公开(公告)号：CN106227003A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201610861011.8

申请日：2016-09-29

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 李盈盈 ,  邢攸美 ,  王海龙 ,  洪明卫 ,  尹云舰 ,  王小眉 ,  于晓芳

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/322

Abstract: 本发明涉及一种显影液，重量百分比组成如下：有机碱：0.01-60％，非离子表面活性剂：0.01-10％，两性表面活性剂：0.01-15％，有机溶剂：1-10％，余量为水。本发明应用有机强碱显影液，对光刻胶的渗透性好，显影速率快，金属含量为ppb级别，从而消除了金属离子杂质对TFT晶体管的不利影响；添加非离子表面活性剂及两性离子表面活性剂等，不仅兼顾了消泡性、分散稳定性，而且克服了现有技术显影液膜渣残留及操作温度范围窄的缺点；添加了水溶性有机溶剂，大大提高了显影使用时的持久性。该显影液在拥有优异的显影性能的同时，还具有低泡沫、对彩色光阻具有良好的分散稳定性，有效降低膜渣的形成，显影性能好，无残渣，操作温度范围宽等特点。

公开(公告)号：CN105908188A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201610342582.0

申请日：2016-05-23

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 洪明卫 ,  邢攸美 ,  李盈盈 ,  高立江

IPC: C23F1/44 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26

CPC classification number: C23F1/44 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26

Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管铜钼层叠膜蚀刻技术领域，具体涉及一种TFT铜钼层叠膜蚀刻液组合物,对于组合物的总重量，由以下组分组成：1?30%重量的过氧化氢；0.01?8%重量的过氧化氢稳定剂；0.5?8%重量的磷酸盐类；0.1?8%重量的无机酸；1?10%重量的金属螯合剂；0.01?5%重量的金属缓蚀剂；余量为水。本发明的蚀刻液组成物无含氟化合物，不会对玻璃基板或硅板产生腐蚀，对环境无污染，反应温和易于控制；金属螯合剂可以螯合产生的铜钼离子，避免双氧水的分解而降低寿命和产线的危险性；使用磷酸盐通过原电池反应自我调节铜钼的蚀刻速率，配合金属缓蚀剂，避免了铜缩进或者钼缩进，蚀刻过程稳定，蚀刻速率适中，蚀刻角度稳定在30~60°，临界尺寸损失小，改善后期铜制程性能。