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    用于制造图章印刷印版的设备
    71.
    发明公开
    用于制造图章印刷印版的设备 失效

    公开(公告)号：CN102729586A

    公开(公告)日：2012-10-17

    申请号：CN201210162126.X

    申请日：2012-04-13

    申请人： 克罗普压印器制造斯科皮克两合公司

    发明人： E·费伯

    IPC分类号： B41C1/14

    CPC分类号： G03F7/0017 ,  G03F7/2014

    摘要： 一种通过对由多孔热塑性材料制成的图章版坯件局部曝光和加热来制造图章印刷印版的设备；该设备包括至少一曝光灯，该曝光灯被布置在壳体中在用于支撑版坯件的玻璃板支撑件的下方；玻璃板支撑件由两块玻璃板形成，这两块玻璃板以一个在另一个之上的方式间隔开地布置，从而在玻璃板之间形成间隙。

    纳米图案化方法及制造母板和离散轨道磁记录介质的方法
    72.
    发明授权
    纳米图案化方法及制造母板和离散轨道磁记录介质的方法 失效

    公开(公告)号：CN101403854B

    公开(公告)日：2012-08-08

    申请号：CN200810145253.2

    申请日：2008-08-04

    申请人： 三星电子株式会社

    发明人： 金海成 ,  李明馥 ,  孙镇昇

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G11B5/84

    CPC分类号： G03F7/2014 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70375

    摘要： 本发明提供了一种纳米图案化的方法和一种制造纳米压印母板和离散轨道磁记录介质的方法。该纳米图案化的方法包括以下步骤：(a)在基底上顺序地形成蚀刻目标材料层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层，第一图案具有线图案以预定的间隔被重复布置的结构；(b)将光照射到金属层的表面上，以激发表面等离子体激元，使得光致抗蚀剂层通过表面等离子体激元被曝光成第二图案；(c)去除金属层并对光致抗蚀剂层进行显影；(d)利用被图案化成第二图案的光致抗蚀剂层作为掩模对蚀刻目标材料层进行蚀刻。

    壳体的制作方法
    74.
    发明授权
    壳体的制作方法 失效

    公开(公告)号：CN101636049B

    公开(公告)日：2012-07-04

    申请号：CN200810302956.1

    申请日：2008-07-23

    申请人： 深圳富泰宏精密工业有限公司

    发明人： 杨桂云 ,  黄仁隆 ,  林兆焄 ,  李彬 ,  刘睿

    IPC分类号： H05K5/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  B44D5/10

    CPC分类号： H04M1/0283 ,  B44C3/025 ,  G03F7/2014

    摘要： 一种壳体的制作方法，用以使该壳体表面获得编织图纹效果，其包括如下步骤：设计制作一菲林，该菲林上设置有遮光区及透光区；提供一壳体，在该壳体上涂覆感光材料；将所述菲林贴合于壳体上，并使菲林曝光，使壳体上对应于菲林透光区的感光材料发生光反应而凝固；揭掉菲林，清除壳体上对应于菲林遮光区的感光材料，使壳体的该区域裸露；对壳体进行第一次拉丝，在裸露的壳体上形成拉丝纹路；遮蔽所述壳体上形成有拉丝纹路的一部分区域；对该壳体进行不同方向的第二次拉丝。

    用于保护光掩模的胶粘带
    75.
    发明授权
    用于保护光掩模的胶粘带 有权

    公开(公告)号：CN101589340B

    公开(公告)日：2012-03-28

    申请号：CN200880002921.4

    申请日：2008-03-14

    申请人： 积水化学工业株式会社

    发明人： 多田博士 ,  神谷信人

    IPC分类号： G03F1/48 ,  C09J7/02

    CPC分类号： G03F1/48 ,  C09J7/35 ,  C09J2475/00 ,  C09J2483/00 ,  G03F7/2014

    摘要： 本发明提供一种用于保护光掩模的胶粘带，该胶粘带在与具有粘合性的光致抗蚀剂相贴合并反复使用时也可以在剥离性不下降的情况下使用。其含有透明基体材料膜或片(A)、和在基体材料膜或片(A)的一面形成的粘合剂层(B)、及在与形成粘合剂层(B)的面相反的一面形成的表面层(C)，其中，表面层(C)由特定的固化物构成，所述固化物由含有异氰酸酯硅烷(x)和末端具有羟基的硅氧烷(y)的混合物获得。

    立体图纹形成方法
    76.
    发明公开
    立体图纹形成方法 失效

    公开(公告)号：CN102141728A

    公开(公告)日：2011-08-03

    申请号：CN201010533687.7

    申请日：2010-10-29

    申请人： 仁宝电脑工业股份有限公司

    发明人： 张建明 ,  吴荣钦 ,  庄万历

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F7/24 ,  B44C1/227 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2032

    摘要： 本发明公开一种立体图纹形成方法，步骤包含：提供一成型工件，其外表面与内表面分别具有一第一光阻层与一第二光阻层；将成型工件置于在一透光治具上；曝光及显影第一光阻层与第二光阻层，使得第一光阻层形成一图案化光阻层，第二光阻层形成一蚀刻保护层；蚀刻成型工件，以使成型工件的外表面形成一立体图纹；以及移除图案化光阻层与蚀刻保护层。

    使用可去除膜制备浮雕图像
    77.
    发明授权
    使用可去除膜制备浮雕图像 失效 转让

    公开(公告)号：CN101176039B

    公开(公告)日：2011-03-09

    申请号：CN200680016806.3

    申请日：2006-05-02

    申请人： 伊斯曼柯达公司

    发明人： G·L·茨沃德洛

    IPC分类号： G03F1/10 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F1/68 ,  G03F1/56 ,  G03F7/2014

    摘要： 本发明涉及使用可去除膜制备具有浮雕图像的制品的方法。首先，将至少包含掩模基体和可成像材料的可成像膜成像式曝光于成像性辐射中形成成像膜。然后将该成像膜转移到可成像制品上，例如平板印版前体。将所形成的组件曝光于固化性辐射中，在可成像制品上形成光敏材料的曝光和未曝光区域。在曝光于固化性辐射之后，然后将该成像膜从可成像制品上去除。然后用适当的显影剂使该可成像制品显影，形成浮雕图像。然后该成像膜可以重复使用以制备其它具有浮雕图像的制品。