氧化锆陶瓷基片制备方法
    72.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105585319A

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201510981743.6

    申请日:2015-12-22

    摘要: 一种氧化锆陶瓷基片制备方法,包括如下步骤:提供稳定四方相氧化锆粉体、稀土氧化物粉体、溶剂、分散剂、紫外光引发剂、光敏聚合单体和助剂;将四方相氧化锆粉体、稀土氧化物粉体和溶剂混合,再进行蒸发操作将溶剂除去,得到混合粉体;将混合粉体、分散剂、紫外光引发剂、光敏聚合单体和助剂进行混合后,进行球磨和除泡操作,得到氧化锆陶瓷浆料,除泡操作在真空条件下进行;将氧化锆陶瓷浆料加入至陶瓷流延机中,再将承载有氧化锆陶瓷浆料的陶瓷流延机的基板通过紫外光固化机后,形成氧化锆陶瓷基片生坯;将氧化锆陶瓷基片生坯进行烧结后,得到氧化锆陶瓷基片。上述制备方法可以免除传统的干燥工艺,确保制备得到的产品品质更佳。