半导体器件及其制造方法
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107919358B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN201710880103.5

    申请日:2017-09-26

    Abstract: 一种半导体器件和制造半导体器件的方法,该器件包括:在衬底上的栅极结构;分别在衬底的邻近栅极结构的部分上的源极/漏极层;分别接触源极/漏极层的上表面的第一接触插塞;接触栅极结构中的一个的第二接触插塞,第二接触插塞的侧壁由绝缘间隔物覆盖;以及共同地接触栅极结构中的至少一个的上表面和第一接触插塞中的至少一个的第三接触插塞,第三接触插塞的侧壁的至少一部分不被绝缘间隔物覆盖。

    包括标准单元的集成电路
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110838484B

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN201910307666.4

    申请日:2019-04-17

    Abstract: 一种包括标准单元的集成电路包括:多个第一阱,以第一宽度沿第一水平方向延伸并具有第一导电类型;以及多个第二阱,以第二宽度沿第一水平方向延伸并具有第二导电类型,其中所述多个第一阱和所述多个第二阱在与第一水平方向正交的第二水平方向上交替布置,当m和n是大于或等于3的整数时,标准单元具有第二水平方向上的长度,该长度等于第一宽度的一半的m倍与第二宽度的一半的n倍之和。

    半导体器件
    33.
    发明公开
    半导体器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN117012749A

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202310470739.8

    申请日:2023-04-26

    Abstract: 一种半导体器件包括:衬底,包括第一侧和与第一侧相对的第二侧;第一电力轨和第二电力轨,设置在衬底的第一侧上,第一电力轨和第二电力轨沿第一方向延伸并且在第二方向上分离;第一有源区和第二有源区,设置在衬底的第一侧上,第一有源区和第二有源区由第一电力轨与第二电力轨之间的元件分离膜限定并且在第二方向上分离;电力输送网络,设置在衬底的第二侧上;以及第一电力通孔,穿透元件分离膜和衬底,第一电力通孔连接电力输送网络和第一电力轨。

    半导体器件
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110504265A

    公开(公告)日:2019-11-26

    申请号:CN201910202048.3

    申请日:2019-03-15

    Abstract: 一种半导体器件,包括:顺序设置在衬底上的第一单元至第四单元;第一扩散中断结构至第三扩散中断结构;配置为从衬底突出的第一鳍结构,第一鳍结构包括由第一扩散中断结构至第三扩散中断结构彼此分开的第一鳍至第四鳍;第二鳍结构,配置为从衬底突出,与第一鳍结构间隔开,第二鳍结构包括由第一扩散中断结构至第三扩散中断结构彼此分开的第五鳍至第八鳍;第一栅电极至第四栅电极,分别设置在第一单元至第四单元中,并且第一单元、第二单元和第四单元中的每一个中的鳍的数量是两个。

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