Invention Grant
- Patent Title: 用于保护光掩模的胶粘带
- Patent Title (English): Pressure-sensitive adhesive tape for the protection of photo masks
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Application No.: CN200880002921.4Application Date: 2008-03-14
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Publication No.: CN101589340BPublication Date: 2012-03-28
- Inventor: 多田博士 , 神谷信人
- Applicant: 积水化学工业株式会社
- Applicant Address: 日本大阪府
- Assignee: 积水化学工业株式会社
- Current Assignee: 积水化学工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本大阪府
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 张平元
- Priority: 077636/2007 2007.03.23 JP; 104866/2007 2007.04.12 JP; 314880/2007 2007.12.05 JP
- International Application: PCT/JP2008/054708 2008.03.14
- International Announcement: WO2008/117677 JA 2008.10.02
- Date entered country: 2009-07-23
- Main IPC: G03F1/48
- IPC: G03F1/48 ; C09J7/02

Abstract:
本发明提供一种用于保护光掩模的胶粘带,该胶粘带在与具有粘合性的光致抗蚀剂相贴合并反复使用时也可以在剥离性不下降的情况下使用。其含有透明基体材料膜或片(A)、和在基体材料膜或片(A)的一面形成的粘合剂层(B)、及在与形成粘合剂层(B)的面相反的一面形成的表面层(C),其中,表面层(C)由特定的固化物构成,所述固化物由含有异氰酸酯硅烷(x)和末端具有羟基的硅氧烷(y)的混合物获得。
Public/Granted literature
- CN101589340A 用于保护光掩模的胶粘带 Public/Granted day:2009-11-25
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