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公开(公告)号：CN116819888A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310309036.7
申请日：2023-03-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明课题为提供即使在高曝光量区域仍因高分辨度而使粗糙度或孔洞图案的尺寸均匀性减少，曝光后的图案形状良好且蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物。该课题解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：树脂(A)，具有通式(p‑1)表示的重复单元、通式(a‑1)表示的因酸的作用而极性会变化并成为可溶于碱水溶液的重复单元、及通式(b‑1)表示的重复单元，树脂(B)，具有通式(p‑2)表示的重复单元、通式(a‑1)表示的因酸的作用而极性会变化并成为可溶于碱水溶液的重复单元、及通式(b‑1)表示的重复单元，及溶剂(D)；其中，该抗蚀剂组成物所含的该树脂(A)的含量比该树脂(B)的含量少。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN106094450B
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201610272230.2
申请日：2016-04-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。通过将抗蚀剂组合物涂布到基材上，烘焙，将该抗蚀剂膜曝光，PEB，和在有机溶剂显影剂中显影，从而形成图案。该抗蚀剂组合物包括(A)PPD抑制剂、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解性的聚合物、(C)光致产酸剂、和(D)有机溶剂。该抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制起因于从PEB到显影的延迟的任何CD收缩和图案轮廓变化。
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公开(公告)号：CN107688278B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201710659370.X
申请日：2017-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及负型抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法。本发明提供了一种包含(A)甜菜碱型的锍化合物和(B)聚合物的负型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物对于在曝光步骤期间控制酸扩散是有效的，且在图案形成期间呈现出非常高的分辨率，并形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN105676592B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201510893749.8
申请日：2015-12-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括特定的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。
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公开(公告)号：CN106094450A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610272230.2
申请日：2016-04-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。通过将抗蚀剂组合物涂布到基材上，烘焙，将该抗蚀剂膜曝光，PEB，和在有机溶剂显影剂中显影，从而形成图案。该抗蚀剂组合物包括(A)PPD抑制剂、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解性的聚合物、(C)光致产酸剂、和(D)有机溶剂。该抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制起因于从PEB到显影的延迟的任何CD收缩和图案轮廓变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117586162A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311025714.3
申请日：2023-08-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , C07D333/76 , C07D327/08 , C07D333/54 , C07D307/00 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C25/18 , C07C17/00
Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的目的在于提供于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、曝光余裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物使用的鎓盐、含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(1)表示的鎓盐。
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公开(公告)号：CN105676592A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201510893749.8
申请日：2015-12-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括特定的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。
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公开(公告)号：CN110885282B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201910856590.0
申请日：2019-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C25/18 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07C43/225 , C07D207/27 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN110885282A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910856590.0
申请日：2019-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C25/18 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07C43/225 , C07D207/27 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN108255015A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201711458964.0
申请日：2017-12-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C323/20 , C07C2601/16 , C08F212/14 , C08F2800/10 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/2053 , G03F7/2059 , G03F7/322 , G03F7/327
Abstract: 本发明涉及化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的锍化合物和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成过程中显示出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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