公开(公告)号：CN106493041A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201610718005.7

申请日：2016-08-24

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 铃木晓雄

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C11/02

Abstract: 提供涂布装置，能够通过提高涂布膜形成结束时的止液的响应性而形成均匀厚度的涂布膜。该涂布装置具有：载台部，其对基板进行载置；以及涂布液提供部，其向涂布喷嘴提供涂布液，一边将从涂布液提供部提供的涂布液从涂布喷嘴喷出，一边使涂布喷嘴与载台部相对地移动，从而在基板上形成涂布膜，该涂布装置还具有涂布液吸引部，其对涂布喷嘴内的涂布液进行吸引，涂布液吸引部具有吸引源以及吸引用容器，该吸引用容器配置于将该吸引源与涂布喷嘴连结的配管路径中，其直径比配管的直径大，涂布液吸引部的吸引动作是在来自涂布喷嘴的涂布液的液面存在于吸引用容器的状态下通过吸引源使吸引用容器内减压而进行的。

公开(公告)号：CN104160062B

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201380011711.2

申请日：2013-01-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 山下雅充 ,  藤元高佳 ,  岩出卓

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/02 ,  H01L51/44 ,  H01L51/52 ,  H05B33/04

CPC classification number: H01L31/028 ,  B82Y10/00 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/401 ,  H01L21/0245 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L31/0224 ,  H01L31/022475 ,  H01L31/022483 ,  H01L31/03926 ,  H01L31/0481 ,  H01L31/1804 ,  H01L51/0046 ,  H01L51/0078 ,  H01L51/424 ,  H01L51/448 ,  H01L51/5253 ,  H01L2251/308 ,  Y02E10/549

Abstract: 本发明提供一种膜，该膜通过为低应力且水分吸收少的密封膜结构，从而在经时变化中不会发生剥离，具有稳定的阻隔性。具体地说，提供一种含硅膜，该含硅膜具备：通过等离子体CVD法形成的包含硅元素且氧浓度为0元素％以上且小于10元素％的第1化学沉积层；和通过等离子体CVD法形成的包含硅元素且氧浓度超过35元素％且为70元素％以下的第2化学沉积层，其中，上述第1化学沉积层的厚度(L1)与上述第2化学沉积层的厚度(L2)之比L2/L1为1.5～9。

公开(公告)号：CN106232868A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201580020201.0

申请日：2015-02-23

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 山下雅充 ,  阵田敏行 ,  藤元高佳 ,  宫下胜好

IPC: C23C16/54

CPC classification number: C23C14/562 ,  C23C14/042 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/505 ,  C23C16/545

Abstract: 本发明提供一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置通过抑制一个制膜腔室中的薄膜材料气体进入其他制膜腔室，能够抑制所形成的薄膜的膜质的下降。即，该薄膜形成装置通过在使带状基材沿着主辊的外周面的状态下对带状基材进行输送并进行表面处理，由此在带状基材上形成薄膜，该薄膜形成装置以下述方式构成：其具备收纳主辊的主辊腔室以及在主辊的外径侧周向排列的多个制膜腔室，在所述间隔部上设置有将带状基材所移动的主辊的外周面覆盖的主辊罩，在该主辊罩上形成有与所述制膜腔室连通的制膜腔室连通部，将由所述主辊罩和主辊的外周面形成的主辊罩内的压力设定成比所述制膜腔室的压力高。

公开(公告)号：CN103240215B

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201310046137.6

申请日：2013-02-05

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 冈本俊一 ,  内泻外茂夫 ,  奥田大辅

IPC: B05D3/00 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法，能够对基板上的涂布液进行减压干燥的同时减少水分的混入而进行溶剂的回收，该减压干燥装置（1）包括：腔室部（2），收纳基板；排气装置（3），排出所述腔室部内的气体；回收装置（4），冷却气体，并回收冷却后产生的液化物；第一配管（5），连接腔室部和排气装置，途中经由回收装置；其中，对腔室部内部的气体通过第一配管由排气装置排出而进行减压，由此将涂布在基板（W）上的涂布液进行减压干燥，通过减压干燥从涂布液（R）挥发的溶剂在所述回收装置中通过冷却被液化后回收；该装置还设置有第二配管（6），连接腔室部和排气装置，途中不经由回收装置。

公开(公告)号：CN102649624B

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201210012000.4

申请日：2012-01-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 绀藤尊士 ,  钉井丰和

IPC: C03C17/00 ,  B05C5/02 ,  B05C11/00

Abstract: 本发明提供一种涂布装置和涂布方法。该涂布装置和涂布方法可防止由于受气流等的干扰而设置在金属箍附近的用于检测基板上的异物的异物检测装置的精度下降的问题，在通过相对于薄片状基板移动来对基板进行扫描并在基板表面上排出涂布液的涂布装置中，至少包括配置在所述排出装置的扫描方向的上游侧、并检测基板上的异物的检测装置，所述检测装置至少设置有：投光装置，与基板表面平行地照射激光；受光装置，接收所述投光的激光；遮掩装置，至少遮掩所述投光区域正下方的空气流动。

公开(公告)号：CN104159698B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201380012855.X

申请日：2013-02-13

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 滨川直良 ,  谷川央树

IPC: B23K37/02 ,  B23K26/03 ,  B23K26/064 ,  B23K26/08 ,  B23K26/00

CPC classification number: B23K26/0876 ,  B23K26/032 ,  B23K26/0344 ,  B23K26/0643 ,  B23K26/082 ,  B23K26/0846 ,  B23K26/355 ,  B23K37/0235 ,  B23K2101/36

Abstract: 提供标记装置及方法，即使是被连续地输送的标记对象物(10)也能够在无偏移的状态下连续地标记规定的描绘图案，能够提高生产性，为此，在对标记对象物(10)标记描绘图案的标记装置(1)中，其特征在于，所述标记装置(1)具备：输送部(2)，其沿着第一方向连续地输送标记对象物(10)；沿着第一方向移动标记单元(4)的标记单元第一移动部(5)和沿着第二方向移动标记单元(4)的标记单元第二移动部(6)；以及标记位置修正部(45)，所述标记装置(1)具备总控制部(95)，所述总控制部(95)对标记位置重合控制部(91)和同步移动控制部(93)进行控制，在沿着第一方向连续地输送标记对象物(10)的期间，将标记用光线(47)向标记对象物上的第一方向和第二方向的相同位置照射规定的时间。

公开(公告)号：CN105234055A

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201510378437.3

申请日：2015-07-01

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 宫岛勇也

IPC: B05C9/14 ,  B05C5/02 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明提供一种浮起输送装置，其能够不使基板破损地对其进行浮起输送。浮起输送装置具有：浮起台(2)，其使基板(W)浮起；手部(51)，其具有与基板的端面抵接的抵接部(53)，通过使抵接部与借助浮起台(2)而浮起的基板的端部抵接来把持基板；以及行走机构(52)，其使手部沿基板的输送方向移动，浮起台的基板浮起面(23)在与输送方向垂直的宽度方向上比基板的宽度窄，所述基板浮起面是使基板浮起的面，当手部把持基板时，抵接部在宽度方向上在比基板浮起面靠外侧的位置与基板抵接，抵接部的下端位于比基板浮起面低的位置。

公开(公告)号：CN105103533A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480018385.2

申请日：2014-02-21

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 大久保宪治 ,  井中千草

IPC: H04N5/225 ,  G01B11/00 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  H04N1/19

CPC classification number: G01N21/8901 ,  G01N21/956

Abstract: 不依赖摄像机的摄像特性、高速地对工件进行摄像。具体而言，在一边使由多台具有线传感器的摄像机构成的摄像单元和对工件进行保持的保持台以规定的移动速度相对地水平移动一边对该工件进行摄像的摄像过程中，根据摄像机的台数将移动速度调整为比由线传感器的分辨率和扫描频率所决定的最佳移动速度快的速度，根据摄像机的台数均等地分割扫描频率，将该扫描频率轮流分配给摄像机，一边重复在各扫描频率的起始点进行摄像机的快门开启、并且将摄像机的曝光时间调整到各扫描频率内的循环，一边对所述工件进行摄像，并根据由摄像机取得的亮度值对工件的图像进行重构。

公开(公告)号：CN104941889A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201510127242.1

申请日：2015-03-23

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 伊藤祯彦 ,  森俊裕 ,  邵鹏

IPC: B05D3/00

Abstract: 本发明提供干燥装置，其能够与多个配置图案对应地自动进行支撑销的配置更换，并且在基板的产品形成区域不产生干燥不均。本发明的干燥装置具备：腔室(11)，其容纳基板；和支撑部(13)，其利用多个支撑销(15)来支撑基板，支撑部具有：多个轴(14)，其与旋转轴线平行地配设；和旋转销(17)，其沿着旋转轴线配设于各轴的外周部，旋转销在沿着轴的外周部的周向而在中心角θ为(n-1)×α的位置，具有沿法线方向延伸的支撑销(15)，其中，n是1～N的整数，N是配置图案的种类数，α是任意的角度，具有第M个配置图案的基板由通过使各旋转轴(14)旋转至旋转角度而选择出的多个支撑销(15)来支撑，其中，M是1～N的整数。

公开(公告)号：CN103460029B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201280014931.6

申请日：2012-03-13

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 久世康之 ,  山本比佐史

IPC: G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/956 ,  G06T7/0004 ,  G06T7/136 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148 ,  H01L22/12

Abstract: 为了使被检查对象物的形状物在外观检查装置的平台上的平台坐标和形状物地址相关联而保持，在利用外观检查装置的低倍率透镜进行的预扫描工序中，利用所得到的摄像图像，与平台坐标相关联地赋予形状物地址，在实际检查工序中，利用形状物地址削减被检查对象物的搜索时间，由此缩短检查准备工序和实际检查的综合的检查节拍时间。