公开(公告)号：CN1475029A

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：CN01819060.X

申请日：2001-10-09

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 中川秀夫 ,  笹子胜 ,  远藤政孝 ,  平井义彦

IPC: H01L21/316 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L21/76819 ,  H01L21/31051

Abstract: 一种半导体装置的制造方法，对形成了具有台阶差的层的基板的表面供给具有流动性的物质，在形成了流动性膜后，利用具有平坦的按压面的按压构件将流动性膜按压到基板上，使流动性膜的表面平坦化。在该状态下，通过加热流动性膜使该流动性膜固化，形成具有平坦的表面的被固化了的膜。

公开(公告)号：CN1461047A

公开(公告)日：2003-12-10

申请号：CN03128623.2

申请日：2003-04-28

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 中川秀夫 ,  笹子胜

IPC: H01L21/31

CPC classification number: H01L21/7682 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31695 ,  H01L23/5222 ,  H01L23/5329 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/48 ,  H01L2221/1047 ,  H01L2224/04042 ,  H01L2224/05093 ,  H01L2224/05556 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2224/27416 ,  H01L2224/451 ,  H01L2224/48463 ,  H01L2224/85424 ,  H01L2224/85447 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明涉及低介电常数绝缘膜形成用材料、低介电常数绝缘膜、低介电常数绝缘膜的形成方法及具有低介电常数绝缘膜的半导体器件。本发明目的在于提高由多孔膜构成的低介电常数绝缘膜的机械强度。形成低介电常数绝缘膜的溶液含有硅树脂(2)和主要由硅原子及氧原子构成的具有多个空穴的微粒子(3)及溶剂(4)。

公开(公告)号：CN1326219A

公开(公告)日：2001-12-12

申请号：CN01104348.2

申请日：2001-02-28

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 中川秀夫

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/7681 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76804

Abstract: 一种有机膜的腐蚀方法,使用以含碳、氢以及氮的化合物为主要成分的腐蚀气体所生成的等离子对有机膜进行腐蚀。通过该腐蚀方法使有机膜上的凹部截面成为垂直形状或正锥形形状。

公开(公告)号：CN103424984B

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201310182559.6

申请日：2013-05-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  深谷创一 ,  稻月判臣 ,  中川秀夫

IPC: G03F1/62

Abstract: 本发明涉及光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置。本发明提供光学浓度等特性的偏差小且缺陷少品质高、并且具有高蚀刻速度的功能性膜的制造技术。本发明的光掩模坯料的制造方法中，在制造透明衬底上具备至少一层功能性膜的光掩模坯料时，功能性膜由含有铬元素和与铬的混合体系成为液相的温度为400℃以下的金属元素的铬系材料构成，在形成该功能性膜的工序中，使铬靶(靶A)和以至少一种所述金属元素作为主要成分的靶(靶B)同时溅射(共溅射：Co‑Sputtering)。另外，除了可以采用上述靶A和靶B各使用一个的方式以外，还可以采用其中任意一种靶使用多个的方式或两种靶都使用多个的方式。

公开(公告)号：CN103424980B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201310182376.4

申请日：2013-05-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 深谷创一 ,  中川秀夫 ,  笹本纮平

IPC: G03F1/32

CPC classification number: G03F1/26 ,  G03F1/30 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明涉及光掩模坯料、光掩模的制造方法以及相移掩模的制造方法。本发明提供能够在确保由铬系材料构成的遮光膜所要求的光学特性和化学特性等各种特性的同时提高该遮光膜的干蚀刻速度的新技术。设置在透明衬底(1)上的遮光膜(2)具有单层结构或多层结构，至少一层由含有锡的铬系材料形成。另外，该遮光膜(2)的光学浓度为2以上且4以下并且具有防反射功能。构成遮光膜(2)的由含有锡的铬系材料构成的层能够在不使遮光性降低的情况下显著提高含氧的氯类干蚀刻时的蚀刻速度。因此，将图案转印到该遮光膜上时对抗蚀剂图案和硬掩模图案的负荷得到减轻，能够以高精度进行图案转印。

公开(公告)号：CN103424986A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310182369.4

申请日：2013-05-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 深谷创一 ,  中川秀夫 ,  笹本纮平

IPC: G03F7/00

CPC classification number: B29C33/3842 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C15/00 ,  C03C17/00 ,  C03C17/23 ,  C03C17/3665 ,  C04B35/047 ,  C04B35/105 ,  C04B35/12 ,  C04B35/56 ,  C04B35/58 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F1/48 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/0002

Abstract: 本发明涉及模具制作用坯料及模具的制造方法。本发明提供能够在确保由铬系材料构成的硬掩模膜的硬掩模功能的同时通过提高该硬掩模膜的干蚀刻速度来提高蚀刻加工性的新技术。设置在衬底(1)上的硬掩模膜(2)由含有锡的铬系材料形成。对于构成硬掩模膜(2)的含有锡的铬系材料而言，对氟类干蚀刻条件的蚀刻耐性与不含锡的铬系材料膜的蚀刻耐性同等或者在其以上，而且在氯类干蚀刻条件下显示出与不含锡的铬系材料膜相比显著高的蚀刻速度。结果，氟类干蚀刻的时间缩短而减轻对抗蚀剂图案的损伤，能够以高精度进行图案转印。

公开(公告)号：CN119998351A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202380072690.9

申请日：2023-10-04

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  学校法人关西大学

Inventor： 野田大辅 ,  中川秀夫 ,  入船真治 ,  原田美由纪

IPC: C08G59/18 ,  C08K3/013 ,  C08L63/00

Abstract: 本发明为一种环氧树脂组合物，其包含(A)在一分子内包含2个以上环氧基的环氧树脂、(B)下述式(1)所表示的含介晶基团的聚有机硅氧烷、(C)环氧树脂固化剂。可提供一种包含具有介晶基团的聚有机硅氧烷的环氧树脂组合物。在式(1)中，R1彼此独立地表示选自碳原子数为1~12的烷基、碳原子数为6~12的芳基及碳原子数为7~12的芳烷基中的基团或羟基，p为0~100的整数，R2彼此独立地表示下述式(2)或式(3)，在式(2)及式(3)中，R3及R4彼此独立地表示氢原子或碳原子数为1~10的一价烃基，L为碳原子数为1~12的二价烃基，a及b为0~4的整数，G为缩水甘油基。#imgabs0##imgabs1##imgabs2#

公开(公告)号：CN113396485B

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN201980091218.3

申请日：2019-12-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 中川秀夫 ,  小川敬典 ,  松本展明 ,  上田修平 ,  大堀敬司 ,  大竹滉平

IPC: H01L33/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明为一种模板头单元，其包含：模板部件，其在石英玻璃基板上至少具备有机硅类橡胶膜；模板部件保持部件，其具备具有孔的面，该孔用于对前述模板部件的石英玻璃基板面进行真空抽吸；以及，管状部件，其具有排气抽吸孔且与前述模板部件保持部件结合固定，该排气抽吸孔以能够保持真空的状态与前述用于进行真空抽吸的孔连通连接。由此，提供一种能够通过简便的真空卡盘方式稳定地固定的模板部件、能够在短时间内对该模板部件进行更换的模板头单元、以及具备该模板部件、模板头单元的微小构造体移载装置。

公开(公告)号：CN116615798A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202180084291.5

申请日：2021-11-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 中川秀夫 ,  小川敬典 ,  小材利之

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种微小构造体移载用压印部件，其特征在于，在基板上形成有有机硅系橡胶膜，与所述基板为相反侧的所述有机硅系橡胶膜表面具有一个以上的封闭凹部，该封闭凹部在表面开口部以外封闭。由此，可提供一种能够在短时间内优化有机硅系橡胶膜压印表面的临时粘接力的微小构造体移载用压印部件。

公开(公告)号：CN113396485A

公开(公告)日：2021-09-14

申请号：CN201980091218.3

申请日：2019-12-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 中川秀夫 ,  小川敬典 ,  松本展明 ,  上田修平 ,  大堀敬司 ,  大竹滉平

IPC: H01L33/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明为一种模板头单元，其包含：模板部件，其在石英玻璃基板上至少具备有机硅类橡胶膜；模板部件保持部件，其具备具有孔的面，该孔用于对前述模板部件的石英玻璃基板面进行真空抽吸；以及，管状部件，其具有排气抽吸孔且与前述模板部件保持部件结合固定，该排气抽吸孔以能够保持真空的状态与前述用于进行真空抽吸的孔连通连接。由此，提供一种能够通过简便的真空卡盘方式稳定地固定的模板部件、能够在短时间内对该模板部件进行更换的模板头单元、以及具备该模板部件、模板头单元的微小构造体移载装置。