-
公开(公告)号：CN107507860A
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201610414894.8
申请日：2016-06-14
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L29/06 , H01L21/331
Abstract: 本发明提供一种倒台面栅IGBT结构，包括：半导体衬底和元胞区；元胞区包括位于半导体衬底表面内的第一基区、第二基区、位于第一基区中的第一源区、位于第二基区中的第二源区和位于第一基区与第二基区之间的倒台面，倒台面为上宽下窄结构，倒台面下部位于半导体衬底内，上部与半导体衬底表面相平齐，半导体衬底表面在部分第一源区和部分第二源区之间覆盖有氧化层，且倒台面被氧化层填充。上述IGBT结构通过保持沟道上方的氧化层厚度不变，增大第一基区与第二基区之间氧化层的厚度来实现在保持阈值电压不变的同时，大幅减小栅集寄生电容，以降低IGBT开关过程中的电磁干扰。
-
公开(公告)号：CN107425060A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201610345965.3
申请日：2016-05-23
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L21/331
CPC classification number: H01L29/7393 , H01L29/66325
Abstract: 本发明提供一种新型IGBT结构及其制作方法，其中新型IGBT结构包括：半导体衬底和元胞区；元胞区包括位于半导体衬底表面内的第一基区、第二基区、第一源区、第二源区和位于第一基区与第二基区之间的双台面结构，双台面结构包括位于半导体衬底表面上的第一倒台面和位于半导体衬底表面内的第二倒台面，第一倒台面与第二倒台面被位于部分第一源区与部分第二源区之间且覆盖在半导体衬底表面的氧化层隔开，且第一倒台面与第二倒台面均被氧化层填满。本发明中的这种结构减小了在半导体衬底表面形成的台面的高度，有利于光刻胶、多晶硅等薄膜的覆盖，有利于减小光刻尺寸。
-
公开(公告)号：CN107369703A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201610318414.8
申请日：2016-05-13
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/06 , H01L29/739
Abstract: 本发明提供一种新型载流子增强注入型IGBT结构，包括：半导体衬底和元胞区；元胞区包括位于半导体衬底表面内的第一基区、第二基区、位于第一基区中的第一源区、位于第二基区中的第二源区、第一载流子存储区、第二载流子存储区和位于第一载流子存储区与第二载流子存储区之间的浮空区，浮空区与第一载流子存储区、第二载流子存储区均不接触。浮空区的设置使IGBT反向耐压时形成的电离受主，能吸收部分位于两侧载流子存储区发出的电离线，削弱曲率效应，降低元胞区附近的电场峰值，使电场分布均匀，进而提高IGBT的击穿电压，实现在提高IGBT电流密度的同时，提高击穿电压的目的。
-
公开(公告)号：CN107342317A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201610280931.0
申请日：2016-04-29
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/423 , H01L29/739 , H01L21/331 , H01L21/28
Abstract: 本发明提供一种新型U型槽IGBT及其制作方法，其中，IGBT包括：半导体衬底和元胞区；元胞区包括位于半导体衬底表面内的第一基区、第二基区、位于第一基区中的第一源区、位于第二基区中的第二源区和位于第一基区与第二基区之间的U型槽，U型槽底部位于半导体衬底内，U型槽内表面覆盖有氧化层，且氧化层覆盖范围从U型槽内表面延伸至部分第一源区和部分第二源区，氧化层上覆盖有多晶硅层，且多晶硅层填满U型槽。上述IGBT结构，能更多的引入载流子，并且这种结构仅在导通时才引入大量的非平衡载流子，因此不会降低IGBT的击穿电压，能够明显的改善IGBT的导通电流密度与击穿电压之间的折中关系。
-
公开(公告)号：CN107315320A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201710323535.6
申请日：2017-05-10
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G03F1/42 , H01L29/739 , H01L29/08 , H01L29/10 , H01L21/331
Abstract: 本发明公开了一种功率半导体芯片，该芯片的光刻版及其曝光方法，芯片包括：终端区，及位于终端区内的发射极区和栅极区。发射极区包括外围、主发射极区，栅极区包括栅极条、主栅极区、外围栅极和栅电阻。外围栅极位于主栅极区外周，主栅极区位于外围栅极包围的区域中心，外围栅极通过栅极条、栅电阻与主栅极区相连。外围栅极包括以中心对称和/或轴对称结构分布的断开点，外围栅极包围的区域被栅极条分隔为大小相同的若干个主发射极区。每个主发射极区均通过断开点与位于外围栅极外周的外围发射极区连通。本发明能够解决现有大尺寸芯片制作采用多块版拼接时，光刻版数量多、成本高，容易造成拼接误差，无法适用于复杂结构芯片制备的技术问题。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106816377A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201510849344.4
申请日：2015-11-30
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L21/331 , H01L29/739 , H01L29/06
Abstract: 本发明提供的IGBT背面制作方法及IGBT，包括：在第一背面上依次沉积第一半导体薄膜层和电介质层；光刻和刻蚀第二区域的第一半导体薄膜层和电介质层，并保留第一区域的第一半导体薄膜层和电介质层；沉积第二半导体薄膜层，光刻和刻蚀第二半导体薄膜层和电介质层，并保留第二区域的第二半导体薄膜层；沉积背面金属电极。本发明利用第一半导体薄膜层和第二半导体薄膜层分别与第一背面间的带隙差来调节载流子注入效率和导通压降，工作时，第一半导体薄膜层的带隙比第一背面的带隙高，载流子注入效率高，器件导通压降低，关断时，第二半导体薄膜层的带隙比第一背面的带隙低，载流子的抽取速率快，使器件快速关断，降低关断损耗，提高器件工作频率。
-
公开(公告)号：CN106449743A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610969839.5
申请日：2016-11-04
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L29/36 , H01L21/331
CPC classification number: H01L29/7393 , H01L29/36 , H01L29/66325
Abstract: 本申请公开了一种绝缘栅双极晶体管及其制备方法，其中，所述绝缘栅双极晶体管包括：第一掺杂类型的衬底；位于所述衬底正面的正面结构；位于所述衬底背面的集区，所述集区包括并列设置于所述衬底背面的第一集区和至少一个第二集区；位于所述集区背离所述衬底一侧的集电极；所述第一集区的禁带宽度与所述衬底的禁带宽度相同，所述第二集区的禁带宽度高于或低于所述衬底的禁带宽度。所述绝缘栅双极晶体管实现了在不增加器件的关断时间的同时降低器件的导通压降，或在不增加器件的导通压降的同时降低器件的关断时间，或同时降低器件的关断时间和导通压降的目的。
-
公开(公告)号：CN106270871A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610939537.3
申请日：2016-11-01
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
CPC classification number: B23K1/00 , B23K1/20 , B23K20/00 , B23K20/24 , B23K2101/40
Abstract: 本发明公开了一种功率半导体器件的焊接方法，包括如下步骤：向功率半导体器件的散热器换热腔中通入预定温度的换热介质；将所述功率半导体器件的衬板与所述散热器焊接。采用本发明的焊接方法进行焊接，利用散热器本身的导热特性，向散热器的换热腔通入预定温度的换热介质，能够使换热介质快速的换热，使散热器快速升温，进而提高加热效率。同时因为散热器散热，需要均匀散热，反向地，所以换热介质也就能够使散热器均匀升温，进而保证散热器被焊接位置的温度均匀性，继而保证焊接质量，所以该功率半导体器件的焊接方法能够有效地解决焊接时焊接位置升温效果不好的问题。本发明还公开了一种采样上述焊接方法的半导体器件的焊接系统。
-
公开(公告)号：CN105957888A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610494974.9
申请日：2016-06-27
Applicant: 中国南方电网有限责任公司电网技术研究中心 , 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L29/423 , H01L23/488
CPC classification number: H01L29/7395 , H01L23/488 , H01L29/423
Abstract: 本发明的实施例提供一种压接式IGBT子模组和IGBT模块封装结构，涉及电力技术领域，能够降低因IGBT子模组个数较多时因弹簧针接触不良而造成的失效概率。IGBT子模组，包括：IGBT芯片；发射极钼片，所述发射极钼片的一面与所述IGBT芯片的发射极的部分相接触；集电极钼片，所述集电极钼片的一面与所述IGBT芯片的集电极接触；栅极连接件，所述栅极连接件的一端为自由端，并与所述IGBT芯片的栅极接触；定位件，用于固定所述IGBT芯片、所述发射极钼片、所述集电极钼片和所述栅极连接件；所述栅极连接件的另一端固定连接于所述IGBT模块封装结构的PCB电路板上。
-
公开(公告)号：CN105931963A
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201610526004.2
申请日：2016-07-06
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L21/329 , H01L29/868
Abstract: 本发明公开了一种碳化硅PiN二极管的结终端结构的制造方法，首先在晶圆上生长衬垫氧化层和衬垫氮化硅；然后利用光刻和腐蚀工艺定义需要生长氧化层的区域；再利用衬垫氧化层和衬垫氮化硅作为阻挡层生长氧化层；组后通过湿法腐蚀的方式去除衬垫氮化硅和衬垫氧化硅，留下所需要的氧化层。通过这种方法能够避免在获得碳化硅PiN二极管的结终端结构的过程中由于刻蚀造成的损伤，通过由于进行了氧化，提高了载流子的寿命，从而改善了器件的性能。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
111
records
(took 0.01 seconds)
