-
公开(公告)号：CN109852927A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201910180279.9
申请日：2019-03-11
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种用于涂硼中子探测器富硼涂层的薄膜结构，包括基底和B4C薄膜其特征在于，所述基底和B4C薄膜间设置有金属层；所述的金属层的材料为活泼金属；该活泼金属优选为Ti、Ni、Al、Mg或MgAl合金中的一种；所述金属层的厚度小于100nm。与现有技术相比，本发明大大增强了B4C薄膜与铝基底间的黏附效果；解决B4C薄膜从铝基底上脱落的问题，具有制备简单，膜系结构简单，工艺成熟，可制备性强等优点。
-
公开(公告)号：CN106987817A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710247339.5
申请日：2017-04-17
Applicant: 同济大学
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/044 , C23C14/54
Abstract: 本发明涉及一种提高线型磁控溅射靶枪在凹形柱面基底镀膜质量的方法，分别利用安装在靶枪前方的掩膜板和安装在样品架上位于样品两侧对称位置的分隔板，限制大尺寸线型磁控溅射靶枪在水平和竖直方向溅射粒子的发散角度，使得溅射粒子倾斜轰击基板的入射角度减小，减小倾斜轰击基板的溅射粒子对成膜质量的不利影响，提高凹形柱面基底的薄膜质量。
-
公开(公告)号：CN109243661B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201811150730.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。
-
公开(公告)号：CN109298474A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201811440099.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明涉及一种X射线宽光谱三层膜反射镜结构设计方法，所述三层膜反射镜结构包括自下而上依次设置的基板、高密度层、中间密度层和低密度层，所述设计方法包括：材料选择步骤：根据反射镜的使用环境和带有权重因子的入射光谱能量范围，确定高密度层、中间密度层和低密度层的材料；厚度设置步骤：根据X射线的掠入射角度，以目标能量光谱范围中积分反射率最高为优化目标建立评价函数，获得所述高密度层、中间密度层和低密度层的厚度。与现有技术相比，本发明所设计的反射镜结构简单，易于制备，可以实现较高的积分反射率面积，有效地增加望远镜的有效集光面积。
-
公开(公告)号：CN108203808A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201711007075.2
申请日：2017-10-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置，所述方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜，通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性，同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方向的均匀性。与现有技术相比，本发明能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105441892B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201511026931.X
申请日：2015-12-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。
-
公开(公告)号：CN103091692B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201310009375.X
申请日：2013-01-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法，该薄膜量热计包括基底和镀制在基底上的镍单层膜，首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上镀制镍单层膜，最后用激光刻蚀的方法在镍单层膜上刻蚀出图案。与现有技术相比，本发明克服了传统的薄膜量热计制作工艺繁杂、设备昂贵、制备过程有潜在的化学危害、图案易失真等缺点，元件性能和制备工艺得到了很大的提高；本发明的阻抗式镍薄膜量热计具有价格便宜、易于制作、性能满足实际应用需求等优势，更适于实现此类产品的产业化。
-
公开(公告)号：CN103076644B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201310006877.7
申请日：2013-01-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，涉及一种极紫外多层膜反射镜及其制备方法。该反射镜包括基底和硅铝合金/硅/锆/硅周期多层膜，其中硅铝合金/硅/锆/硅周期多层膜是硅铝合金薄膜层、硅薄膜层、锆薄膜层和硅薄膜层交替沉积于基底表面上。本发明与现有的铝基多层膜相比，通过在硅铝合金/锆膜层之间引入纳米厚度的硅薄膜层，抑制了硅铝合金与锆膜层之间的相互扩散，改善了多层膜的界面，有效提升了反射镜的反射率。本发明提出的这种新型的硅铝/硅/锆/硅极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、光学性能满足需求等优势，适用于对能谱分辨率和反射率要求均很高的极紫外光学系统。
-
公开(公告)号：CN102520470B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201110425986.3
申请日：2011-12-19
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于精密光学元件制作技术领域，公开了一种硬铝/碳化硅极紫外多层膜反射镜及其制备方法。本发明的反射镜包括基底(1)和硬铝/碳化硅周期多层膜(2)，硬铝薄膜层(3)和碳化硅薄膜层(4)交替沉积于基底(1)表面上。本发明的反射镜制备方法如下：首先对基底(1)进行清洗，然后在基底(1)上镀制硬铝/碳化硅周期多层膜(2)。本发明的反射镜克服了传统的铝/碳化硅多层膜界面粗糙度和膜层材料相互渗透较大等缺点，降低了制作工艺难度，并将金属材料的价格降低了2个数量级；这种新型的硬铝/碳化硅极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、易于制作、价格便宜、光学性能满足需求等优势，更适于实现此类产品的产业化。
-
公开(公告)号：CN103091692A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310009375.X
申请日：2013-01-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法，该薄膜量热计包括基底和镀制在基底上的镍单层膜，首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上镀制镍单层膜，最后用激光刻蚀的方法在镍单层膜上刻蚀出图案。与现有技术相比，本发明克服了传统的薄膜量热计制作工艺繁杂、设备昂贵、制备过程有潜在的化学危害、图案易失真等缺点，元件性能和制备工艺得到了很大的提高；本发明的阻抗式镍薄膜量热计具有价格便宜、易于制作、性能满足实际应用需求等优势，更适于实现此类产品的产业化。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
50
records
(took 0.023 seconds)
