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    薄膜形成装置
    41.
    发明公开
    薄膜形成装置 有权

    公开(公告)号：CN103014617A

    公开(公告)日：2013-04-03

    申请号：CN201210327850.3

    申请日：2012-09-06

    申请人： 株式会社新柯隆

    发明人： 姜友松 ,  盐野一郎 ,  宫内充祐 ,  青山贵昭 ,  林达也 ,  长江亦周

    IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04

    CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  C23C14/505 ,  C23C16/04 ,  C23C16/042 ,  C23C16/4584

    摘要： 本发明提供一种薄膜形成装置，其通过使仅在多个基板上的特定部分上形成薄膜的作业简单化、效率化，从而能够缩短薄膜形成时的作业时间，减少成膜作业的费用。薄膜形成装置（100）具备的基板保持机构（3）具有：基板保持部件（10～40），保持多个基板（S），使得基板（S）的非成膜部分（S2）的一部分与其他基板（S）重合，而成膜部分（S1）露出；支撑部件（50），支撑基板保持部件（10～40）；旋转部件（60），使支撑部件（50）旋转，基板保持部件（10～40）具有：多个保持面（11d），保持多个基板（S），配置在成膜源（4）与多个基板（S）之间；多个阶差部（11e），形成在多个保持面（11d）之间，分别与多个基板（S）的端部抵接；多个开口部（11f），在基板（S）的端部抵接在多个阶差部（11e）的状态时，形成在与成膜部分（S1）相应的部分的保持面（11d）上。

    工件托架
    42.
    发明授权
    工件托架 有权

    公开(公告)号：CN102057075B

    公开(公告)日：2013-01-02

    申请号：CN200980122438.4

    申请日：2009-06-04

    申请人： 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)

    发明人： S·埃塞尔

    IPC分类号： B05C13/00

    CPC分类号： B05C13/00 ,  C23C14/505 ,  C23C14/564

    摘要： 在所有情况下在围绕圆盘(7)的环(5)上支撑有沿中心轴布置并具有保持器(8)的多个圆盘(7)，所述保持器(8)均匀地分布在圆周上方、斜地向外倾斜并用于工件。连续的环(5)形成防止圆盘(7)不期望涂层的大致圆柱形的包层。该包层具有用于圆盘(7)的保持器(8)的开口组，所述开口在相同的高度处均匀地分布在圆周上方，并且每个开口由承载圆盘(7)的环(5)中的上凹槽(14)和随后的环的相邻的下凹槽(15)形成。在连续的环(5)之间的边界线(17)在所有情况下稍低于将相邻开口分开的腹板的最狭窄点，使得下凹槽(15)在所有情况下不会朝向环(5)的边缘变窄，而上凹槽(14)至多稍微变窄，以此方式使得能自下而上容易地装配工件托架。

    基板处理装置及磁性设备的制造装置
    44.
    发明授权
    基板处理装置及磁性设备的制造装置 有权

    公开(公告)号：CN101903559B

    公开(公告)日：2012-09-05

    申请号：CN200980000400.X

    申请日：2009-03-02

    申请人： 佳能安内华股份有限公司

    发明人： 细谷裕之 ,  恒川孝二 ,  永峰佳纪

    IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/24

    CPC分类号： C23C14/505 ,  B82Y10/00 ,  B82Y25/00 ,  C23C14/351 ,  C23C14/352 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/3906 ,  G11B5/3909 ,  H01J37/3402 ,  H01L43/12

    摘要： 本发明提供基板处理装置、磁性设备的制造装置及制造方法。该基板处理装置能够根据形成的膜的材质来切换是否对基板施加磁场，从而能够在同一个室内形成磁性层和非磁性层这两者。溅射装置(100)包括：基板保持架(102)，支承基板(W)；磁铁保持架(106)，配置在基板保持架的周围；磁铁(104)，可移动地载置在磁铁保持架上；支承构件(103)，面向磁铁地突出设置在基板保持架上；连结构件(105)，面向基板保持架地突出设置在磁铁上；旋转机构(121)，使基板保持架或磁铁保持架中的至少一个转动；连结切换机构(122)，在通过旋转机构的转动而使支承构件与连结构件的位置对齐时，使基板保持架上下运动而将支承构件与连结构件结合或脱离，切换是否对基板(W)施加磁场。

    用于外部部件的表面涂覆方法和表面涂覆装置
    45.
    发明公开
    用于外部部件的表面涂覆方法和表面涂覆装置 失效

    公开(公告)号：CN102650040A

    公开(公告)日：2012-08-29

    申请号：CN201110438960.2

    申请日：2011-12-20

    申请人： 三星电子株式会社

    发明人： 大平重男 ,  林镕弼 ,  朴钟培 ,  秋星焕 ,  金钟和 ,  金学柱 ,  金世镇

    IPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/50

    CPC分类号： C23C14/10 ,  C23C14/20 ,  C23C14/24 ,  C23C14/505

    摘要： 本发明提供了一种用于外部部件的表面涂覆方法和表面涂覆装置。所述表面涂覆方法包括：在沉积室内放置一个或多个将要被表面涂覆的能够转动和旋转的外部部件预制品；在安装在由外部部件预制品的转动轨迹围成的区域内的蒸发装置上放置一个或多个包含涂覆成分的块；通过在转动和旋转外部部件预制品的同时蒸发所述块，将涂层沉积到每个外部部件预制品的表面上。所述表面涂覆方法和表面涂覆装置在进行涂覆步骤时执行将要被涂覆的对象的旋转和转动，从而能够将蒸发的涂覆成分均匀地扩散到整个沉积室内，并且能够在每个将要被涂覆的对象的整个表面上形成均匀的涂层。

    靶冷却装置
    46.
    发明公开
    靶冷却装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN102459689A

    公开(公告)日：2012-05-16

    申请号：CN201080035099.9

    申请日：2010-06-23

    申请人： 索尔玛特斯有限责任公司

    发明人： J·J·布鲁克玛特 ,  J·A·扬森斯 ,  J·M·德克斯

    IPC分类号： C23C14/28 ,  C23C14/54

    CPC分类号： C23C14/28 ,  C23C14/505 ,  C23C14/54 ,  H01L21/67109

    摘要： 本发明涉及激光沉积装置，包括：至少一个靶，与所述至少一个靶相对布置的基底以及用于产生激光束的激光器，所述激光束指到所述靶上，使得靶材的等离子体羽流被产生并且沉积到所述基底上，所述激光沉积装置还包括：基部框架、具有布置在所述基部框架中的至少两个靶保持器的可旋转靶框架以及布置于所述基部框架上的至少一个冷却器装置，所述冷却装置能够相对于所述靶框架移动，以使所述冷却装置与所述靶框架热交换接触。

    光学镀膜装置
    49.
    发明授权
    光学镀膜装置 失效

    公开(公告)号：CN101608298B

    公开(公告)日：2011-12-21

    申请号：CN200810302231.2

    申请日：2008-06-19

    申请人： 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 ,  鸿海精密工业股份有限公司

    发明人： 王仲培

    IPC分类号： C23C14/24 ,  G02B1/10

    CPC分类号： C23C14/505

    摘要： 一种光学镀膜装置，其包括转动轴、基板承载架及卡环。所述转动轴一端具有第一凸缘，所述基板承载架具有第二凸缘。沿所述卡环内环面设置有凹槽，所述第一凸缘及第二凸缘容置于所述凹槽内，所述卡环包括相互连接的第一半环及第二半环。本发明所提供的光学镀膜装置，通过将转动轴及基板承载架的两个凸缘卡合到卡环的凹槽，从而保证基板承载架相对转动轴连接平稳，不易发生倾斜。