公开(公告)号：CN105441892B

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201511026931.X

申请日：2015-12-31

Applicant: 同济大学

Inventor： 王占山 ,  黄秋实 ,  王轶文 ,  蒋励 ,  张众

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/16 ,  C23C14/18 ,  G02B5/08

Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。

公开(公告)号：CN105441892A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201511026931.X

申请日：2015-12-31

Applicant: 同济大学

Inventor： 王占山 ,  黄秋实 ,  王轶文 ,  蒋励 ,  张众

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/16 ,  C23C14/18 ,  G02B5/08

CPC classification number: C23C14/3464 ,  C23C14/165 ,  C23C14/185 ,  C23C14/35 ,  G02B5/0875 ,  G02B5/0891

Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。