显示装置及电子设备
    51.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111656430B

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN201980010491.9

    申请日:2019-01-22

    Abstract: 提供一种能够提高图像品质的显示装置。该显示装置包括第一电路、像素及布线。第一电路具有对布线供应数据的功能及使布线处于浮动状态而保持所述数据的功能。像素具有从布线取得数据两次而进行加法运算的功能,可以在布线被供应数据的期间进行第一次的数据写入且在布线保持所述数据的期间进行第二次的所述数据写入。由此,通过对源极线进行一次数据充电就可以对显示元件供应源极驱动器的输出电压以上的数据电位。

    显示装置及电子设备
    53.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111448607A

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201880078504.1

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明提供一种能够提高图像质量的显示装置。在像素中包括多个电容器、多个晶体管以及显示元件。多个电容器通过布线串联连接,串联连接的多个电容器的一个、另一个以及该布线分别与多个晶体管中的一个电连接。能够根据被输入的多个数据的总和使显示元件工作,可以进行图像的上转换、HDR显示或亮度的提高等的图像校正。

    显示装置及电子设备
    54.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111328414A

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN201880073067.4

    申请日:2018-11-15

    Abstract: 提供一种能够提高图像质量的显示装置。在各像素中设置有存储节点,该存储节点可以保持第一数据。由电容耦合将第二数据附加到第一数据,并可以将该第一数据供应到显示元件。因此,显示装置可以显示被校正的图像。由于从电源线等供应用来进行电容耦合工作的基准电位,因此可以由共同使用的信号线供应第一数据及第二数据。

    制造半导体器件的方法
    57.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1893033B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN200610100198.6

    申请日:2006-06-30

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L27/1285 H01L27/1292

    Abstract: 本发明的一个目的在于提供制造半导体器件的方法,该方法消除了在将半导体元件形成在基片上后基片变薄或者除去基片的情形中,由于杂质元素或者水分等从外界进入而对半导体元件产生的影响。其一个特征是通过对基片进行表面处理在基片的至少一个侧面上形成起防护膜作用的绝缘薄膜,将半导体元件(比如薄膜晶体管)形成在所述绝缘薄膜上,和薄化所述基片。作为表面处理,对基片进行杂质元素的加入或者等离子处理。作为薄化基片的方法,通过对基片另一侧面进行研磨处理或者抛光处理等可以使基片被部分除去。

    半导体装置的制造方法
    59.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1892983B

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200610101626.7

    申请日:2006-06-30

    CPC classification number: H01L21/67132 H01L21/78

    Abstract: 本发明的目的在于高成品率地提供一种具有被薄型化了的衬底的半导体装置。本发明的技术要点是:在衬底的预定部分(至少覆盖衬底的侧面的部分)形成保护层之后,磨削、研磨所述衬底。换言之,在衬底的一面上形成具有多个集成电路的元件层;至少接触所述衬底的侧面地形成保护层;使所述衬底变薄(例如,磨削、研磨所述衬底的另一面);除去所述保护层;以及通过分开所述被研磨了的衬底和所述元件层来形成具有设有所述多个集成电路中的至少一个的层的叠层体。

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