公开(公告)号：CN108747028A

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201810427352.3

申请日：2018-05-07

申请人： 贵州拙意堂文化发展有限公司

发明人： 田小江

IPC分类号： B23K26/362 ,  B28D1/22 ,  B44C1/00 ,  B44C1/22 ,  C04B41/00 ,  C04B41/63

CPC分类号： B28D1/22 ,  B23K26/361 ,  B44C1/00 ,  B44C1/227 ,  C04B41/0072 ,  C04B41/478 ,  C04B41/63 ,  C04B41/46 ,  C04B41/47

摘要： 本发明工艺品加工技术领域，尤其涉及一种浸染朱砂的原石工艺品的加工方法，该方法包括原石处理、酸浸、朱砂填充、包膜，通过原石真空微波加热处理，选择较高压强的环境下使用强酸稀释液涂抹，再使用碱液清洗，最后使用蜡液喷涂，在原石表面形成保护膜。加工出来的原石色料接近天然形成的色泽，质地温润，长时间保存也不会影响外观，适合人造原石或者原石再加工，增加原石艺术价值。

公开(公告)号：CN103367111B

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201210360017.9

申请日：2012-09-24

申请人： 斯克林集团公司

发明人： 太田乔 ,  赤西勇哉 ,  桥诘彰夫

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC分类号： B05C5/0225 ,  B05C9/06 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B44C1/227 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67207

摘要： 提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：水分除去工序，从基板上除去水分；硅烷化工序，在所述水分除去工序之后，对基板供给硅烷化试剂；蚀刻工序，在所述硅烷化工序之后，对所述基板供给蚀刻剂。所述基板的表面可以露出氮化膜以及氧化膜，此时，所述蚀刻工序可以是通过所述蚀刻剂对所述氮化膜进行选择蚀刻的选择蚀刻工序。可以通过供给含有蚀刻成分的蒸汽的方式供给所述蚀刻剂。

公开(公告)号：CN102869629B

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：CN201180021576.0

申请日：2011-04-27

申请人： 康宁股份有限公司

发明人： D·K·吉尔福伊勒 ,  J·T·科利 ,  K·恩古耶 ,  张鲁

IPC分类号： C03C3/087 ,  C03C3/093 ,  C03C15/00 ,  C03C17/00

CPC分类号： C03C15/00 ,  B44C1/227 ,  B81C1/00539 ,  C03C3/087 ,  C03C3/093 ,  C03C17/007 ,  C03C2204/08 ,  C03C2217/42 ,  C03C2218/34 ,  C03C2218/355 ,  G02F1/133502 ,  Y10T428/24355

摘要： 一种玻璃制品，包括：至少一个防眩光表面，所述表面具有本文所定义的雾度、鲜映度、表面粗糙度和均匀性。一种制备玻璃制品的方法，包括例如在制品表面上沉积牺牲粒子，然后使所得的微粒化表面接触蚀刻剂。本发明还揭示了一种结合了如本文所定义的玻璃制品的显示系统。

公开(公告)号：CN106335312A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610796245.9

申请日：2016-08-31

申请人： 首都师范大学

发明人： 周晶 ,  刘东东

IPC分类号： B44C5/04 ,  B44C1/22 ,  B44C1/20

CPC分类号： B44C5/0446 ,  B44C1/20 ,  B44C1/227

摘要： 本发明公开了一种用于塑料版画制作的化学刻蚀方法。该方法包括在塑料板上起稿的步骤；其中，所述方法还包括：在所述起稿步骤之后对塑料板进行刻制的步骤：用沾取能够腐蚀所述塑料板的溶剂的中空笔状物进行刻制，使所述中空笔状物外层及中空部分均沾取到能够腐蚀所述塑料板的溶剂。所述能够腐蚀所述塑料板的溶剂为有机溶剂、N,N-二甲基丙酰胺和丙酮中的至少一种。构成所述塑料板的材料为聚氯乙烯或聚苯乙烯。所述中空笔状物为鹅毛笔、移液枪枪头或中空笔芯。所述刻制为按照起稿图案在所述塑料板上刻蚀所述起稿图案对应的凹槽或纹路。该方法，可用于凹版雕刻，也可用于凸版雕刻。该方法可单独用于版画制作，也可用于刀刻版画的补充。

公开(公告)号：CN102848841B

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201210218759.8

申请日：2012-06-28

申请人： 株式会社杢目金屋

发明人： 高桥正树

IPC分类号： B32B3/10 ,  B32B15/01 ,  B44C1/24

CPC分类号： B21C37/02 ,  B32B15/01 ,  B44C1/227 ,  B44C1/228 ,  B44C3/005 ,  Y10T29/49593 ,  Y10T29/49995 ,  Y10T428/12396

摘要： 本发明在金属体表面形成图案的方法中，提供一种能够保持图案形成后的金属体表面的齐平面性，同时形成更准确、审美性高的图案的技术。在延展的多层状金属体14的表面形成随着从阶梯状外侧接近内侧，达到金属层12h、12g、12f、…中更下层金属层的图案形状的凹部16。凹部16以阶梯状形成，最内侧从表面到达金属层12f的内部，其外侧从表面到达金属层12f的上面，最外侧12g到达金属层12g的上面。为了形成凹部16而除去的金属残留在内部，能够有效抑制其产生于最终得到的图案部分18，稳定地形成期望的图案。

公开(公告)号：CN105480000A

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201510853338.6

申请日：2015-11-30

申请人： 苏州市金星工艺镀饰有限公司

发明人： 冯正元 ,  冯育华

IPC分类号： B44C5/00 ,  B44C1/20 ,  B44C1/22 ,  C23C14/35 ,  C23C14/18 ,  C25D5/02 ,  C25D3/48 ,  C25D3/46

CPC分类号： B44C5/00 ,  B44C1/20 ,  B44C1/227 ,  C23C14/185 ,  C23C14/35 ,  C25D3/46 ,  C25D3/48 ,  C25D5/022

摘要： 本发明公开一种金银双色图案水晶摆台的制作方法,包括以下步骤：磁控溅射一层铬铜种子层；旋涂光刻胶，在摆台的中间区域选择性光刻，露出第一掩膜图形；在第一掩膜图形的窗口上电镀银至银层的顶端超过光刻胶掩膜平面，银层顶端进行磨砂处理至与光刻胶表面平齐；使用第二掩膜版在摆台的环形边缘区域选择性光刻，露出第二掩模图形；在第二掩模图形的窗口上电镀金，得到镀金层；然后置入丙酮中，超声除胶，洗净烘干。该制作方法得到的水晶摆台图案和颜色丰富多样；产品的立体感强，方法重复性好，适于工业批量生产。

公开(公告)号：CN103171288B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201210576369.8

申请日：2012-12-26

申请人： 佳能株式会社

发明人： 古泽健太 ,  松本圭司 ,  岸本圭介 ,  浅井和宏 ,  小山修司

IPC分类号： B41J2/16

CPC分类号： B44C1/227 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1643 ,  Y10T29/49401

摘要： 本发明提供一种用于喷墨头基板的处理方法，包括：在基板上形成阻挡层并且在阻挡层上形成种子层；在种子层上形成抗蚀膜并且对抗蚀膜进行图案化以使得图案化后的抗蚀膜与用于将喷墨头电连接到喷墨头外部的盘部相对应；在图案化后的抗蚀膜的开口中形成盘部；去除抗蚀膜；对基板进行各向异性蚀刻以形成供墨口；去除阻挡层和种子层；以及从基板的表面进行激光处理。

公开(公告)号：CN102971121B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201180033225.1

申请日：2011-07-04

申请人： 肖特公开股份有限公司

发明人： 库尔特·纳特尔曼 ,  乌尔里希·珀什尔特 ,  沃尔夫冈·默勒 ,  斯蒂芬·贝勒 ,  德克·魏德曼 ,  赛宾·莱尼克

IPC分类号： B26F1/28

CPC分类号： B44C1/227 ,  B26F1/28 ,  B81C1/00087 ,  C03C23/00

摘要： 一种用于在以薄片材和基板形式的电介质工件(1)中、特别是在玻璃或玻璃状材料和半导体中产生孔(12)的设备。对称地围绕工件(1)中要产生的孔(12)，将独立电极(6a、6b、6c)布置在电极保持件(21)上，并且将独立对电极(7a、7b、7c)布置在对电极保持件(31)上。独立电极(6a、6b、6c)和独立对电极(7a、7b、7c)能够以置换方式连接至用于释放高电压闪络的高电压源。

公开(公告)号：CN103155117B

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201180048666.9

申请日：2011-09-29

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 置田尚吾 ,  古川良太 ,  稻本吉将 ,  水上达弘

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/683

CPC分类号： B44C1/227 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68771 ,  H01L33/005

摘要： 本发明提供一种基板的等离子体处理方法。通过实施如下工序而在等离子体处理中去除基板的缘部以及托盘所附着的副生成物以提高产品的品质，这些工序为：基板载置工序，将设置有收容基板的多个基板收容孔、且具有从各个基板收容孔的内壁突出的基板支撑部的托盘载置于基板台的托盘支撑部上，并且将基板载置于各个基板保持部上，由此成为使从基板保持部的端缘伸出的基板的缘部和基板支撑部分离的状态；第一等离子体处理工序，使腔室内减压并且供给处理气体，来进行对各个基板的等离子体处理；第二等离子体处理工序，在托盘以及各个基板被载置于基板台上的状态下，使腔室内减压并且供给处理气体来实施等离子体处理，通过第一等离子体处理工序的实施来去除在基板的缘部与基板支撑部所附着的副生成物。

公开(公告)号：CN104736350A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201380050191.6

申请日：2013-08-12

申请人： 山特维克材料科技山特维克表面解决方案部德国有限公司

发明人： H·波伊斯特

IPC分类号： B44B5/02 ,  B29C59/02 ,  B44C1/22

CPC分类号： B29C59/02 ,  B24C1/04 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/424 ,  B29C59/022 ,  B29C59/04 ,  B29C2033/0094 ,  B29L2007/002 ,  B29L2031/722 ,  B44B5/026 ,  B44C1/221 ,  B44C1/227

摘要： 一种用于制造压印模具的、特别是冲压板或冲压带的结构化表面的方法，所述压印模具用于制造表面被结构化的板材和或带材，其中，在时间上相互分离的处理步骤中对两个或更多个彼此不同的部分面进行结构化，其中，每个处理步骤以列出的顺序包括下列步骤：v.如果在处理步骤中不需被结构化的部分面还没有掩蔽，那么利用遮盖物掩蔽这些在处理步骤中不需被结构化的部分面；vi.剥落未掩蔽的表面的表面材料用以产生表面结构；vii.作为可选，除去为了对部分面进行结构化所使用的介质；和viii.作为可选，除去部分遮盖物或整个遮盖物。利用通过这种方式制造的压模能够制造仿木地板，其光学印象明显地比利用传统压模的情况明显更接近包括多个杆的实木地板。