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公开(公告)号：CN101817257A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN201010122999.9
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1629 , B41J2/1603 , B41J2/1631 , B41J2/1634
Abstract: 一种液体排出头用基板的制造方法，该基板是具有第一面和与第一面相反的第二面的硅基板，该制造方法包括如下步骤：在硅基板的第二面上提供如下的层：当暴露于硅的蚀刻剂时，该层具有比硅的蚀刻速率低的蚀刻速率；部分地去除该层，以使硅基板的第二面的一部分露出，其中，露出部分包围该层的至少一部分；以及使用硅的蚀刻剂对该层和硅基板的第二面的所述露出部分进行湿法蚀刻，以形成从硅基板的第二面延伸到第一面的液体供给口。
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公开(公告)号：CN102191063B
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201110029956.0
申请日：2011-01-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C09K13/02 , H01L21/02 , H01L21/306 , B41J2/16
CPC classification number: H01L21/30608 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , C09K13/02
Abstract: 液体组合物，其用于进行硅基板的晶体各向异性蚀刻，该硅基板设置有由硅氧化物膜形成的蚀刻掩模，该硅氧化物膜用作掩模，该液体组合物包括：氢氧化铯、碱性有机化合物和水。
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公开(公告)号：CN101032885B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200710080082.5
申请日：2007-03-07
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , H01L21/76898
Abstract: 本发明提供一种喷墨头基片和喷墨头及其制造方法。该喷墨头基片的制造方法包括在硅基片中形成供墨口，该方法包括：在基片的一面形成蚀刻掩模层的步骤，该蚀刻掩模层在与供墨口相对应的位置处具有开口；沿开口的长度方向形成至少两行通过蚀刻掩模层的开口的未穿透孔的步骤；以及通过在开口中对基片进行晶体各向异性蚀刻来形成供墨口的步骤。
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公开(公告)号：CN1621236B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200410097310.6
申请日：2004-11-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1639 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1635 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2002/14403 , B41J2002/14475
Abstract: 提供一种喷墨记录头的制造方法、喷墨记录头以及喷墨墨盒。该喷墨头的制造方法，包括：准备硅基板的工序；在该基板的第一面上，形成具有设置了作为过滤器掩模的多个孔的层、以及覆盖该第一面使得第一面不从该多个孔露出的层的膜片的工序；在该基板上形成的膜片上形成紧密接触提高层的工序；在该紧密接触提高层上，形成构成多个喷出口和与该多个喷出口分别连通的多个墨流路的流路构成构件的工序；在硅基板上，通过各向异性刻蚀，从与基板的第一面相对的第二面一侧形成与多个墨流路连通的墨供给口的工序；以及将膜片的设置了多个孔的层作为掩模，在紧密接触提高层的位于墨供给口的开口部内的部位上形成过滤器的工序。
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公开(公告)号：CN101811395A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010125866.7
申请日：2010-02-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1635 , B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1639 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , Y10T29/49083 , Y10T29/49128 , Y10T29/4913 , Y10T29/49165 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明的目的是提供一种简单并且精确地制造排液头的方法，在所述排液头中，排出口与能量产生元件之间的距离是均匀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1093040C
公开(公告)日：2002-10-23
申请号：CN95102447.7
申请日：1995-03-03
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小泉宽 , 杉谷博志 , 稻页正树 , 池田雅実 , 笠本雅己 , 折笠刚 , 木村牧子 , 樫野俊雄 , 刈田诚一郎 , 小山修司 , 寺井晴彦 , 林崎公之 , 后藤显 , 小俣好一 , 小野敬之
CPC classification number: B41J2/1623 , B41J2/14024 , B41J2/155 , B41J2/1601 , B41J2/1604 , B41J2/1632 , B41J2/1637 , B41J3/4078 , B41J2002/14362 , B41J2202/03 , B41J2202/11 , B41J2202/20
Abstract: 一种通过喷射液体进行记录的喷液记录头，包括：多个元件基座(100)，每个元件基座都具有多个用于喷射液体的喷射能产生部件(101)；一个基板(300)，用于在其一个表面上支承在一个阵列中的该多个元件基座(100)；一个开槽部件(200)，其长度对应于所述阵列的长度并具有与所述多个元件基座(100)上的所述喷射能产生部件(101)相对应的通路(202)，其特征在于在相邻的所述元件基座之间形成有一个间隙。
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公开(公告)号：CN1204578A
公开(公告)日：1999-01-13
申请号：CN98115676.2
申请日：1998-07-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1625 , B41J2/162 , B41J2/1643 , B41J2202/03
Abstract: 一种用于液体释放器的孔板的制造方法,该液体释放器配有排出液体的排出口,该方法包括步骤,制备非传导板,该板有在对应于所述排出口的平坦部分周边上形成的凹槽部分;仅在所述非传导板的凹槽部分中,形成可与所述非传导板剥离的第一传导材料;其后,通过电铸方法用第二传导材料镀敷所述第一传导材料形成镀敷部件;剥离所述镀敷部件获得带有所述排出口的孔板。利用这样方法,能够实现与用于光刻的玻璃掩模同样的精度,并使孔区域的变化更小,以形成高密度的孔。
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公开(公告)号：CN1110945A
公开(公告)日：1995-11-01
申请号：CN95102447.7
申请日：1995-03-03
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 小泉宽 , 杉谷博志 , 稻页正树 , 池田雅実 , 笠本雅己 , 折笠刚 , 木村牧子 , 野俊雄 , 刈田诚一郎 , 小山修司 , 寺井晴彦 , 林崎公之 , 后藤显 , 小俣好一 , 小野敬之
CPC classification number: B41J2/1623 , B41J2/14024 , B41J2/155 , B41J2/1601 , B41J2/1604 , B41J2/1632 , B41J2/1637 , B41J3/4078 , B41J2002/14362 , B41J2202/03 , B41J2202/11 , B41J2202/20
Abstract: 一种通过喷墨进行记录的喷墨记录头，包括：多个元件基座，每个元件基底都具有多个用于喷墨的喷射能产生部件；一个基板，用于在其一个表面上支承多个阵列形式的元件基座；一个开槽部件，其长度对应于所述阵列的长度，并具有与所述多个元件基座上的喷射能产生部件相对应的通路。
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公开(公告)号：CN102470674B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201080034835.9
申请日：2010-07-29
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1634 , B41J2/1639
Abstract: 本发明提供一种液体排出头用基板的制造方法，液体排出头用基板包括第一面、产生将液体排出到与第一面相反的第二面的能量用的能量产生元件以及用于将液体供给到能量产生元件的液体供给口。所述方法包括：制备硅基板，该硅基板在第一面具有蚀刻掩模层，蚀刻掩模层具有与将要形成液体供给口的部分对应的开口，并且该硅基板具有设置于开口内的第一凹部和设置于第二面的将要形成液体供给口的区域中的第二凹部，第一凹部和第二凹部通过基板的一部分而彼此分离；以及从第一面的开口起通过结晶各向异性蚀刻来对硅基板进行蚀刻以形成液体供给口。
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公开(公告)号：CN102398423B
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201110262633.6
申请日：2011-09-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/16
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1606 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供了一种液体喷射头的制造方法，该方法包括以下的步骤：制备具有流路壁部件的基板；使流路壁部件与由光固化树脂构成并且用作喷射口部件的树脂层接合使得在内侧提供用作流路的空间；在树脂层中设置通孔，使得空间与外部空气连通；将树脂层的一部分曝光；加热树脂层的曝光部分；和从加热的树脂层去除未曝光部分以形成喷射口，由此在树脂层中形成喷射口部件。
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