公开(公告)号：CN103910610B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201310535509.1

申请日：2013-11-01

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李范珍 ,  金润俊 ,  赵娟振

IPC: C07C39/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/26 ,  C07C33/36 ,  G03F7/094

Abstract: 本发明披露了一种硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法。具体地，本发明披露了由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及利用硬掩模组合物来形成图案的方法。在化学式1中，A1至A4、X1至X3、M和n与在具体实施方式中描述的相同，[化学式1]

公开(公告)号：CN104109589A

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201310567460.8

申请日：2013-11-14

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 裵镇希 ,  李汉松 ,  任浣熙 ,  金古恩 ,  郭泽秀 ,  金补宣 ,  金相均 ,  罗隆熙 ,  朴银秀 ,  徐珍雨 ,  宋炫知 ,  赵娟振 ,  韩权愚 ,  黄丙奎

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/24 ,  C11D7/50 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/0206 ,  C08G77/54 ,  C08G77/62 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  C11D7/266 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02214 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02326 ,  H01L27/1085 ,  H01L28/40

Abstract: 本发明提供了用于绝缘膜的清洗液以及清洗绝缘膜的方法。公开了包含由以下化学式表示的溶剂的用于绝缘层的清洗液、以及利用所述清洗液清洗绝缘层的方法。在化学式1中，R1和Ra至Re与在详细描述中所定义的相同。

公开(公告)号：CN104823106B

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN201380059123.6

申请日：2013-10-02

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 辛乘旭 ,  金润俊 ,  金惠廷 ,  赵娟振 ,  崔有廷

IPC: C07C65/40 ,  G03F7/16 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  C07C63/26 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  C07C65/32 ,  G03F7/26 ,  C07C63/15 ,  C07C65/34 ,  G03F1/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明是关于一种由化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、一种含有单体的硬掩膜组合物、以及一种使用硬掩膜组合物的图案形成方法。在上述的化学式1中，A、A′、L、L′、X以及n与说明书中所定义的相同。所述用于硬掩膜组合物的单体具有优良的抗化学性以及抗蚀刻性，不会产生逸出气体。

公开(公告)号：CN104109589B

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201310567460.8

申请日：2013-11-14

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 裵镇希 ,  李汉松 ,  任浣熙 ,  金古恩 ,  郭泽秀 ,  金补宣 ,  金相均 ,  罗隆熙 ,  朴银秀 ,  徐珍雨 ,  宋炫知 ,  赵娟振 ,  韩权愚 ,  黄丙奎

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/24 ,  C11D7/50 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供了用于绝缘膜的清洗液以及清洗绝缘膜的方法。公开了包含由以下化学式1表示的溶剂的用于绝缘层的清洗液、以及利用所述清洗液清洗绝缘层的方法。在化学式1中，R1和Ra至Re与在详细描述中所定义的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN104768912A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201380056460.X

申请日：2013-03-19

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 朴惟廷 ,  金惠廷 ,  朴曜徹 ,  尹龙云 ,  李圣宰 ,  李哲虎 ,  赵娟振

IPC: C07C49/792 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/027 ,  C07C49/788 ,  C07C49/792 ,  C07C49/796 ,  C07C49/798 ,  C07C49/83 ,  C07C49/835 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明是关于一种由化学式1表示的硬掩膜组成物用单体、一种含括所述单体的硬掩膜组成物，及一种使用所述硬掩膜组成物形成图案的方法。

公开(公告)号：CN104024940A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201280065648.6

申请日：2012-11-29

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金润俊 ,  田桓承 ,  赵娟振 ,  尹龙云 ,  李忠宪 ,  权孝英 ,  崔有廷

IPC: G03F7/11 ,  G03F1/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C39/21 ,  C07C39/225 ,  C08G65/38 ,  G03F1/00 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/31144

Abstract: 本发明涉及一种由式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。

公开(公告)号：CN103910610A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201310535509.1

申请日：2013-11-01

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李范珍 ,  金润俊 ,  赵娟振

IPC: C07C39/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/26 ,  C07C33/36 ,  G03F7/094 ,  C07C39/12 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明披露了一种硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法。具体地，本发明披露了由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及利用硬掩模组合物来形成图案的方法。在化学式1中，A1至A4、X1至X3、M和n与在具体实施方式中描述的相同，[化学式1]

公开(公告)号：CN101462956A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200810184083.9

申请日：2008-12-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 崔相俊 ,  赵娟振 ,  辛乘旭 ,  金惠元

IPC: C07C69/54 ,  C08F222/14 ,  C08F220/18 ,  G03F7/028

CPC classification number: C07C69/54 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/26 ,  C07C2603/50 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明涉及具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯、光敏聚合物、以及包括其的光刻胶组合物。所述(甲基)丙烯酸酯由右列式1表示，在式1中，每个取代基具有与说明书中相同的定义。具有对酸不稳定芳族基团的(甲基)丙烯酸酯在酸催化剂存在下易于分解，并且能够提供对于下层具有优异的粘合性能和在光刻印刷过程中的干法蚀刻抗性的光敏聚合物。