公开(公告)号：CN102923963A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201210461629.7

申请日：2012-11-15

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 黄源 ,  徐雅玲 ,  尹云舰 ,  刘志彪 ,  邢攸美

IPC: C03C15/00

Abstract: 本发明公开了一种玻璃减薄刻蚀液补充液，可显著延长玻璃刻蚀液的使用寿命，减少或免除刻蚀废液的处理过程。其主要组成为：HF为20-55%，碱金属盐为0.1-5%，0.001-0.1%脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂，其余为水。优选HF浓度为30-45%，碱金属盐浓度0.2-1%。碱金属盐可为锂盐，钠盐，和钾盐，可优选钠盐；对应酸根离子可为无机酸根离子如氟离子，氯离子，硝酸根离子，硫酸（氢）根离子，磷酸（氢）根离子，碳酸（氢）根离子等；或有机酸根离子如醋酸和带有上述酸根离子的离子型表面活性剂。可选择一种或几种碱金属盐的混合物。可适用于槽式或淋洗式处理工艺。

公开(公告)号：CN102745837A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201210249598.9

申请日：2012-07-18

Applicant: 上海交通大学 ,  杭州格林达化学有限公司

Inventor： 晏乃强 ,  徐雅玲 ,  黄源 ,  瞿赞 ,  李凯华 ,  尹云舰 ,  邢攸美 ,  刘志彪

IPC: C02F9/04 ,  C01B33/148 ,  C01D3/02 ,  C02F1/44

Abstract: 本发明涉及一种对玻璃减薄刻蚀废液进行处理回收利用的方法，该方法包括以下步骤：(1)将玻璃减薄刻蚀废液中与碱金属盐混合，使玻璃减薄废液中的氟硅酸生成氟硅酸盐沉淀析出；(2)经过沉降、过滤进行固液分离；(3)将滤液通入扩散渗析装置，移除滤液中多余的碱金属离子，得到酸液；(4)对酸液进行成分补加使其达到玻璃减薄刻蚀使用要求回收利用；(5)对步骤(2)中过滤得到的氟硅酸盐沉淀与纯碱溶液反应，生成金属氟化物以及硅胶沉淀；(6)分离生成的金属氟化物以及硅胶沉淀，金属氟化物返回用于氟硅酸处理，硅胶待销。与现有技术相比，本发明可实现蚀刻废液的回收利用，减少了废液、废渣的排放，降低了环境污染风险，节约生产成本。

公开(公告)号：CN106479505A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201610860973.1

申请日：2016-09-29

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 胡涛 ,  刘志彪 ,  陈虹飞 ,  邢攸美 ,  尹云舰

IPC: C09K13/06

CPC classification number: C09K13/06

Abstract: 一种用于ITO导电薄膜的高精细蚀刻液及其制备方法，重量百分比组成如下：硝酸2～8％，硫酸2～12％，添加剂0.01～2％，余量水，所述添加剂为碱金属盐和有机物的混合物，有机物选用硫脲衍生物、六次甲基四胺、咪唑、苯并三氮唑和2,4,6-三羟基苯甲酸中的任意一种。本发明的蚀刻液以硝酸和硫酸为主要成分，工艺简单，酸浓度适中，对ITO导电薄膜具有优异的蚀刻性能，蚀刻速率适中，蚀刻精度高无残留，能够满足不同厚度ITO的蚀刻要求。同时采用一种碱金属盐和一种有机物作为添加剂，对下层金属Al或者Mo都具有优异的抗蚀效果，能够很好的满足技术工艺和制程要求。另外，该蚀刻液以低成本硫酸为原料，在满足技术工艺和制程要求的基础上有利于降低蚀刻液的成本。

公开(公告)号：CN106701085A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201611231750.5

申请日：2016-12-28

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 刘志彪 ,  邢攸美 ,  尹云舰 ,  胡涛 ,  陈虹飞

IPC: C09K13/06

CPC classification number: C09K13/06

Abstract: 本发明涉及一种ITO返工蚀刻液及其制备方法，该蚀刻液由三氯化铁、硫酸、添加剂、表面活性剂和纯水组成，其中添加剂为硫脲及其衍生物或咪唑啉衍生物，表面活性剂为直链烷基苯磺酸钠盐、铵盐或乙醇胺盐阴离子表面活性剂。其制备方法如下:按比例将三氯化铁溶解于高纯水，并添加到混合釜中，然后依次加入硫酸、添加剂及表面活性剂，搅拌循环后进行微滤，得到该配方产品。该蚀刻液成分性能稳定，蚀刻速率快，能很快去除基板制程表面铟锡氧化物(ITO)膜层，添加的添加剂有效的保护下层制程(金属)膜层不被腐蚀，添加的表面活性剂有效的提高蚀刻液浸润性，减少了ITO残留，且该制备工艺简单，原料廉价易得，能更有效地降低工业化生产成本及提高生产效率。

公开(公告)号：CN203428994U

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201320463742.9

申请日：2013-07-30

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 梁小朝 ,  黄源 ,  尹云舰 ,  刘志彪 ,  连杰

IPC: C02F9/02

Abstract: 一种四甲基氢氧化铵提浓装置，包括废液槽、过滤装置和反渗透槽，所述废液槽设有用以废液流入的第一进口和用于添加吸附剂的第二进口，所述废液槽的出口与所述过滤装置的进口连通，所述过滤装置还设有用以添加吸附剂的加料口，所述过滤装置的出口与第一连接管道一端连接，所述第一连接管道的另一端与所述反渗透槽连接，所述第一连接管道上安装加压泵和单向进料阀，所述反渗透槽的进料腔和出料腔之间安装反渗透膜，所述进料腔设有四甲基氢氧化铵提浓液出口，所述出料腔设有水出口。本实用新型提供了一种减少能耗、降低成本、提升利用率的四甲基氢氧化铵提浓装置。