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公开(公告)号：CN110140198A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780082037.5
申请日：2017-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , B08B3/02
Abstract: 一种基板处理装置，包含：基板保持单元，用以将基板保持为水平姿势；处理液喷嘴，具有下部开口及内壁，且从所述下部开口吐出处理液，该下部开口与由所述基板保持单元保持的基板的上表面相向，该内壁划分出筒状空间，该筒状空间是上下方向的筒状空间且从所述下部开口相连至上方；液柱形成单元，将包含第一液柱部分及第二液柱部分的处理液的液柱形成于所述基板的上表面，该第一液柱部分用处理液来液密地充满于所述下部开口与所述基板的上表面之间，该第二液柱部分从所述第一液柱部分相连至上方，且由贮存于所述筒状空间的处理液构成；以及物理力赋予单元，对所述第二液柱部分赋予物理力。
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公开(公告)号：CN112631089B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202010877538.6
申请日：2020-08-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/687 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够有效率地进行利用了处理液的氧化力的基板处理的基板处理方法以及基板处理装置。在基板(SB)上形成含有硫酸、硫酸盐、过氧硫酸及过氧硫酸盐中的至少任一种的处理液或含有过氧化氢的处理液的液膜(LQ)。对液膜(LQ)照射等离子体(PL)。
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公开(公告)号：CN111602230B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN201880085719.6
申请日：2018-11-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供能够改善图案倒塌及颗粒问题的衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序：表面改性工序，针对在表面具有氧化物的衬底的表面，实施将该表面的粗糙加以改善的改性；表面清洗工序，向上述衬底的经改性的上述表面供给处理液，通过该处理液对衬底的表面进行清洗；和疏水化工序，向上述衬底的经清洗的上述表面供给疏水化剂，将上述衬底的表面疏水化。
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公开(公告)号：CN113314435B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202011373950.0
申请日：2020-11-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间对向配置，因此能够防止排气管妨碍配管通过的通路，所述配管是用来向保持在保持旋转部上的衬底供给药液。另外，以往是由2种处理单元构成，而本发明中通过1种处理单元即可解决。因此，能够使零件在所有处理单元中共通化。
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公开(公告)号：CN113314437B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202110220015.9
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113728416A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202080028876.0
申请日：2020-04-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 将含有水的漂洗液供给至衬底的上表面。将衬底的上表面上的漂洗液置换成第1液体。将衬底的上表面上的第1液体置换成第2液体。将衬底的上表面上的第2液体除去，由此使衬底干燥。第2液体在水中的溶解度小于第1液体在水中的溶解度。第2液体的表面张力低于第1液体的表面张力。第2液体的比重大于第1液体的比重。第2液体的沸点为室温以上，从第2液体的沸点减去室温而得的值为室温以下。
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公开(公告)号：CN113053728A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011545248.8
申请日：2020-12-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 基板处理方法及装置，方法包括：液膜形成工序，在基板的上表面形成处理液的液膜；液膜保温工序，将基板的整体加热至比处理液的沸点更低的温度以对液膜进行保温；气相层形成工序，一边执行液膜保温工序，一边从照射单元朝设定在基板的上表面中央部的照射区域照射光来对基板进行加热，由此使接触基板的上表面中央部的处理液蒸发，而在液膜的中央部形成保持处理液的气相层；开口形成工序，将由气相层保持的处理液排除以在液膜的中央部形成开口；基板旋转工序，使基板环绕旋转轴线进行旋转；及开口扩大工序，一边执行液膜保温工序及基板旋转工序，一边使照射区域朝基板的周缘部移动，由此一边维持在液膜的内周缘形成有气相层的状态，一边使开口扩大。
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公开(公告)号：CN107210213B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201680005004.6
申请日：2016-03-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 提供能够良好地除去附着在基板上表面的颗粒物等的基板处理方法以及执行该方法的基板处理装置。依次执行：水池形成工序S3，在基板W的上表面形成冲洗液的液膜F；接触工序S4，使具有形成有多个空隙部135的网构件134的构件13与液膜F接触；颗粒物捕捉工序S5，利用在冲洗液、环境气体A以及构件13的网构件134的内缘相交的三相界面产生的界面自由能，在该冲洗液的液膜F内产生对流，从而使网构件134的侧面134b捕捉颗粒物。
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公开(公告)号：CN107210213A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680005004.6
申请日：2016-03-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 提供能够良好地除去附着在基板上表面的颗粒物等的基板处理方法以及执行该方法的基板处理装置。依次执行：水池形成工序S3，在基板W的上表面形成冲洗液的液膜F；接触工序S4，使具有形成有多个空隙部135的网构件134的构件13与液膜F接触；颗粒物捕捉工序S5，利用在冲洗液、环境气体A以及构件13的网构件134的内缘相交的三相界面产生的界面自由能，在该冲洗液的液膜F内产生对流，从而使网构件134的侧面134b捕捉颗粒物。
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公开(公告)号：CN119852212A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510072038.8
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(5lAl)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(5lAl)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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