基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法

    公开(公告)号:CN103091692B

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201310009375.X

    申请日:2013-01-10

    Applicant: 同济大学

    Inventor: 张众 梁玉 王海霞

    Abstract: 本发明涉及一种基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法,该薄膜量热计包括基底和镀制在基底上的镍单层膜,首先对基底进行清洗,然后采用直流磁控溅射方法在基底上镀制镍单层膜,最后用激光刻蚀的方法在镍单层膜上刻蚀出图案。与现有技术相比,本发明克服了传统的薄膜量热计制作工艺繁杂、设备昂贵、制备过程有潜在的化学危害、图案易失真等缺点,元件性能和制备工艺得到了很大的提高;本发明的阻抗式镍薄膜量热计具有价格便宜、易于制作、性能满足实际应用需求等优势,更适于实现此类产品的产业化。

    基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法

    公开(公告)号:CN103091692A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201310009375.X

    申请日:2013-01-10

    Applicant: 同济大学

    Inventor: 张众 梁玉 王海霞

    Abstract: 本发明涉及一种基于激光刻蚀方法的阻抗式镍薄膜量热计及其制作方法,该薄膜量热计包括基底和镀制在基底上的镍单层膜,首先对基底进行清洗,然后采用直流磁控溅射方法在基底上镀制镍单层膜,最后用激光刻蚀的方法在镍单层膜上刻蚀出图案。与现有技术相比,本发明克服了传统的薄膜量热计制作工艺繁杂、设备昂贵、制备过程有潜在的化学危害、图案易失真等缺点,元件性能和制备工艺得到了很大的提高;本发明的阻抗式镍薄膜量热计具有价格便宜、易于制作、性能满足实际应用需求等优势,更适于实现此类产品的产业化。

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