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公开(公告)号:CN105097447B
公开(公告)日:2019-06-11
申请号:CN201510241268.9
申请日:2015-05-13
申请人: 佳能株式会社
CPC分类号: B41J2/1645 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , H01L21/306
摘要: 基板加工方法和制造液体排出头用基板的方法。该基板加工方法包括:在硅基板的第一表面形成第一孔,所述第一孔具有未贯通基板的深度;以及以使第二孔与第一孔连通的方式在第二表面形成第二孔,使得在基板中形成由第一孔和第二孔形成的通孔。形成第二孔的方法包括:在使第二孔与第一孔连通之后,通过干蚀刻在第一孔和第二孔之间形成比第一孔的开口宽的连通部。
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公开(公告)号:CN106364159B
公开(公告)日:2018-12-11
申请号:CN201610552731.6
申请日:2016-07-14
申请人: 佳能株式会社
发明人: 小土井拓真
IPC分类号: B41J2/01
CPC分类号: B41J2/1433 , B41J2/14145 , B41J2202/11
摘要: 提供一种液体喷出头,其包括:液室、供给口和记录元件基板,该记录元件基板配置在隔着液室与供给口相对的位置。该液室包括:第一表面,其与供给口连接;空间室,其具有沿远离记录元件基板的方向延伸的壁面,该壁面与第一表面连接;和第二表面,其使空间室的壁面与记录元件基板彼此连接。空间室的壁面与从第一表面延伸的平面的交叉部距记录元件基板的距离比空间室的壁面与第二表面之间的连接部距记录元件基板的距离远。
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公开(公告)号:CN108367568A
公开(公告)日:2018-08-03
申请号:CN201680068921.9
申请日:2016-02-24
CPC分类号: B41J2/135 , B41J2/14 , B41J2/1404 , B41J2/14072 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1632 , B41J2/1637 , B41J2/175 , B41J2/1753 , B41J2/17553
摘要: 示例包括流体喷射装置,所述流体喷射装置包括模制板、模制在所述模制板中的喷射管芯、以及模制在所述模制板中的集成电路。所述喷射管芯包括喷射喷嘴以选择性地分配打印材料。集成电路接收喷嘴数据并且至少部分地基于该喷嘴数据来控制打印材料通过喷射喷嘴的选择性分配。模制板具有从其穿过形成的流体连通通道并且流体连接到喷射管芯。
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公开(公告)号:CN105121167B
公开(公告)日:2017-11-14
申请号:CN201380076068.1
申请日:2013-09-27
CPC分类号: B41J2/17526 , B41J2/14072 , B41J2/14145 , B41J2/1433 , B41J2/155 , B41J2/1601 , B41J2/1603 , B41J2/1607 , B41J2/1628 , B41J2/1637 , B41J2/17553 , B41J2002/14362 , B41J2002/14419 , B41J2202/20
摘要: 在一个例子中,打印头包括:打印头芯片,其具有正面,流体可沿所述正面从所述芯片被分配,所述芯片被模塑到其中具有通道的单块模塑件中,通过该通道,流体可直接传送到所述芯片的背部,所述芯片的所述正面暴露于所述模塑件外,并且所述芯片的所述背部除所述通道处之外都被所述模塑件覆盖;电接触件,其暴露于所述模塑件外,以连接到所述打印头外的电路;印刷电路板,其被模塑到所述模塑件中,所述印刷电路板具有与所述芯片的露出的正面共面并包围所述芯片的露出的正面的露出的正面,并且具有电连接到所述接触件的导体;以及在所述芯片和所述印刷电路板导体之间的被完全包裹在所述模塑件中的电连接结构。
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公开(公告)号:CN105121171B
公开(公告)日:2017-11-03
申请号:CN201380076069.6
申请日:2013-02-28
CPC分类号: B41J2/17526 , B41J2/14072 , B41J2/14145 , B41J2/1433 , B41J2/155 , B41J2/1601 , B41J2/1603 , B41J2/1607 , B41J2/1628 , B41J2/1637 , B41J2/17553 , B41J2002/14362 , B41J2002/14419 , B41J2202/20
摘要: 在一个示例中,一种打印棒包括:多个打印头芯片,其模制到细长的单块电路式主体中。所述芯片总体上沿所述主体的长度端到端布置,所述主体中具有通道,流体能够穿过所述通道直接传送到所述芯片。
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公开(公告)号:CN107206790A
公开(公告)日:2017-09-26
申请号:CN201580075032.0
申请日:2015-04-27
IPC分类号: B41J2/14
CPC分类号: B41J2/14032 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1601 , B41J2/1631 , B41J2202/05 , B41J2/14201
摘要: 在一些实例中,打印头可以包括:主打印机流体管线;与主打印机流体管线流体连通用以接收来自主打印机流体管线的打印机流体的喷发室;和位于喷发室中的电阻器。该电阻器可以例如接收电子流从而使电阻器加热并且将打印机流体微滴从打印头中喷射出。打印头还可以包括位于喷发室中的用光刻法制造的止回阀。止回阀可以例如可开启从而允许用打印机流体填充喷发室并且可闭合从而至少部分地将主打印机流体管线密封以防止由电阻器所造成的打印机流体后泄。
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公开(公告)号:CN105142915B
公开(公告)日:2017-08-08
申请号:CN201380076065.8
申请日:2013-07-29
CPC分类号: B41J2/1637 , B29C69/001 , B41J2/14016 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/14201 , B41J2/1433 , B41J2/155 , B41J2/1601 , B41J2/1603 , B41J2/1607 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1632 , B41J2/1645 , B41J2002/14419 , B41J2002/14491 , B41J2202/19 , B41J2202/20 , H05K1/186 , H05K3/284 , H05K3/32 , H05K3/4007 , H05K2203/0228 , H05K2203/1316
摘要: 在实施例中,一种流体流动结构包括:嵌入模塑件中的微型装置;贯穿所述微型装置形成的流体供给孔。流体通道被流体耦接到所述流体供给孔,并且包括第一压缩模塑通道区段和第二材料消除通道区段。
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公开(公告)号:CN105082766B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201510239469.5
申请日:2015-05-12
申请人: 佳能株式会社
IPC分类号: B41J2/14
CPC分类号: B41J2/1433 , B41J2/14024 , B41J2/14145 , B41J2202/11
摘要: 液体喷出头和记录设备。提供的液体喷出头包括:支撑构件;液室构件,其包括被构造成在液室中储存液体的液室并且通过粘接剂安装于所述支撑构件;以及记录元件基板,其通过粘接剂固定于所述液室构件,并且包括供液体喷出的喷出口和用于产生喷出能量的记录元件。所述支撑构件和所述液室构件具有不同的线膨胀系数。所述液室构件的位于所述记录元件基板侧的表面包括:第一区域,用于固定所述记录元件基板的粘接剂涂布于所述第一区域;以及第二区域,其为除了所述第一区域之外的区域。所述第一区域具有平行四边形形状,所述第二区域具有矩形形状。
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公开(公告)号:CN104669795B
公开(公告)日:2017-04-05
申请号:CN201410697215.3
申请日:2014-11-26
申请人: 佳能株式会社
IPC分类号: B41J2/16
CPC分类号: B41J2/1623 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1645
摘要: 一种液体排出头的制造方法,其包括:转印工序,其中,将由支撑构件支撑的干膜转印到具有孔的基板;和剥离工序,其中,将所述支撑构件从所述基板上的所述干膜剥离。在所述剥离工序中,所述干膜与限定所述基板中的所述孔的壁面接触。
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公开(公告)号:CN106364169A
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:CN201610580207.X
申请日:2016-07-21
申请人: 佳能株式会社
CPC分类号: B41J2/1433 , B41J2/14145 , B41J2/17513 , B41J2/17523 , B41J2/17553 , B41J2/21 , B41J2202/11 , B41J2/145
摘要: 提供一种液体喷出头,其包括:喷出单元,其包括具有被构造成产生能量的多个记录元件的记录元件基板和由板状构件形成并被构造成支撑记录元件基板的支撑构件,其中支撑构件包括被构造成在其中存储液体的液室和形成于液室并用于使液体流入液室的流入口;流路单元,其包括供液体从存储该液体的液体罐供给到喷出单元中的液体通路;接合构件,其夹在支撑构件与流路单元之间并被构造成密封液体;以及缓冲室,其形成在由接合构件、喷出单元和流路单元限定的空间中并被构造成在缓冲室中保持气体。
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