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公开(公告)号：CN114659462A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210224144.X
申请日：2022-03-09
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种一维轮廓测量辅助修正的子孔径拼接干涉检测方法，该方法包括：先利用干涉仪，使用全局拼接算法拼接测量待测反射元件表面面形，获得拼接测试面，再利用一维轮廓测量设备测量待测反射元件在拼接区域中心线的一维轮廓L，之后结合一维轮廓测量结果对所述拼接测试面进行修正，最终获得高精度测量面。与现有技术相比，本发明具有可提高拼接后面形绝对精度、方便易行、简单有效等优点。
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公开(公告)号：CN109243661A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811150730.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。
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公开(公告)号：CN103983204B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201410050122.1
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种利用白噪声功率谱密度(PSD)校准光学表面轮廓仪有效空间分辨率的方法。白噪声会限制光学表面轮廓仪的空间分辨率，它是一种功率频谱密度为常数的随机信号或随机过程，利用这一规律，将测试结果中符合白噪声功率谱密度(PSD)曲线化规律的部分截断，剩余部分对应有效的空间频率范围。本发明原理简单、操作便捷，不需要借助其他设备，在检测光滑样品的同时就可以完成校准工作，显著降低了光学表面轮廓仪校准的难度和成本，确定了光学表面轮廓仪的有效空间分辨率。
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公开(公告)号：CN103954230B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201410050115.1
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种校准光学表面轮廓仪实际有效空间分辨率的方法。分形表面的功率谱密度曲线在对数坐标下是斜率为-n的直线。利用这一规律，采用原子力显微镜对符合分形表面的样品在不同范围内(10μm×10μm、5μm×5μm、2μm×2μm和1μm×1μm)进行测试，并将得到的功率谱密度(PSD)曲线的拟合直线作为标准对光学表面轮廓仪进行校准，实现确定表面轮廓仪实际有效空间分辨率的目的。本发明原理简单、操作便捷，在检测超光滑样品的同时就可以完成校准工作，显著降低了光学表面轮廓仪校准的难度和成本，确定了光学表面轮廓仪实际有效空间分辨率，定量的给出了实际空间分辨率范围内的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN117389061A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311417416.9
申请日：2023-10-30
Applicant: 同济大学
IPC: G02B27/62
Abstract: 本发明属于极紫外光学系统技术领域，涉及一种多通道阵列式Schwarzschild成像系统的装调方法，成像系统包括多个环绕排列的单镜通道，所述单镜通道包括单镜筒以及设于单镜筒内的主镜和副镜，装调方法包括：首先将单镜通道置于定心仪上，并使单镜筒的中心轴与定心仪的旋转轴重合，完成系统光轴的定位；之后将副镜的镜心和曲率中心连线定位于光轴上；将主镜的镜心和曲率中心连线定位于光轴上；最后采用上述方法装配其余的单镜通道，形成多镜通道，并在像面前方设置与多个单镜通道相对应的滤片框。与现有技术相比，本发明能够有效满足多类场景下的多通道高分辨极紫外成像实验需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117293004A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311252425.7
申请日：2023-09-26
Applicant: 同济大学
IPC: H01J37/302
Abstract: 本发明涉及一种基于椭圆束斑离子束的X射线反射镜二维修形方法，该包括以下步骤：获取待修形元件表面的待去除量；使用一级修正的大束径圆形束斑对待修形元件表面进行一级修正；若不满足一级修正的目标精度，则返回上一步骤；若满足，则进行下一步骤；确定二级修正的椭圆离子束束斑、二级修正的修正线的数量与间距；根据所述设备与椭圆离子束束斑设计掩膜板与待修形元件的空间位置；使用椭圆离子束束斑对待修形元件表面进行二级修正；若不满足加工精度要求，则重复此次步骤进行迭代二级修正加工；若满足加工精度要求，则加工完成。与现有技术相比，本发明具有较快的修正速度，使用了较少的刻蚀的线条数，同时具有较高的加工精度要求等优点。
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公开(公告)号：CN114659462B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202210224144.X
申请日：2022-03-09
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种一维轮廓测量辅助修正的子孔径拼接干涉检测方法，该方法包括：先利用干涉仪，使用全局拼接算法拼接测量待测反射元件表面面形，获得拼接测试面，再利用一维轮廓测量设备测量待测反射元件在拼接区域中心线的一维轮廓L，之后结合一维轮廓测量结果对所述拼接测试面进行修正，最终获得高精度测量面。与现有技术相比，本发明具有可提高拼接后面形绝对精度、方便易行、简单有效等优点。
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公开(公告)号：CN105700134A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610216319.7
申请日：2016-04-08
Applicant: 同济大学
CPC classification number: G02B27/0012 , G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种X射线宽光谱多层膜闪耀光栅设计方法，该方法包括以下步骤：1)确定宽光谱多层膜闪耀光栅的非周期多层膜结构的材料和膜对数，建立评价函数，以多层膜膜厚度变化最小和效率曲线平坦为优化目标，获取非周期多层膜结构中每一膜层的厚度；2)根据目标光谱波长范围和步骤1)中获得的非周期多层膜结构，选取闪耀光栅最优结构参数，使得到的宽光谱多层膜闪耀光栅在目标光谱波长范围内不同波长位置的衍射效率都达到最大，接近多层膜反射率。与现有技术相比，本发明方法设计的多层膜闪耀光栅膜层厚度变化小，制备简单，在目标光谱范围内理论上可以实现最高衍射效率的平坦响应。
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公开(公告)号：CN109243661B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201811150730.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。
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公开(公告)号：CN105441892B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201511026931.X
申请日：2015-12-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。
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