公开(公告)号：CN110885282A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201910856590.0

申请日：2019-09-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  大桥正树 ,  片山和弘 ,  山田健司

IPC: C07C25/18 ,  C07C59/115 ,  C07C51/41 ,  C07C43/225 ,  C07D207/27 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN106054530B

公开(公告)日：2019-12-06

申请号：CN201610227786.X

申请日：2016-04-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  小竹正晃 ,  土门大将 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 化学增幅型负型抗蚀剂组合物定义为包括(A)具有阴离子基团的鎓盐，该阴离子基团为稠环结构的含氮羧酸根，(B)基础树脂，和(C)交联剂。该抗蚀剂组合物在曝光步骤过程中对于控制酸扩散有效，在图案形成过程中显示非常高的分辨率，并且形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：CN105954973B

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201610102176.7

申请日：2016-02-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小竹正晃 ,  藤原敬之 ,  增永惠一 ,  土门大将 ,  渡边聪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法。该抗蚀剂组合物包括适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂和含氮羧酸的锍或碘鎓盐，具有高分辨率。采用光刻法，能够形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：CN109422672A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810970031.8

申请日：2018-08-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  三井亮 ,  大桥正树 ,  谷口良辅 ,  长谷川幸士

IPC: C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C08F220/18 ,  C08F220/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。包含特定结构的锍化合物作为PAG的抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如最小的缺陷、高感光度、改善的LWR和CDU，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。

公开(公告)号：CN119805857A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202411399214.0

申请日：2024-10-09

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/004 ,  C07D333/76 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C07C311/51 ,  C07C311/04 ,  C07C311/48 ,  C07C311/24 ,  C07C311/29 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的芳基磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的磺酰亚胺阴离子结构或磺酰胺阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。

公开(公告)号：CN119270589A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202410882572.0

申请日：2024-07-03

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  渡边朝美 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种抗蚀材料和图案形成方法。[课题]提供灵敏度高且LWR、CDU得以改善的抗蚀材料和使用其的图案形成方法。[解决手段]一种抗蚀材料，其包含含有重复单元a的基础聚合物，所述重复单元a由取代或非取代的芳基磺酸阴离子和鎓阳离子形成，所述取代或非取代的芳基磺酸阴离子键合于具有包含碘原子或溴原子的基团的聚合物主链。

公开(公告)号：CN110908242B

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN201910880788.2

申请日：2019-09-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的猝灭剂的抗蚀剂组合物提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU，而不管其为正色调的还是负色调的。

公开(公告)号：CN110908243B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN201910880802.9

申请日：2019-09-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的产酸剂的抗蚀剂组合物不管其为正型还是负型，都提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU。

公开(公告)号：CN113045465B

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202011454985.7

申请日：2020-12-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  及川健一 ,  小林知洋 ,  福岛将大

IPC: C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D335/12 ,  C07D327/08 ,  C07D339/08 ,  C07D279/20 ,  C07C25/18 ,  C07C39/367 ,  C07C69/708 ,  C07C43/225 ,  C07D347/00 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D327/06 ,  C07D295/00 ,  C07C69/76 ,  C07C69/84 ,  C07C205/58 ,  C07C233/54 ,  C07C69/92 ,  C07C69/86 ,  C07C69/94 ,  C07D307/54 ,  C07D307/33 ,  C07C59/135 ,  C07C69/753 ,  C07C69/40 ,  C07C69/732 ,  C07C69/36 ,  C07C69/96 ,  C07C59/56 ,  C07C69/07 ,  C07C69/63 ,  C07C59/64 ,  C07D307/80 ,  C07C69/78 ,  C07C69/767 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。

公开(公告)号：CN108623506B

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN201810234145.6

申请日：2018-03-21

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 藤原敬之 ,  三井亮 ,  片山和弘

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C303/32 ,  C07C59/115 ,  C07C51/41 ,  C07D335/02 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1][化学式2]