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公开(公告)号：CN108698193A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780003705.0
申请日：2017-09-13
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B41/00 , B24B41/02 , B24B41/06 , B24B55/06 , H01L21/67
Abstract: 一种化学机械抛光系统，包括：前端模块(101)，所述前端模块用于存储和/或检测晶圆；多个抛光单元(102，103，104，105)，多个所述抛光单元并排设置，且至少一个邻近所述前端模块；抛光机械手(107，109)，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆；后清洗单元(108，110)，所述后清洗单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为清洗时晶圆纵置；中转机械手(408)，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后清洗单元之间顺次传递。化学机械抛光系统生产效率高，工艺流程更加灵活，清洗效果更好，且后清洗单元的体积小，结构紧凑。
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公开(公告)号：CN106239371B
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201610855025.9
申请日：2016-09-26
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: B24B53/017 , B24B53/12 , B24B37/34 , F02M35/10
Abstract: 本发明公开了一种修整器进气系统以及抛光机，修整器进气系统包括：真空源；真空管路，所述真空管路与所述真空源相连；压缩空气源；压缩空气管路，所述压缩空气管路与所述压缩空气源相连；修整器，所述修整器形成有加载腔室，所述加载腔室选择性地与所述真空管路、所述压缩空气管路和大气相连。通过合理控制修整器和真空源、压缩空气源和大气源之间的通断状态，可以改变修整器内的加载腔室的状态，而且在初始状态时，大气源可以向加载腔室内供入大气，从而可以避免加载腔室长时间收缩导致的破损和寿命减少，以及可以避免消耗能源。
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公开(公告)号：CN108644336A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810528665.8
申请日：2018-05-29
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性传动装置，包括：动力部件，用于生成驱动力；输出部件及使用端，用于输出驱动力；联轴部件，联轴部件分别与动力部件和输出部件及使用端相连，用于柔性连接动力部件和输出部件，以实现驱动力的平稳输出。该装置可以通过柔性连接动力部件和输出部件实现驱动力的平稳输出，有效避免因为刚性大对电机及整个传动系统产生额外的外力而减少使用寿命、甚至系统功能失效，从而有效提高系统使用寿命和可靠性，简单易实现。
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公开(公告)号：CN106272123B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201610912534.0
申请日：2016-10-20
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光头以及具有其的抛光机，抛光头包括：连接件；安装板，所述安装板设置在所述连接件的下侧；调心轴承，所述调心轴承具有内圈和外圈，所述内圈和所述外圈中的一个与所述连接件相连且另一个与所述安装板相连；周向同步件，所述周向同步件设置成用于在周向方向上同步所述安装板和所述连接件。该抛光头的安装板相对连接件角度可调，从而安装板可以补偿其工件安装面和工件表面之间的角度误差，以及可以补偿工件安装面和抛光盘之间的角度误差，进而可以提高抛光机的抛光效果。
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公开(公告)号：CN105598827A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610010189.1
申请日：2016-01-05
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
CPC classification number: B24B37/04 , B23Q41/02 , B24B27/0023 , B24B27/0069 , B24B37/105 , B24B37/27 , B24B37/30 , B24B37/345 , B24B37/34
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光机，化学机械抛光机包括：多个抛光组件，多个所述抛光组件间隔设置且每个所述抛光组件包括：支架、抛光头和抛光盘，所述抛光头设置在所述支架上且适于在抛光位置和传输位置之间移动，所述抛光头处于所述抛光位置时，所述抛光头位于所述抛光盘上方；传输组件，所述传输组件包括：转盘和多个装卸平台，多个所述装卸平台间隔开设置在所述转盘上且随所述转盘转动，所述抛光头处于所述传输位置时，所述抛光头与多个所述装卸平台中的一个相对应。由此，支架的安装稳定性好，抛光组件的工作可靠性高，抛光机的工艺稳定性好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103231303A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310180314.X
申请日：2013-05-15
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光设备。所述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于输送晶圆的晶圆转移装置；第一机械手；化学机械抛光机；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第二机械手；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内的第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件；晶圆刷洗装置，晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件；晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件；和第三机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
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公开(公告)号：CN101934496B
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：CN201010246628.1
申请日：2010-08-05
Applicant: 清华大学
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开一种化学机械抛光机，包括：工作平台，抛光盘，修整器和抛光液输送装置，装卸平台，抛光头，机械手，和抛光头支架，所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽，所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸，所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板，其中水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端，所述悬臂端伸到所述抛光盘的上方。本发明的化学机械抛光机结构简单，加工方便，生产效率高。本发明还提出具有上述化学机械抛光机的化学机械抛光设备。
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公开(公告)号：CN102335866A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201110295902.9
申请日：2011-09-28
Applicant: 清华大学
IPC: B24B37/00
Abstract: 本发明公开了一种用于化学机械抛光机的防溅装置和具有该防溅装置的化学机械抛光机。所述防溅装置包括抛光液挡板，所述抛光液挡板的本体为环形且沿周向间隔开地设有多个容纳槽；多个外套筒，每个外套筒内限定有沿竖直方向延伸且下端敞开的外套筒容纳腔；多个内套筒，每个内套筒内限定有沿竖直方向贯通的导孔；和多个驱动件，多个驱动件的驱动部分别对应地穿过多个导孔且与多个外套筒容纳腔的顶壁相连以便带动抛光液挡板和多个外套筒沿竖直方向在低位和高位之间移动，其中在所述低位所述内套筒的位于所述外套筒容纳腔内的部分的长度大于所述驱动部的行程。根据本发明实施例的防溅装置占用空间小、且可以大大地改善抛光环境。
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公开(公告)号：CN208368479U
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201821120550.7
申请日：2018-07-13
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Inventor： 许振杰 , 王剑 , 王国栋 , 陈映松 , 王同庆 , 赵德文 , 沈攀 , 郭振宇 , 李昆 , 路新春 , 裴召辉 , 贾弘源 , 郑家旺 , 庞伶伶 , 刘卫国 , 王春龙 , 韩宏飞 , 甄辉 , 时亚秋
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN210092034U
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201920462276.X
申请日：2019-04-08
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种基板后处理装置，该装置包括：用于旋转基板的承载单元、向基板喷射流体的供给单元、流体收集单元以及环状挡板组件。挡板组件围绕承载单元设置且挡板组件内壁与基板边缘的距离设置成使得从该基板溅射至该挡板组件内壁的流体不会反溅至该基板表面。从而避免了从基板表面飞散的流体反溅而再次沾染基板造成的二次污染，改善了清洗效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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