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公开(公告)号：CN103048712A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201310009896.5
申请日：2013-01-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种极紫外多层膜反射镜及其制作方法，该反射镜包括基底、硅铝合金薄膜层及锆薄膜层，硅铝合金薄膜层和锆薄膜层依次交替的沉积在基底上，直至最上层为锆薄膜层，硅铝合金薄膜层及锆薄膜层分别设有35～40层，硅铝合金薄膜层共分为五层，从上到下依次为：硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层、硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层及硅铝合金超薄膜层；制作方法包括以下步骤：首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上依次镀制硅铝合金薄膜层和锆薄膜层。与现有技术相比，本发明制备的极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、光学性能满足需求等优势，更适于对反射率要求较高的极紫外光学系统。
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公开(公告)号：CN118032698A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202410196987.2
申请日：2024-02-22
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/35 , C01B32/182
Abstract: 本发明涉及光谱测量技术领域，特别是一种基于石墨烯光电流谱的傅里叶变换光谱仪及其测量与制备方法，旨在原位实现高效、快速、精确的宽带光谱测量。该光谱仪充分利用石墨烯的宽带吸收特性和快速响应能力，采用了一体化石墨烯光电探测系统，通过优化待测样品与石墨烯光电探测器布局，实现了系统结构的简化。该系统通过在石墨烯探测器上方放置待测样品，宽谱光透射待测样品后在石墨烯探测器中激发光电流，能够高效、快速、精确地提取光谱数据。本发明的优势在于其系统结构的简化和样品‑探测器距离的优化，显著提升了信噪比并实现了高效、快速、精确的原位光谱探测，代表了傅里叶变换光谱仪技术领域的一项重大进步。
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公开(公告)号：CN108359950B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201810167868.9
申请日：2018-02-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种单色器用钌/碳化硼多层膜反射镜制备方法，包括以下步骤：在溅射镀膜腔内的样品架上放置基底，并对溅射镀膜腔进行抽真空，形成溅射镀膜真空腔；在所述溅射镀膜真空腔充入混合气体，所述混合气体由氩气和氮气混合而成，且混合气体的混合比例范围为16％‑30％，所述混合比例指氮气分压占混合气体总压强的百分比；执行钌靶材和碳化硼靶材的预溅射；完成钌膜层和碳化硼膜层交替的钌/碳化硼多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钌/碳化硼多层膜应力大幅度降低，且不会降低反射率。该方法工艺重复性高，可控性强，在高通量多层膜单色器元件和相应的X射线光学仪器领域有重要应用。
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公开(公告)号：CN107142456B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201710247265.5
申请日：2017-04-17
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备。该设备在圆形真空腔中心安放用于夹持凸形柱面镜的转动轴，在外围安装用于安放凹形柱面镜的转动圆环，在转动圆环和转动轴之间安放竖直摆放的线型磁控溅射靶枪，靶枪前安放有可以旋转的气动挡板。通过改变靶枪朝向和调整靶枪在真空腔内的径向位置，可使靶枪分别指向转动圆环和转动轴，并对安装在转动圆环上的凹形柱面镜或者是安装在转动轴上的凸形柱面镜进行镀制。通过改变靶枪前的气动挡板的开关以及转动圆环和转动轴的转动速率完成对薄膜制备工艺的控制。
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公开(公告)号：CN109243661A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811150730.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102681055B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201210172142.7
申请日：2012-05-30
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，涉及一种极紫外多层膜反射镜及其制备方法。该反射镜包括基底和硅铝合金/锆周期多层膜，其中硅铝合金/锆周期多层膜是硅铝合金薄膜层和锆薄膜层交替沉积于基底表面上。本发明与现有的Al基多层膜相比，硅铝合金/锆极紫外多层膜反射镜引入了化学性质和物理性质更为稳定的硅铝合金代替纯硅，在没有较大改变铝材料光学性能的基础上，抑制了Al膜层的结晶，改善了多层膜的界面，在保证较高的光谱分辨率的前提下，提升了反射镜的反射率。本发明提出的这种新型的硅铝合金/锆极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、易于制作、光学性能满足需求等优势，更适于对能谱分辨率和反射率要求均很高的极紫外光学系统。
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公开(公告)号：CN102681055A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210172142.7
申请日：2012-05-30
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，涉及一种极紫外多层膜反射镜及其制备方法。该反射镜包括基底和硅铝合金/锆周期多层膜，其中硅铝合金/锆周期多层膜是硅铝合金薄膜层和锆薄膜层交替沉积于基底表面上。本发明与现有的Al基多层膜相比，硅铝合金/锆极紫外多层膜反射镜引入了化学性质和物理性质更为稳定的硅铝合金代替纯硅，在没有较大改变铝材料光学性能的基础上，抑制了Al膜层的结晶，改善了多层膜的界面，在保证较高的光谱分辨率的前提下，提升了反射镜的反射率。本发明提出的这种新型的硅铝合金/锆极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、易于制作、光学性能满足需求等优势，更适于对能谱分辨率和反射率要求均很高的极紫外光学系统。
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公开(公告)号：CN102602070A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210044966.6
申请日：2012-02-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，公开了一种低应力中子转换薄膜元件及其制备方法。该元件包括基底(1)和碳化硼/铬周期多层膜(2)，铬薄膜层(3)和碳化硼薄膜层(4)交替沉积于基底(1)表面上，铬薄膜层(3)和碳化硼薄膜层(4)的数目相同。制备方法如下：首先对基底(1)进行清洗，然后在基底(1)上镀制碳化硼/铬周期多层膜(2)。本发明的基于碳化硼/铬周期多层膜的低应力中子转换薄膜元件具有低应力、高制作效率、价格便宜、中子转换性能满足需求等优势，更适于实现此类产品的产业化。
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公开(公告)号：CN218333153U
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202221843317.8
申请日：2022-07-18
Applicant: 同济大学
Abstract: 本实用新型提供一种用于中子自旋翻转器的多层中子薄膜自旋翻转元件，包括双面抛光的超光滑硅片基底、多层铁硅合金薄膜层和多层铬薄膜层，多层铁硅合金薄膜层与多层铬薄膜层依次交替沉积于超光滑硅片基底表面，多层中子薄膜自旋翻转元件的顶层为铬薄膜层，本实用新型主要以铁硅合金薄膜层为主，采用铬薄膜层作为插层的方法提升薄膜的饱和磁感应强度，使薄膜的饱和磁感应强度超过了1T，铬薄膜层可以有效调控铁硅合金薄膜层的微观结构，促进合理晶面的生长，抑制不需要晶面的生长。
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公开(公告)号：CN207632878U
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201721383956.X
申请日：2017-10-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本实用新型涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的装置，包括靶枪、掩膜版、样品架和电机，所述掩膜版设置于靶枪与样品架之间，且固定于所述靶枪上，所述样品架与靶枪间隔设置，所述电机与样品架连接，控制样品架围绕所述靶枪旋转，所述样品架设有多个，所述掩膜版遮盖所述靶枪的靶面，且使靶面在不同位置处具有不同宽度的未遮掩面。与现有技术相比，本实用新型能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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