂，得到可再次作为光刻胶使用的线性酚醛树脂；然后利用活性炭吸附脱色并除去金属离子；最后经两步式减压蒸馏，除去水分等低沸物质，回收得到纯的光刻胶剥离液。该方法工艺简单，避免了使用昂贵的耐有机溶剂过滤膜或过滤器，有利于工业化大规模回收光刻胶剥离液废液，降低光刻胶剥离液和光刻胶的使用成本。
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公开(公告)号：CN101314573A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810062962.4
申请日：2008-07-08
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
IPC: C07C211/63 , C07C209/86
Abstract: 本发明公开了一种离子交换树脂处理四甲基碳酸铵的方法，将树脂用酸活化后，用不溶于水和耐酸碱的树脂处理四甲基碳酸铵水溶液，通过离子交换吸附溶液中的金属离子，使四甲基碳酸铵水溶液中单个金属离子含量降低到ppm级，处理后的树脂经过酸处理再生，可以循环利用。本发明方法能够高效、节能地脱除金属离子，吸附率高，并且离子交换树脂容易再生，循环利用，节约成本。
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公开(公告)号：CN106701085A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201611231750.5
申请日：2016-12-28
Applicant: 杭州格林达化学有限公司
IPC: C09K13/06
CPC classification number: C09K13/06
Abstract: 本发明涉及一种ITO返工蚀刻液及其制备方法，该蚀刻液由三氯化铁、硫酸、添加剂、表面活性剂和纯水组成，其中添加剂为硫脲及其衍生物或咪唑啉衍生物，表面活性剂为直链烷基苯磺酸钠盐、铵盐或乙醇胺盐阴离子表面活性剂。其制备方法如下:按比例将三氯化铁溶解于高纯水，并添加到混合釜中，然后依次加入硫酸、添加剂及表面活性剂，搅拌循环后进行微滤，得到该配方产品。该蚀刻液成分性能稳定，蚀刻速率快，能很快去除基板制程表面铟锡氧化物(ITO)膜层，添加的添加剂有效的保护下层制程(金属)膜层不被腐蚀，添加的表面活性剂有效的提高蚀刻液浸润性，减少了ITO残留，且该制备工艺简单，原料廉价易得，能更有效地降低工业化生产成本及提高生产效率。
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