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公开(公告)号：CN1782886A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510128823.3
申请日：2005-12-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多德斯 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , B·斯特里克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN1550905A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043180.8
申请日：2004-05-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特雷克 , L·P·巴克 , J·J·M·巴塞曼斯 , H·H·M·科西 , A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , J·C·H·穆肯斯 , G·P·M·范努恩 , K·西蒙 , B·A·斯拉赫克 , A·斯特拉艾杰 , J·-G·C·范德图恩 , M·豪克斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70425 , G03F7/70525 , G03F7/709
Abstract: 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。
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公开(公告)号：CN1499298A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310114397.9
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7088
Abstract: 基片表面的图案在测量位置产生。然后基片移动到投影透镜和基片之间的空间，该空间充有液体。基片然后利用如投射图象传感器和前面的图象进行对准，然后对基片进行精确曝光。这样形成的图象不会在液体环境下出现。
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公开(公告)号：CN102226869A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201110166731.X
申请日：2009-04-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·J·G·范德敦根 , N·F·寇普拉斯 , M·H·A·里恩德尔 , P·M·M·里伯艾格特斯 , J·C·H·穆肯斯 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , M·贝克尔斯 , R·莫尔曼 , C·D·格乌斯塔 , D·M·H·菲利普斯 , R·J·P·沃黑斯 , P·马尔德 , E·范维利特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种器件制造方法，所述方法包括步骤：把浸没液体限制在空间中，所述空间被限定在投影系统、衬底和/或衬底台、流体处理结构、以及在所述流体处理结构与所述衬底和/或所述衬底台之间延伸的浸没液体的弯月面之间，所述投影系统被设置用于把图案化的辐射束投影到在衬底的目标部分的像场上，以及所述衬底台被设置用于支撑所述衬底；和引起所述投影系统与衬底和/或衬底台之间的相对运动；调节成像的参数以设置形成在像场外部的任何气泡。
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公开(公告)号：CN102147574A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101382738B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200810168966.0
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统。其中所述液体供给系统还包括在所述液体供给系统中液体的顶面上，用于抑制波动产生的抑制装置并且包括压力释放装置。
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公开(公告)号：CN100562805C
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200310114397.9
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7088
Abstract: 一种光刻投影装置，辐射系统；支承结构，可支承形成图案机构，可根据希望的图案使所述投影光束形成图案；基片台，可固定保持基片；投影系统，可将形成图案的光束投影到所述基片的目标部分；密封件，位于所述投影系统的终端件下面和周围并包括液体供应系统，液体供应系统可使所述投影系统的终端件和所述基片之间充满液体并且围绕所述投影系统的成像区对基片形成无接触密封；和测量系统，可测量所述基片上各点的位置；其中，所述测量系统在所述液体供应系统之外的单独的测量位置测量所述基片上各点的位置，并且所述密封件底部和所述基片的表面之间形成无接触气体密封，以限制所述液体供应系统中的液体。本发明还提供了一种器件制作方法。
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公开(公告)号：CN101424881A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810168967.5
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统所述间隙通过输送管与贮液器以液体方式连接，并且在垂直于液体流动方向的平面中，所述输送管的最小横截面面积至少是π(8ΔVηL/πΔPmaxtmin)1/2，其中ΔV是时间tmin内必须从所述间隙清除的液体的容积，L是输送管的长度，η是在所述间隙中液体的粘度，以及ΔPmax是在所述末端元件上的最大允许压力。
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公开(公告)号：CN101382738A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810168966.0
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统。其中所述液体供给系统还包括在所述液体供给系统中液体的顶面上，用于抑制波动产生的抑制装置并且包括压力释放装置。
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公开(公告)号：CN101349876A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200810213496.5
申请日：2003-11-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
Abstract: 本发明提供了一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；和液体供给系统，所述液体供给系统用于向由所述投射系统的最终元件的表面和所述基底的表面限定的空间提供浸没液体；所述光刻投射装置还包括当所述基底从所述投射系统下移开时，用于保持所述最终元件的所述表面与液体接触的装置。另外提供了一种器件制造方法。
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