用于传送电子器件的传送装置

    公开(公告)号:CN103569648B

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201310345430.2

    申请日:2013-08-09

    CPC classification number: H01L21/67721 B65G47/29 B65G51/03 H01L21/67736

    Abstract: 本发明公开了一种用于传送电子器件的传送装置,其包含有:i)传输轨道,其用于传送成行的电子器件,在成行的电子器件的前面具有领先的电子器件;ii)第一真空通道和第二真空通道,其和传输轨道相连接,该第一真空通道和第二真空通道被操作来产生真空力以分别在第一器件位置和第二器件位置抵靠于传输轨道固定电子器件,以致于在电子器件之间不存在重叠;以及iii)第一传感器和第二传感器,其相对于传输轨道设置,第一传感器被操作来在第一器件位置检测领先的电子器件存在与否以将领先的电子器件从传输轨道处移离,当领先的电子器件从第二真空通道沿着传输轨道被传送至第一真空通道时,第二传感器被操作来在位于第一器件位置和第二器件位置之间的传感器位置检测领先的电子器件存在与否。

    包含有成像设备的分割装置

    公开(公告)号:CN104766812A

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201410842749.0

    申请日:2014-12-30

    Abstract: 本发明公开一种用于切割工件的分割装置。该分割装置包含有:i)处理器;ii)至少一个固紧设备,用于固定待切割的工件;iii)切割设备,其和该至少一个固紧设备空间上相隔一段间隔距离,该切割设备用于切割固定于该至少一个固紧设备上的工件;以及iv)成像设备,其被操作来捕获包含有切割设备和参考特征的一个或多个图像。具体地,该处理器被配置来根据由成像设备所捕获的一个或多个图像确定切割设备和参考特征之间的间隔距离,以藉此确定切割设备和固定于该至少一个固紧设备上的工件之间的间隔距离。

    一种薄膜沉积装置
    47.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102817012B

    公开(公告)日:2015-01-28

    申请号:CN201210188760.0

    申请日:2012-06-08

    CPC classification number: C23C16/303 C23C16/45563 C23C16/45589

    Abstract: 一种利用反应源气体G1、G2将薄膜沉积到衬底113的表面的装置101被公开。所述装置101包括:i)被配置为容纳所述衬底的支撑设备111;和ii)被放置为与所述支撑装置相邻的旋转器105。具体地,旋转器105包括用于连接到发动机的轴毂106,一个或多个连接到轴毂106的叶片201。特殊地,所述一个或多个叶片201是运行着的以在一个平面上围绕轴毂旋转以便驱动反应源气体G1、G2的流体流动,以便将所述反应源气体G1、G2分布在衬底113的表面。

    使用成像设备以调整半导体元件的处理设备的装置和方法

    公开(公告)号:CN104253070A

    公开(公告)日:2014-12-31

    申请号:CN201410289675.2

    申请日:2014-06-25

    CPC classification number: H01L21/681 H01L21/67271

    Abstract: 本发明公开一种处理电子元件的装置,包括:i)旋转设备和多个围绕其环形设置的拾取头,每个拾取头固定电子元件;ii)位置确定设备,用于确定电子元件被各自拾取头固定时的布置;iii)基准标记,设置在指明由位置确定设备所确定的电子元件布置的位置;iv)第一成像设备,相对于基准标记设置;v)至少一个处理设备,用于处理电子元件。第一成像设备捕获包含有基准标记和至少一个处理设备的至少一个图像,以便根据从第一成像设备所捕获的至少一个图像中所提取的、基准标记和至少一个处理设备之间的偏差,调整至少一个处理设备的位置以相对于电子元件的布置对齐定位至少一个处理设备。一种调整用于处理电子元件的装置的至少一个处理设备位置的方法也被公开。

    在处理过程中支撑工件的装置和方法

    公开(公告)号:CN103531515A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310273515.4

    申请日:2013-07-02

    Abstract: 本发明公开了一种用于在工件处理过程中支撑工件的装置,该装置包含有:底座,其具有和真空源相连的真空腔室;支撑设备,其可相对于底座旋转,该支撑设备具有中空的间隔和支撑表面以固定工件;以及在该底座和支撑设备之间设置有一个或一个以上的密封设备,以在允许支撑设备相对于底座旋转的同时在底座和支撑设备之间提供气密密封,以便于形成真空通道,该真空通道从支撑设备的支撑表面处,通过支撑设备的中空间隔和底座的真空腔室,延伸至真空源,藉此在工件的处理过程中将工件固定至支撑设备的支撑表面处。

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