公开(公告)号：CN109501459A

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201810966295.6

申请日：2018-08-23

Applicant: 东芝泰格有限公司

Inventor： 关雅志

IPC: B41J2/045

CPC classification number: B41J2/1606 ,  B41J2/1433 ,  B41J2/1609 ,  B41J2/162 ,  B41J2/164 ,  B41J2/1642 ,  C09D171/00 ,  B41J2/045

Abstract: 提供一种具有疏墨性的劣化少的喷嘴板的喷墨头以及喷墨打印机。实施方式的喷墨头包括：喷嘴板，设置有向记录介质喷出油墨的喷嘴。上述喷嘴板包括：喷嘴板基板；以及疏油膜，上述疏油膜设置于上述喷嘴板基板的与上述记录介质相对的面。上述疏油膜包含氟系化合物，上述氟系化合物具有与上述喷嘴板基板结合的结合部位和末端全氟烷基，相邻的上述氟系化合物的上述结合部位相互结合。

公开(公告)号：CN105960288B

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：CN201480072747.6

申请日：2014-01-10

Applicant: 株式会社石井表记

Inventor： 小泽康博 ,  吉冈正博

IPC: B05C5/00 ,  B05D1/26

CPC classification number: B41J2/164 ,  B41J2/1433 ,  B41J2/1606

Abstract: 使喷墨头(3)的喷嘴(4)的排列宽度长度为基板(2)相对移动时的基板(2)的膜形成面(2A)的宽度方向最大长度以上，在完成两者(2、2A)的相对移动之前的期间内，对多个喷嘴(4)中的喷射膜液(6)的喷嘴(4)的个数进行可变控制，以使得喷射的膜液(6)的附着，在基板(2)的膜形成面(2A)与外周端部(2c)之间的边界处停止，以抑制膜液(6)从基板(2)的外周端部(2b)朝向背面(2c)侧附着。

公开(公告)号：CN104002555B

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201410060318.9

申请日：2014-02-21

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 小松友子

IPC: B41J2/01

CPC classification number: B41J2/1606 ,  B41J2/14233 ,  B41J2/161 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1642 ,  Y10T156/10

Abstract: 本发明提供一种流道单元及其制造方法、液体喷射头、液体喷射装置，其在不阻碍基板彼此的固定的条件下利用被覆膜对液体流道进行覆盖。具有供液体流通的液体流道的流道单元具备：第一流道基板，其形成液体流道的流道壁；第二流道基板，其形成液体流道的流道壁；被覆膜，其以连续的方式具备被覆部和固定部，其中，所述被覆部对第一流道基板的流道壁进行覆盖，所述固定部对第一流道基板和第二流道基板进行固定。

公开(公告)号：CN105960288A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201480072747.6

申请日：2014-01-10

Applicant: 株式会社石井表记

Inventor： 小泽康博 ,  吉冈正博

IPC: B05C5/00 ,  B05D1/26

CPC classification number: B41J2/164 ,  B41J2/1433 ,  B41J2/1606

Abstract: 使喷墨头(3)的喷嘴(4)的排列宽度长度为基板(2)相对移动时的基板(2)的膜形成面(2A)的宽度方向最大长度以上，在完成两者(2、2A)的相对移动之前的期间内，对多个喷嘴(4)中的喷射膜液(6)的喷嘴(4)的个数进行可变控制，以使得喷射的膜液(6)的附着，在基板(2)的膜形成面(2A)与外周端部(2c)之间的边界处停止，以抑制膜液(6)从基板(2)的外周端部(2b)朝向背面(2c)侧附着。

公开(公告)号：CN104853923B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201280077864.2

申请日：2012-12-20

Applicant: 惠普发展公司 ,  有限责任合伙企业

Inventor： R.里瓦斯

IPC: B41J2/045 ,  B41J2/14 ,  B41J2/145

CPC classification number: B41J2/14201 ,  B41J2/1404 ,  B41J2/14145 ,  B41J2/1606 ,  B41J2002/14306

Abstract: 在一个实施例中，流体喷射装置包括形成于基底上方的薄膜层。涂底层形成于薄膜层上方，并且室层形成于涂底层上方，涂底层限定通往发射室的流体通道。所述流体喷射装置包括狭槽，该狭槽延伸穿过基底并且通过薄膜层中的进墨孔进入室层。所述流体喷射装置也包括涂底层的颗粒耐受延伸部，其突出到狭槽中。在一些实施中，颗粒耐受涂底层延伸部延伸横跨狭槽的整个宽度。

公开(公告)号：CN102180016B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201010624394.X

申请日：2010-12-28

Applicant: 施乐公司

Inventor： 洪昭 ,  考克-益·劳

IPC: B41J2/16

CPC classification number: B41J2/162 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B05D5/083 ,  B05D7/02 ,  B05D2350/60 ,  B08B17/06 ,  B08B17/065 ,  B41J2/1606 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1642 ,  B41J2/1645 ,  B41J2/1646 ,  Y10T428/24612

Abstract: 制备具有超疏油表面的柔性装置的方法，其包括提供柔性衬底；在该柔性衬底上设置硅层；使用光刻法在该衬底上的该硅层中生成网纹图案，其中该网纹图案包括沟槽结构；以及通过在其上设置保形疏油涂层化学修饰该网纹表面；从而提供具有超疏油表面的柔性装置。

公开(公告)号：CN102642404B

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：CN201210134172.9

申请日：2007-11-30

Applicant: 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司

Inventor： 冈村好真

IPC: B41J2/14

CPC classification number: B41J2/1606 ,  B05D1/185 ,  B41J2/14233 ,  C23C16/045 ,  C23C16/30

Abstract: 一种流体喷射器，具有第一表面、第二表面和允许与所述第二表面接触的流体喷出的孔。所述流体喷射器具有暴露在所述流体喷射器的至少第一表面上的非润湿层以及暴露在第二表面上的覆层，所述覆层的润湿性大于所述非润湿层。该装置的制造可包括：在所述第一和第二表面上沉积非润湿层、遮蔽所述第一表面、视情况从所述第二表面去除所述非润湿层以及在所述第二表面上沉积覆层。

公开(公告)号：CN102015311B

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：CN200880128926.1

申请日：2008-04-29

Applicant: 惠普开发有限公司

Inventor： R·里瓦斯 ,  J·A·克拉特里 ,  E·L·尼科尔 ,  S·布霍米克 ,  B·D·钟 ,  S·伯哈内

IPC: B41J2/045 ,  B41J2/055 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1606 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1642 ,  B41J2/1643 ,  Y10T29/49401 ,  Y10T428/277

Abstract: 一种打印装置(10)，包括：基底(22)，所述基底(22)包括从中延伸穿过的孔(20)，其中，所述孔包括侧壁且限定液体墨流动路径；流体地连接到所述孔的墨喷发腔(24)；以及位于所述孔的所述侧壁上的涂层，所述涂层不受液体墨的侵蚀的影响，其中，所述涂层选自二氧化硅、氧化铝、二氧化铪和氮化硅中的一种。

公开(公告)号：CN104582972A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201380042940.0

申请日：2013-08-09

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 渡边峻介 ,  福泽祐马 ,  榎本胜己 ,  奥井宏明 ,  宫田佳直 ,  小口智 ,  赤羽富士男

IPC: B41J2/165

CPC classification number: B41J2/16535 ,  B41J2/055 ,  B41J2/14233 ,  B41J2/1606 ,  B41J2/16538 ,  B41J2/16552 ,  B41J2002/14241 ,  B41J2002/14362 ,  B41J2002/14419

Abstract: 本发明提供一种能够抑制油墨残留于喷嘴面上的情况的液体喷射装置。其具有：能够从在喷嘴板(22)的喷嘴面(22a)上开口的喷嘴(27)喷射液体的头单元(16)、固定有该头单元(16)并设置有使喷嘴板(22)露出的开口区域(17a)的固定板(17)、对该固定板(17)的与头单元(16)相反侧的固定板露出面(17b)以及喷嘴面(22a)进行刮拭的擦拭部件(12)，当将喷嘴面(22a)相对于液体的接触角设为θn、将固定板露出面(17b)相对于液体的接触角设为θs、将擦拭部件(12)相对于液体的接触角设为θw时，满足θn＞θs＞θw＞90度的关系。

公开(公告)号：CN102202900B

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN200980143517.3

申请日：2009-10-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 冈村好真

IPC: B41J2/135

CPC classification number: B41J2/165 ,  B41J2/14233 ,  B41J2/1606

Abstract: 本发明公开了一种流体喷射器，所述流体喷射器包括具有外表面和内表面的基板。非湿润涂层可以覆盖外表面的至少一部分，并且可以基本上不存在于流动路径中。非湿润涂层可以由分子聚集体形成。非湿润涂层的前体可以在高于基板的较高温度流入室中。非湿润涂层可以位于籽晶层上面。籽晶层的外部可以具有与内部相比较高浓度的水分子或较大的密度。外部可以在水的局部压力与基质前体的局部压力的比率下沉积，所述比率高于内部的比率。氧等离子可以被施加到外表面上的籽晶层，并且非湿润涂层可以被施加在籽晶层上。