半导体芯片局部电子辐照方法及装置

    公开(公告)号:CN100533669C

    公开(公告)日:2009-08-26

    申请号:CN200710035980.9

    申请日:2007-10-29

    Abstract: 半导体芯片局部电子辐照方法及装置,将芯片置于芯片的电子辐照区内的“电子直线加速器”辐照床上,通过一个分区电子辐照装置,采用局部遮挡电子照射的方法,实现对半导体芯片上的不同区域进行局部电子辐照。所述的局部遮挡电子照射的方法是利用金属挡块可以隔离电子射线的原理,在不需要或需要不同电子辐照剂量电子照射的部分,设置不同厚度的可以隔离电子射线的金属挡块挡住电子辐照的电子射线,实现对半导体芯片上的不同区域进行独立电子辐照。尤其是采用金属铅制成的挡块,遮挡住芯片上不需要辐照部分的电子射线,实现对半导体芯片上的不同区域进行局部电子辐照。

    阴电极分叉式半导体器件

    公开(公告)号:CN100426522C

    公开(公告)日:2008-10-15

    申请号:CN200610032430.7

    申请日:2006-10-20

    Abstract: 本发明公开了一种阴电极分叉式半导体器件,它包括壳体、阳极、阴极、栅电极以及阴电极,所述阳极和阴极分别位于壳体的两端,所述阴电极的一端位于壳体内阳极和阴极之间,另一端从壳体内引出后突出布置于壳体的外侧,所述栅电极为栅极管,两根或两根以上的栅极管的一端位于壳体内阳极和阴极之间,另一端突出布置于壳体的外侧。本发明是一种在保证低感连接的条件下,结构简单紧凑、接口简洁、装配方便的阴电极分叉式半导体器件。

    一种半导体芯片的灌胶方法及模具

    公开(公告)号:CN101145528A

    公开(公告)日:2008-03-19

    申请号:CN200710035982.8

    申请日:2007-10-29

    Abstract: 一种半导体芯片的灌胶方法及模具,所述的灌胶处理方法是通过一套模芯与模座一体金属与塑料复合结构的模具对半导体元件芯片的台面进行灌胶处理。具体说,所述的灌胶处理是将芯片置于由金属与塑料复合结构构成的上模和下模之间,用螺栓加力使缝隙紧密贴合,从注胶口注入特定的胶,经高温固化后脱模将芯片取出。其中,所述的芯片是待加工的部分,芯片需安装在上模和下模之间,并用螺栓加力使上模和下模之间的缝隙紧密贴合,再从注胶口注入特定的胶,经高温固化后脱模将芯片取出;所述的上模和下模是用于形成模腔,是完成特定形状与尺寸的灌胶操作的工装模具,上模和下模是将模芯与模座和为一体,且模芯是由金属与塑料复合结构构成的。

    一种半导体器件及其封装气密性检测方法及配气装置

    公开(公告)号:CN101136378A

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN200710035711.2

    申请日:2007-09-10

    Abstract: 一种半导体器件及其封装气密性检测方法及配气装置,包括管壳和管芯,管芯密闭在管壳内,管壳内充有一定压力的气体。管壳内充入的气体是由惰性气体与可检测气体混合的混合气体。半导体器件封装气密性的检测采用混合气体的检测方式。所提供的配气装置包括气体混合容器、惰性气体输入系统、可检测气体输入系统、混合气体输出系统和抽真空系统几部分,其中在混合容器上分别开有惰性气体入口与可检测气体的入口。惰性气体入口与可检测气体的入口可以是分别不同的两个入口,也可以共用一个入口。惰性气体入口与惰性气体输入系统相接;可检测气体的入口与可检测气体输入系统相接。

    集成门极换流晶闸管及其制造方法

    公开(公告)号:CN101132001A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710163586.3

    申请日:2007-10-12

    Abstract: 公开了一种集成门极换流晶闸管,所述门极换流晶闸管包括n-型衬底,p型掺杂区,n型掺杂区,门极换流晶闸管的阳极p+掺杂区,二极管n+缓冲区,以及门极换流晶闸管的阴极梳条,还包括门极换流晶闸管的阴极和门极,二极管的阳极、门极换流晶闸管的阳极和二极管的阴极,其特征在于:在门极换流晶闸管的门极和二极管的阳极之间的p型掺杂区中具有n+型隔离环。本发明的集成门极换流晶闸管及其制造方法能够在GCT单元和二极管之间实现有效的隔离。

    集成门极换流晶闸管及其制造方法

    公开(公告)号:CN101132000A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710163585.9

    申请日:2007-10-12

    Abstract: 公开了一种集成门极换流晶闸管,所述门极换流晶闸管包括n-型衬底,p型掺杂区,n型掺杂区,门极换流晶闸管的阳极p+掺杂区,二极管n+缓冲区,以及门极换流晶闸管的阴极梳条,还包括门极换流晶闸管的阴极和门极,二极管的阳极、门极换流晶闸管的阳极和二极管的阴极,其特征在于:在门极换流晶闸管的门极和二极管的阳极之间的p型掺杂区中具有n+型隔离环。本发明的集成门极换流晶闸管及其制造方法能够在GCT单元和二极管之间实现有效的隔离。

    一种旋转喷腐方法的化学挖槽工艺方法及装置

    公开(公告)号:CN1869284A

    公开(公告)日:2006-11-29

    申请号:CN200610031477.1

    申请日:2006-04-06

    Abstract: 一种旋转喷腐方法的化学挖槽工艺方法及装置,在电力电子器件硅片表面进行选择性精密刻蚀加工制作中采用旋喷法进行加工。先将硅片置在底座上,加工时硅片是旋转的,酸液从硅片上部经喷嘴雾化后向下喷向硅片。具体制作方法是:采用旋转腐蚀法在硅片表面形成梳条的操作。先将置于下部的硅片作均速旋转,再通过压缩空气利用虹吸原理将酸性腐蚀液从酸液储罐中吸出,通过喷嘴使酸性腐蚀液雾化,并以一定的张角均匀地喷到硅片表面。在硅片加工过程中还设有水保护部分,分成底喷水保护和顶喷水保护。顶喷水设置成当喷酸刚停止时启动。底喷水设置成与当硅片旋转时同步供给,与顶喷水同时停止。每个工位一次加工一个硅片,一个工作周期中酸、水交替起作用。

    IGBT子模组单元及其封装模块

    公开(公告)号:CN105047653B

    公开(公告)日:2018-11-20

    申请号:CN201510405002.3

    申请日:2015-07-10

    Abstract: 本发明公开了一种IGBT子模组单元及其封装模块,属于半导体器件封装技术领域,解决现有压接型IGBT封装结构中辅助发射极回路的杂散参数不一致的技术问题。该IGBT子模组单元包括:IGBT芯片;发射极钼片,其一面与所述IGBT芯片的发射极的部分相接触;集电极钼片,其一面与所述IGBT芯片的集电极接触;第一导电件,其一端与所述IGBT芯片的发射极接触;安装底座,其上设置有用于容纳所述发射极钼片的第一孔洞和用于使所述第一导电件从中穿过的第二孔洞,所述安装底座的第一孔洞的边缘上还设置有卡接部件。

    功率半导体器件
    60.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104134648B

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201410335689.3

    申请日:2014-07-15

    CPC classification number: H01L2224/33 H01L2924/13055 H01L2924/00

    Abstract: 本发明的功率半导体器件包括第一电极、第二电极、设置在第一电极和第二电极之间的芯片,以及设置在第一电极和第二电极之间的旁路导通单元。旁路导通单元包括导电件和固定件。其中,固定件构造成在芯片正常工作时能阻止导电件与第一电极和第二电极导通,而在芯片失效后受热膨胀以解除对导电件的阻止,使得第一电极通过导电件与第二电极导通。由于在芯片失效后,第一电极和第二电极可以通过旁路导通单元导通,因此,在芯片失效后,该功率半导体器件仍能正常工作。

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