一种带背板的平面溅射靶材使用寿命的预估方法

    公开(公告)号:CN117606330A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311600340.3

    申请日:2023-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种带背板的平面溅射靶材使用寿命的预估方法,主要针对整体原始厚度较薄、分离解绑后容易产生翘曲、靶材边缘不溅射或几乎不溅射的带背板的平面溅射靶材。具体方法是通过升温的方式分离溅射靶材与背板,通过模具硅胶确定溅射靶材最深溅射轨道,以所测边缘厚度最大值与所测最深溅射轨道厚度最小值的差值即最大厚度差作为溅射最大消耗厚度,以此为参考,预估剩余最小厚度消耗完的溅射功耗,进而预估溅射靶材使用寿命。本发明的方法操作简单,适合无三坐标仪、三维扫描仪等精密测量仪器的厂家操作,为带背板的平面靶材使用寿命的预估提供指导,保证溅射靶材的使用安全。

    一种Co-MnO2正极材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116282178A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202211266822.5

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 本发明属于电化学领域,尤其涉及一种Co‑MnO2正极材料及其制备方法和应用。所述方法包括:配合含钴和锰的盐溶液作为水热反应介质,将碳载体置于水热反应介质中进行水热反应,即完成对Co‑MnO2正极材料的制备。本发明通过一步水热法制备钴离子预嵌入的隧道结构二氧化锰正极材料,方法简单,可重复性强,可控性好;钴离子的预嵌入改变了二氧化锰隧道的构建过程,细化了隧道结构二氧化锰的纳米线尺寸,增加了纳米线的比表面积,使电极材料的容量更高,且进一步优化了隧道结构二氧化锰的结构稳定性,倍率性能和循环性能好。

    一种离心成型制备NiPt合金靶材的方法

    公开(公告)号:CN108517497B

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201810157024.6

    申请日:2018-02-24

    Abstract: 本发明公开了一种离心成型制备NiPt合金靶材的方法,涉及使用离心成型浇铸工艺制备薄板件NiPt合金靶材,以避免对铸锭实施应力加工所带来的破坏性影响,简化生产工序,保证产品材料纯度,大大提高产品成品率。当NiPt合金成分配比进入40‑90wt.%Pt的区间时,体系会发生有序转变,所形成的有序结构会大大弱化合金的应力加工性能。通过使用旋转加热平台及特别设计的模具进行浇铸,使铸锭形状几近产品形状,后续经过简单的机加工即可达到最终尺寸,制成合格产品,成功的解决了使用传统应力加工方法对该成分区间产品进行加工时极高报废率的问题。

    一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111286703A

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:CN202010245239.0

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明公开了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法,所述镍铂合金溅射靶材中铂的含量为21~31%原子百分比,镍铂溅射靶材溅射面的(111)面的取向率大于30%,(200)面的取向率小于(111)面且大于20%。所述制备方法包括以下步骤:以4N5镍和铂为原料,配制成铂的含量为21~31%的合金,将合金放入熔炼炉中进行熔炼,待原料熔化后置于浇铸模具中进行浇铸获得铸锭;再将铸锭采用温轧轧制形成坯料后再结晶退火,最后加工成型获得靶材。本发明制备获得了成品率高,稳定性好的含铂为21~31原子%的NiPt合金溅射靶材,通过控制晶粒取向改善了靶材的成膜速率和薄膜性能稳定性,获得了沉积速率和膜厚均匀性较好的NiPt薄膜,大大提高了生产效率,极大节约了成本。

    一种晶粒高定向取向的钌溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111270210A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN202010186065.5

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 本发明公开了一种晶粒高定向取向的钌溅射靶材及其制备方法,钌溅射靶材呈现(002)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸1-10 μm,氧含量100 ppm以内;所述(002)晶面与(101)晶面积分强度比不低于3。所述制备方法包括以下步骤:选择4N及以上纯度,粒度为1-10 μm的钌粉;随后将粉末进行冷压成型;再将冷压成型的锭坯进行低温微波烧结;再将锭坯进行低温真空热压烧结进一步提高致密度;最后机加工获得靶材。本发明采用较低的烧结温度、低温真空热压技术及充氢气形成还原气氛,使得钌溅射靶材性能优异,高致密度和(002)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、厚度均匀的钌薄膜,制备工艺简便,条件温和易于操控,而且可大大提高生产效率,极大地节约制备成本。

    一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111235536A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010186255.7

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 本发明公开了一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法,铱溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸1-10μm,氧含量100 ppm以内;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于4。所述制备方法包括以下步骤:选择4N及以上纯度,粒度为1-10μm的铱粉;随后将粉末进行冷压成型;再将冷压成型的锭坯进行低温微波烧结;再将锭坯进行低温真空热压烧结进一步提高致密度;最后机加工获得靶材。本发明采用较低的烧结温度、低温真空热压技术及充氢气形成还原气氛,使得铱溅射靶材性能优异,高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、厚度均匀的铱薄膜,制备工艺简便,条件温和易于操控,而且可大大提高了生产效率,极大地节约制备成本。

    一种靶材加工装置和加工方法
    60.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110592540A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201910923533.X

    申请日:2019-09-27

    Abstract: 本发明公开了一种靶材的加工装置和加工方法。靶材的加工装置包括夹具、内固定件和外固定件。内固定件包括底板和内定位销,外固定件包括压板和外定位销。靶材加工方法包括:提供夹具,将靶材装夹于夹具上,加工靶材的溅射面;将靶材翻面,在靶材的装配面开设内固定孔;提供底板,在底板上开设内定位孔;采用固定件将靶材固定在底板上;将底板装夹于夹具上,加工靶材的装配面的外曲面;提供压板,在压板上加工配合曲面;在底板开设外固定孔,在压板开设第三固定孔;将靶材固定于底板和压板之间;加工靶材的内曲面和定位槽。本发明的优点是定位精度高,能保证靶材加工的尺寸和精度,同时效率高,成本低。

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