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公开(公告)号：CN109112501B
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201810972105.1
申请日：2018-08-24
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/448
Abstract: 本发明提供一种二氧化铪涂层及其制备方法，属于涂层制备领域。本发明中，原料铪的氯化反应与HfO2涂层的化学气相沉积反应过程简单，HfO2涂层沉积速率大幅提高至30μm/h以上，且不会带来杂质污染；化学气相沉积反应可在预热后的待沉积基体的所有表面发生，可同时实现难熔金属复杂器件内外表面涂层的均匀沉积；CVD沉积是通过化学反应原位产生HfO2分子，HfO2分子逐个堆积形成涂层，涂层密度超过其理论密度的99％；HfO2涂层的生长选择热力学能量最低的方向，涂层形成了择优取向的织构组织，使涂层的辐射系数提高至0.90以上，高温散热性能优良。
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公开(公告)号：CN113512713A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110771475.0
申请日：2021-07-08
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种铼坩埚及其制备方法和应用，属于金属材料制备技术领域。本发明提供了一种铼坩埚的制备方法，包括以下步骤：在真空条件下，将铼与氯气发生氯化反应，得到ReCl5气体；对基体进行加工，得到沉积铼坩埚用模芯；将所述沉积铼坩埚用模芯预热，得到预热沉积铼坩埚用模芯；将所述ReCl5气体输送至所述预热沉积铼坩埚用模芯的表面进行化学气相沉积，得到铼坩埚。本发明采用现场氯化化学气相沉积(CVD)法制备铼坩埚，具有流程短、工艺成熟、沉积速率快及原材料利用率高的优点，可以得到高致密性、高纯度的铼坩埚。
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公开(公告)号：CN109112501A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201810972105.1
申请日：2018-08-24
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/448
Abstract: 本发明提供一种二氧化铪涂层及其制备方法，属于涂层制备领域。本发明中，原料铪的氯化反应与HfO2涂层的化学气相沉积反应过程简单，HfO2涂层沉积速率大幅提高至30μm/h以上，且不会带来杂质污染；化学气相沉积反应可在预热后的待沉积基体的所有表面发生，可同时实现难熔金属复杂器件内外表面涂层的均匀沉积；CVD沉积是通过化学反应原位产生HfO2分子，HfO2分子逐个堆积形成涂层，涂层密度超过其理论密度的99％；HfO2涂层的生长选择热力学能量最低的方向，涂层形成了择优取向的织构组织，使涂层的辐射系数提高至0.90以上，高温散热性能优良。
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公开(公告)号：CN115896528A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211353391.6
申请日：2022-11-01
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: C22C5/04 , C22C1/047 , B22F9/04 , B22F1/14 , B22F3/10 , B22F3/02 , C22F1/14 , B22F5/00 , C03B37/095 , C30B35/00 , F02K1/00
Abstract: 本发明提供了一种难熔金属间化合物增强铂铑基高温合金，包括如下质量含量的组分：Rh 0～10wt％，Re3Nb 0.05～1.0wt％和余量的Pt。本发明采用一定量的新型的高熔点难熔的χ相金属间化合物即Re3Nb作为增强相，且增强相Re3Nb在Pt‑Rh合金中的均匀弥散分布，使得χ相增强的低Rh含量的Pt‑Rh基合金具有优异的高温力学性能和抗氧化能力，并大幅降低贵金属Rh的用量和合金成本，利用具有较高熔点的Pt元素和Rh元素，以提高制备的难熔金属间化合物增强铂铑基高温合金的抗氧化、耐腐蚀性能和化学稳定性。
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公开(公告)号：CN113512714A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110771701.5
申请日：2021-07-08
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: C23C16/14 , C23C16/448 , C30B35/00 , C30B29/16
Abstract: 本发明提供了一种铼‑钨复合坩埚及其制备方法和应用，属于金属材料制备技术领域。本发明的铼‑钨复合坩埚包括基体钨坩埚以及铼层，所述铼层位于所述基体钨坩埚的内表面。本发明将难熔金属钨和铼的优点结合起来，创新设计并制备铼‑钨复合坩埚，可大幅降低坩埚的成本；本发明采用CVD法制备复合坩埚内部的铼层，且铼层与氧化物熔体直接接触，在提高坩埚材料的致密度和纯度的同时，还能保证所制备激光晶体的高品质，所发明的铼/钨复合坩埚主要用于难熔金属氧化物，如稀土氧化物、碱土金属氧化物等高熔点晶体的生长。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109136632A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811019574.8
申请日：2018-09-03
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种无磁铂钴铬合金及其制备方法。该无磁铂钴铬合金按质量含量计，包括Pt 94.4～97.6％、Co 1.8～3.4％和Cr 0.6～2.2％。铬是一种反磁性材料，将其掺杂到铂钴合金中可以消除其磁性。本发明在真空电弧炉中将铂，钴，铬充分熔炼，将熔炼好的合金在真空电阻炉中进行固溶处理并水淬，得到晶粒尺寸大小均匀且微观形貌为等轴晶组织的Pt‑Co‑Cr合金，经检测合金为顺磁性，磁化率＜5.0×10‑5，维氏硬度为120～180HV，在可见光范围内的平均反射率在63％以上。本发明制备的铂钴铬合金具有良好的抗腐蚀性、良好的加工性和较高的光泽度，同时硬度提高，磁性消除，在首饰方面具有巨大的市场前景。
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公开(公告)号：CN117364052B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202311322575.0
申请日：2023-10-13
Applicant: 贵研铂业股份有限公司 , 云南贵金属实验室有限公司 , 昆明贵金属研究所
IPC: C23C16/02 , C23C16/14 , C23C16/448 , C23C16/01 , C23F1/10
Abstract: 本发明公开一种高发射率铼涂层及其制备方法，属于CVD涂层制备技术领域。本发明所述高发射率铼涂层的制备方法包括：将钼基体在熔盐中腐蚀；熔盐为NaNO3和KNO3混合反应物；然后在真空中依次氯化、沉积得到沉积样品；接下来停止加热，通入氯气流量为30～50ml/min，时间为30～60min，得到铼涂层钼基材料；最后使用电火花线切割方法分离铼涂层和钼基体。本发明通过对基体进行熔盐腐蚀及对沉积样品进行氯气腐蚀调控铼涂层生长取向，得到的铼涂层组织致密，涂层表面形状呈现出树枝状，具有(002)择优取向，表面发射率可高达0.83，远高于粉末冶金方法制备得到的铼的发射率。
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公开(公告)号：CN115896528B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202211353391.6
申请日：2022-11-01
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
IPC: C22C5/04 , C22C1/047 , B22F9/04 , B22F1/14 , B22F3/10 , B22F3/02 , C22F1/14 , B22F5/00 , C03B37/095 , C30B35/00 , F02K1/00
Abstract: 本发明提供了一种难熔金属间化合物增强铂铑基高温合金，包括如下质量含量的组分：Rh 0～10wt％，Re3Nb 0.05～1.0wt％和余量的Pt。本发明采用一定量的新型的高熔点难熔的χ相金属间化合物即Re3Nb作为增强相，且增强相Re3Nb在Pt‑Rh合金中的均匀弥散分布，使得χ相增强的低Rh含量的Pt‑Rh基合金具有优异的高温力学性能和抗氧化能力，并大幅降低贵金属Rh的用量和合金成本，利用具有较高熔点的Pt元素和Rh元素，以提高制备的难熔金属间化合物增强铂铑基高温合金的抗氧化、耐腐蚀性能和化学稳定性。
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公开(公告)号：CN111411251B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202010376203.6
申请日：2020-05-07
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种铼喷管用抗氧化涂层及其制备方法、铼‑抗氧化涂层喷管，属于涂层制备技术领域。本发明的抗氧化涂层具有高致密性和成分均匀性。熔炼是制备贵金属材料普遍采用的传统方法，优点是制备速度快、工艺成熟、设备简单。通过熔炼预合金化、均匀化热处理、热锻和热等静压加工，材料进一步均匀化和致密化，可以获得相对密度超过99.9％的高致密涂层材料；采用机加工制备涂层，涂层的厚度和加工精度完全按照图纸设计要求进行加工，厚度均匀性可控，尺寸精度可达±10μm。
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公开(公告)号：CN111411251A
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN202010376203.6
申请日：2020-05-07
Applicant: 贵研铂业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种铼喷管用抗氧化涂层及其制备方法、铼-抗氧化涂层喷管，属于涂层制备技术领域。本发明的抗氧化涂层具有高致密性和成分均匀性。熔炼是制备贵金属材料普遍采用的传统方法，优点是制备速度快、工艺成熟、设备简单。通过熔炼预合金化、均匀化热处理、热锻和热等静压加工，材料进一步均匀化和致密化，可以获得相对密度超过99.9％的高致密涂层材料；采用机加工制备涂层，涂层的厚度和加工精度完全按照图纸设计要求进行加工，厚度均匀性可控，尺寸精度可达±10μm。
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